• Hcvac MF PVD Magnetron Sputtering Coating Machine, Mittelfrequenz Sputtering System
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Hcvac MF PVD Magnetron Sputtering Coating Machine, Mittelfrequenz Sputtering System

After-sales Service: Free Installing and Training, Technical Support
Warranty: One Year Limited Warranty
Art: PVD Vacuum Coating Machine
Überzug: Vacuum Coating
Substrat: Stahl
Bescheinigung: CE, ISO

Wenden Sie sich an den Lieferanten

Diamond-Mitglied Seit 2009

Lieferanten mit verifizierten Geschäftslizenzen

Hersteller/Werk

Grundlegende Informationen.

Modell Nr.
JTL-10910, JTL-1110, JTL-1212
Zustand
Neu
Geben Sie 1 ein
Magnetron Sputter Depositions-System
Beschichtungstechnologie
Magnetron Sputtering+ Arc-Ion-Beschichtung
Kammergröße
D1100mm*H1000mm, D1200mm*H1200mm
Beschichtungsfolie
Tin, Tic, ticn, tialn, crn, cu, au usw.
Lackfarbe
Silber, Gold, Schwarz, Roségold, Bronze
Beschichtungsmaterial
Edelstahl, Metalllegierung, Keramik
Anwendung
Schmuck, Uhr, Handyschale etc.
Steuerungsmodus
Automatisch und manuell integriert
Modell
Jtl-0910, Jtl-1110, Jtl-1312
Marke
Hcvac, dongguan, china
Transportpaket
Wooden Package
Spezifikation
customized
Warenzeichen
HCVAC
Herkunft
China
HS-Code
8543300090

Produktbeschreibung

MF PVD Magnetron Sputtering Coating Machine, Mittelfrequenz Sputtering System


Magnetron-Sputtern

Was ist Magnetron Sputtering-Technologie?
Magnetron Sputtern ist eine weitere Form der PVD-Beschichtungstechnologie.

Plasmabeschichtung
Magnetron Sputtern ist ein Plasmabeschichtungsprozess, bei dem Sputtermaterial durch Bombardierung von Ionen auf die Zieloberfläche ausgeworfen wird. Die Vakuumkammer der PVD-Beschichtungsmaschine ist mit einem Inertgas, wie Argon, gefüllt. Durch das Anlegen einer Hochspannung wird eine Glühen-Entladung erzeugt, die zu einer Beschleunigung der Ionen auf die Zieloberfläche und einer Plasmabeschichtung führt. Die Argon-Ionen werfen Sputtermaterialien von der Zieloberfläche aus (Sputtering), was zu einer gesputterten Beschichtungsschicht auf den Produkten vor dem Ziel führt.

Reaktives Sputtern
Oft wird ein zusätzliches Gas wie Stickstoff oder Acetylen verwendet, das mit dem ausgestoßenen Material reagiert (reaktives Sputtern). Mit dieser PVD-Beschichtungstechnik ist eine Vielzahl von gesputterten Beschichtungen möglich. Magnetron Sputtertechnologie ist sehr vorteilhaft für die dekretive Beschichtung (z. G. Ti, Cr, Zr und Carbon Nitrides), wegen seiner glatten Natur. Der gleiche Vorteil macht Magnetron Sputtering weit verbreitet für tribologische Beschichtung in Automobilmärkten verwendet (z. G. CRN, Cr2N und verschiedene Kombinationen mit DLC-Beschichtung - Diamond Like Carbon Coating).

Hcvac Mf PVD Magnetron Sputtering Coating Machine, Medium Frequency Sputtering System

Magnetfelder
Magnetron Sputtern unterscheidet sich etwas von der allgemeinen Sputtertechnologie. Der Unterschied ist, dass die Magnetron-Sputtertechnologie Magnetfelder nutzt, um das Plasma vor dem Ziel zu halten und so die Bombardierung von Ionen zu verstärken. Ein hochdichtes Plasma ist das Ergebnis dieser PVD-Beschichtungstechnologie.

Die Magnetron Sputtertechnologie zeichnet sich durch:
Ein wassergekühltes Ziel, so dass nur wenig Strahlungswärme erzeugt wird
Nahezu jedes metallische Zielmaterial kann ohne Zersetzung gesputtert werden
Nicht leitfähige Materialien können durch Verwendung von Hochfrequenz (RF) gesputtert werden
Oder Mittelfrequenz (MF)
Oxidschichten können gesputtert werden (reaktives Sputtern)
Hervorragende Ebenengleichmäßigkeit
Sehr glatte, gesputterte Beschichtungen (keine Tröpfchen)
Kathoden (bis zu 2 Meter lang) können in jeder Position, also hoch, aufgestellt werden
Flexibilität bei der Auslegung von Sputteranlagen

Huicheng produziert und liefert alle Arten von PVD-Vakuumbeschichtungsmaschinen. Jetzt ist es Marktführer im Bereich der Hochvakuumbehandlung mit Kunden aus der ganzen Welt. Huicheng produziert eine komplette Palette von Maschinen, die verschiedene Arten von Prozessen: Hochvakuumverdampfung, Multi-Arc, DC Sputtering, MF Magnetron Sputtering, kontinuierliche Magnetron Sputterlinie usw.

