• Zwei Zonen CSS Ofen für schnelle thermische Verarbeitung bis zu 5" Dia Wafer bei Max. 800C
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Zwei Zonen CSS Ofen für schnelle thermische Verarbeitung bis zu 5" Dia Wafer bei Max. 800C

Kundenspezifische: Kundenspezifische
Struktur: Desktop
Material: Legierung
Bescheinigung: CE, TUV
Anwendung: Schule
Art: Heizung Typ

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Hersteller/Werk & Handelsunternehmen

Grundlegende Informationen.

Modell Nr.
CY-OTF-1200X-RTP-II-5
Vakuumflansch
Edelstahl
Temperaturregler
Digital
Betriebstemperatur
800C
Thermoelement
typ k
Garantie
Ein Jahr
Transportpaket
Wooden Box
Spezifikation
OD. 200mm
Warenzeichen
CY
Herkunft
Zhengzhou, China
HS-Code
85141090
Produktionskapazität
130 Sets/Month

Produktbeschreibung

Zwei Zonen CSS Ofen für schnelle thermische Verarbeitung bis zu 5" Durchm. Wafer bei Max, 800 Grad C - OTF-1200x-RTP-II-5
  Einführung
OTF-1200x-RTP-II ist ein Schnellwärmeverarbeitungsofen    Mit zwei Heizzonen und 11" Quarzrohr.  
Es ist für PVD- oder CSS-Folien (
Close Spaced Sublimation)  Mit einem Durchmesser von bis zu 3 Zoll oder einem Quadratzolldurchmesser von 2 Zoll (x2 Zoll) ausgelegt.   Der Ofen  Wird durch  Zwei Gruppen von Halogenheizungen  (Oben und Unten)  Getrennt mit max 20ºC/s Heizrate.   Zwei 30-Segment-Präzisions-Temperaturregler sind mit +/-1ºC Genauigkeit eingebaut. RS485 Port und Steuerungssoftware sind enthalten, um den Betrieb von Ofen und Temperaturprofil Protokollierung über PC zu ermöglichen.   Es ist ein hervorragendes Werkzeug, um Dünnschicht der neuen Generation für Solarzellen wie CdTe, Sufide und Perovskite  Solarzellen zu erforschen  
 
Spezifikation:
Ofenstruktur
  Vakuumkammer
 
 
Ofen, zwei Temperaturregler, zwei Kanal-Gasdurchflussmesser sind in einen mobilen Aluminiumrahmen integriert
Die Kammer besteht aus einem hochreinen Quarzrohr
Quarzrohr Größe: 11" OD / 10, 8" ID x 9" H
Die Vakuumflansche sind aus Edelstahl 316 gefertigt
Vakuumflansche Oberer Flansch mit einem KFD-25-Vakuumanschluss und einem Gas Auslass (1/4-Zoll-Rohr erforderlich) Kann manuell nach oben oder unten gleiten, um ein- und auszuladen Substrat und verdampftes Material leicht
Bodenflansch hat einen KFD-25-Vakuumanschluss mit einem Gas Einlass (1/4" Rohr erforderlich) mit Nadelventilen
Der Flansch ist mit doppelten Silikon-O-Ringen abgedichtet und kann mit einer mechanischen Qualitätspumpe einen maximalen Vakuumdruck von 10E-2 Torr und mit einer Molekularpumpe von 10E-5 Torr erreichen
Am oberen Flansch ist ein digitales Vakuummessgerät installiert.  
Digitales Präzisionsvakuummessgerät für Korrosionsschutz ist optional gegen Aufpreis erhältlich (Pic. L 2, S.
Gasflussmesser
 
 
Gasmischer mit zwei Schwimmern mit einstellbaren Messbereichen:
16 -160 ml/m
500 - 5000 ml/m (zum Spülen)
Heizung und
Probenhalter

 
 
Zwei unabhängig gesteuerte Heizungen mit manuell einstellbarem Abstand von 2 - 30 mm
20 Stück Halogenlampen werden als Heizelement für die schnelle thermische Verarbeitung verwendet.
Die Heizungen sind aus Edelstahl mit Kaltwassermantel, um die Wärmestrahlung zu reduzieren und eine schnelle Kühlung zu ermöglichen.
5" Durchmesser. Kreisförmige Wafer Halter ist in Top-Heizung für die Aufnahme Substrat eingebaut.
Ein Satz hochwärmeleitender AlN-Platten (5 Zoll Durchmesser x 0, 5mm mm dick) ist im Lieferumfang enthalten (auf der Rückseite des Substrats platzieren, um die Wärme gleichmäßig zu erzeugen).
Ein 16L/min-Rücklaufwasserkühler ist im Lieferumfang enthalten, um Wasser zu sparen Quelle
Temperaturregler Zwei digitale Präzisions-Temperaturregler mit 30 Segmenten programmierbar bieten Unabhängige Steuerung von Ober- und Unterheizungen
Jeder Regler verfügt über eine PID-Funktion zur automatischen Einstellung, um Heizungen zu schützen Von Überschießen und Alarmfunktion, um Überhitzung und thermische zu vermeiden Paar kaputt
PC-Kommunikationsschnittstelle und Software für installiert (Klicken Sie auf das Bild unten, um weitere Informationen zu erhalten. ) Temperaturprofil wird wie unten dargestellt aufgezeichnet
Betriebstemperatur Max. Temperatur für jeden Heizkörper: < = 800ºC
Max. Temperaturdifferenz zwischen zwei Heizungen: < = 300ºC abhängig vom Abstand zwischen zwei Heizungen:
Abstand 30mm            
Max. Temp. Differenz:   315ºC @ nur Heizboden
Heiz- Und Kühlrate Heizung: > 8ºC/s (Heizung nur Einzelheizung)
Kühlung: > 10ºC/s (600 - 100ºC) Max.
Thermoelement Zwei Thermoelemente vom Typ K sind oben und unten installiert Heizungen separat
Betriebsspannung 208 - 240VAC, einphasig, 20A-Luftschalter
Stromversorgung 2200W insgesamt (  1100W für jede Heizung )
Garantie Ein Jahr mit Lebenszeitunterstützung begrenzt
Abmessungen 1085mm L x 680mm B x 1710mm H
Two Zones Css Furnace for Rapid Thermal Processing Upto 5&quot; Dia Wafer at Max. 800cTwo Zones Css Furnace for Rapid Thermal Processing Upto 5&quot; Dia Wafer at Max. 800cTwo Zones Css Furnace for Rapid Thermal Processing Upto 5&quot; Dia Wafer at Max. 800cTwo Zones Css Furnace for Rapid Thermal Processing Upto 5&quot; Dia Wafer at Max. 800c
Werk

Zhengzhou CY Scientific Instrument Co., Ltd ist hauptsächlich in der Forschung und Entwicklung, Design, Herstellung und Vertrieb von Geräten in wissenschaftlichen Forschungen verwendet beschäftigt. Unabhängigkeit und Innovation ist das Grundanliegen des Unternehmens. Unsere Hauptprodukte sind:   Rohrofen, Muffelofen, Plasmareiniger, Vakuumofen, Atmosphärenofen, CVD-System und kundenspezifische Laborgeräte. Willkommen Sie kommen zu uns.  


Two Zones Css Furnace for Rapid Thermal Processing Upto 5&quot; Dia Wafer at Max. 800c
Ausstellung

Two Zones Css Furnace for Rapid Thermal Processing Upto 5&quot; Dia Wafer at Max. 800c

 

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