High Power DC Magnetron Sputtering Coater W Drehbühne & Wasserkühler - Vtc-16-Sm

• Kundenspezifische: Kundenspezifische
• Struktur: Desktop
• Material: Stahl
• Bescheinigung: CE, TUV
• Anwendung: Schule, Labor
• Art: Plasma
• Modell Nr.: VTC-16-SM
• Transportpaket: Ply Wooden Carton
• Warenzeichen: CYKY
• Herkunft: Zhengzhou, China
• HS-Code: 8486109000
• Produktionskapazität: 20 Sets/Month

Produktbeschreibung

    VTC-16-SM  Ist ein  High Power  Desktop  Magnetron  Plasma Sputtering Coater  Mit einem  Wasser cooling2" Zielkopf, Wasserkühler und drehbarem Probenhalter. Die Beschichtungseinheit  Ist für die Beschichtung aller metallischen Folien bis  Zu 4" Durchmesser Wafer  Einschließlich  Zn, Al, Ti und Carbon  -Lichtfilm zu einem erschwinglichen Preis konzipiert.   Ein  Al  -Ziel ist für den sofortigen Einsatz im Lieferumfang enthalten.
SPEZIFIKATIONEN

Eingangsspannung	220 VAC 50/60Hz
Ausgangsleistung	a, 1600 VDC b, 250 W Max. C, 150 mA d. Integrter Überstromschutz  (> 150 mA)
Probenkammer	Quarzglasrohr, 167 mm AD. X 152 mm ID x 260 mm Höhe
Sputterkopf  Und Probenphase	a, 2" flexibler Magnetron Sputterkopf mit Wasserkühlung Mantel ist Enthalten b. One 50 mm  Durchmesser  Edelstahl  Probenbühne ist drehbar Von 0 - 5 U/min c. Ein manuell betätigter Verschluss für den Zielschutz. d. Sputterkopfhalter ist für die Aufnahme des Sputterkopfes bei Nichtbetrieb verfügbar. c. Der Abstand zwischen Sputterkopf und Probenbühne ist von 60 - 100 mm einstellbar. d. Max Beschichtungsfläche:   4" Durchmesser max.   e. One  Air Cold Rezirculating Water Chiller 10 l/min der Durchfluss  Ist für die Kühlung des Sputterkopfes enthalten.
Systemsteuerung	1, 6-Zoll-Farb  -Touchscreen-Bedienfeld mit SPS-Integration für einfache Bedienung Betrieb 2. One Panel für alle Parameter überwachen und steuern: Vakuum, Strom.
Ultimativer Vakuumdruck	1. Built-in KF25 Vakuum-Port 2. The System erfordert einen Ar-Gastank mit Druckregler. (Nicht enthalten) 3. < 1, 0E-2 Torr-Vakuumpumpe  Mit Flügelrad (nicht im Lieferumfang enthalten)  Für Au-, AG-, PT-, Cu-, Mo-Ziele (nicht luftempfindlich) 4. < 1, 0E-5 Torr mit  Turbomolekularpumpe (nicht enthalten)  Für Al, mg, Li, LR, Ti, ZN-Ziele (luftempfindlich) 5. Das niedrigste Vakuum kann durch Pumpen < 4, 0e-6 Torr erreichen Über Nacht und Backen
Gasatmosphäre	Ein Nadelventil installiert, damit Ar-Gas einlass Erzielen Sie eine bessere Plasmabeschichtung Das System benötigt einen Ar-Gastank mit Druckregler (Nicht enthalten)
Ziel	Ein 2"  Kupfer  -Target    Ist für Tests enthalten,   Zielgröße:   2" Durchm. X 2, 5mm. Es kann auch beschichtet  AG, Al, Cr, Ni, PT, TI, Sn, Li, mg, etc. Fast jede Art von metallischem Material.         Warnung:   Aluminium, Chrom oder Nickel-Ziel    Kann mit dieser Maschine beschichtet werden, aber bitte sehen Sie die Empfohlene Beschichtungsmethode vor der Verwendung. Bitte verwenden Sie  RF Plasma Magnetron Sputtern für die Beschichtung von Aluminiumoxid
Optionaler Monitor Für Die Filmdicke	1. Film Dicke Monitor ist optional gegen Aufpreis 2. Heatable Probe Stufe bis 500 oC  Ist auf Anfrage erhältlich Gegen Aufpreis 3. Flowmeter für genaue Kontrolle Gaseinlass  Ist auf Anfrage gegen Aufpreis verfügbar.
Gesamtabmessungen	L440mm×W330 mm×H290mm
Nettogewicht	20 kg
Gewicht Und Abmessungen Des Versandorts	160 kg 45 x 45 x 40 cm
Compliance	CE-Zulassung
Garantie	Ein Jahr mit lebenslanger Unterstützung
Anwendungshinweise	Warnung: Sputterkopf wird an HOCHSPANNUNG angeschlossen. Der Bediener muss während des Betriebs Handschuhe tragen Stellen Sie sicher, dass das Ziel, der Sputterkopf, das Substrat und die Heizstufe vor dem Beschichten sauber sind. Verwenden Sie das Schleifpapier und Alkohol, um das Al- oder Nickel-Ziel bei jedem Gebrauch zu reinigen und zu frischen.