Hcvac Mf PVD Magnetron Sputtering Coating Machine, Medium Frequency Sputtering System

Hcvac Mf PVD Magnetron Sputtering Coating Machine, Medium Frequency Sputtering System
Hcvac Mf PVD Magnetron Sputtering Coating Machine, Medium Frequency Sputtering System


Angewandte Branchen:

Oberflächenvakuumbeschichtung für Uhren & Uhren, Schmuck, Werkzeuge, Kunststoff, Edelstahl-Blech etc.


Hcvac Mf PVD Magnetron Sputtering Coating Machine, Medium Frequency Sputtering System
Hcvac Mf PVD Magnetron Sputtering Coating Machine, Medium Frequency Sputtering System
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HCVAC kann Ihnen helfen, die PVD-Beschichtung einfach durch unsere Vakuumbeschichtungsmaschine und Full-Range-Service zu betreten. Wir stellen Ihnen die für Sie am besten geeignete Technik zur Verfügung.

Wir werden die spezielle Beschichtungslösung für jeden Kunden machen; kombinieren Sie die komplette Produktionstechnik, um Ihre Anforderungen zu erfüllen, um eine hohe Effizienz der Produktion zu gewährleisten.

Hcvac Mf PVD Magnetron Sputtering Coating Machine, Medium Frequency Sputtering System


Kontakt: Lillian Yang

 


Bitte senden Sie uns Ihre detaillierten Anforderungen. Wir bieten die beste Lösung für Sie!



Technische Parameter:
Modus
Abmessungen
JTL-900 JTL-1100 JTL-1300 JTL-1600
Φ9001000mm Φ11001000mm Φ13001200 mm Φ16001200 mm
 
Beschichtungsmodus und Hauptbestätigung
3 Lichtbogen + 2 Paar flache rechteckige Kathode 6 Lichtbogen+2 Paar zylindrische Kathode+A Paar Ebene rechteckig Kathode 5 Lichtbogen+4 Paar  zylindrische Kathode+A Paar Ebene rechteckig Kathode 6 Lichtbogen+8 Paar zylindrische Kathode+A Paar Ebene rechteckig Kathode
Anwendung Dekorative Metallbeschichtung
Filmtypen    Metallfolien, dielektrische Filme, Verbundfolien, Reaktionsfilme, Muti-Schicht Funktionsfilme
Stromversorgung Elektrische Lichtbogen Stromversorgung, DC Magnetron Stromversorgung, MF Magnetron Stromversorgung. Pulse Bias Spannung Stromversorgung. Ionenquelle Stromversorgung.
Prozessgassteuerung Qualitäts-Durchflussmesser + Elektromagnetismus Keramik Ventil
Vakuumkammer-Struktur Vertikale (seitliche) Tür, Postposition des Pumpensystems, doppelte Wasserkühlung
Vakuumsystem Molekülpumpe (Diffusionspumpe)+Roots-Pumpe +Mechanische Pumpe  (8,0*10 -4 Pa)
Pumpgeschwindigkeit Pumpzeit weniger als 15 Minuten, von atmosphärischem Druck zu 310 -3 Pa
Temperatur Werkstückauflauf  
Normale Temperatur bis 350 Grad PID-Regelung, Strahlungsheizung.
Bewegungsmodus Werkstück Öffentliche Rotation Frequenzregelung: 0-20 Umdrehungen pro Minute
Messmodus Zahlenanzeige Composite-Vakuummeter: Von Atmosphäre bis 1,0*10 -5 Pa
Steuerungsmodus Vollautomatische Steuerung PC+PLC/PC+HMI
Anmerkung Wir können die Dimension der Ausrüstung nach Kunden spezielle Technik Anforderung zu entwerfen.


Warum ein HCVAC-System?
 
Weltweit sind über 1000 Anlagen installiert
Kurze Zykluszeiten
Hohe Produktionskapazität bei geringem Energieverbrauch
Mehr Zeit für die Einrichtung durch einfaches Be-/Entladen und geringe Wartung
Hohe Produktivität mit nur einem Bediener
Stahlprozeskammern, für die Lebensdauer gebaut
Umweltfreundlich
Platzsparendes Design
PVD-Option für alle Werke verfügbar
1 Jahre Garantie auf Komponenten und 12 Jahre Garantie auf die Mindestfunktionstüdauer Leben
Komplettes globales Netzwerk aus Beratung, Engineering und renommiertem After-Sales-Service

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Hersteller/Werk
Anzahl der Angestellten
367
Gründungsjahr
2006-08-14