Fortgeschrittenes Konstantdruckregelungssystem für optimale Leistung

• Anpassung: Verfügbar
• Kundendienst: Online-Service
• Garantie: Online-Service
• Modell Nr.: Made-to-order
• Art: Edelstahl-Heizung
• Zertifizierung: CE
• Struktur: Horizontal Typ
• Marke: rj
• Stromversorgung: Einphasig 220V/50Hz
• Stromverbrauch: 1kW
• Vakuumpumpe: drv16c VFD-Pumpe (kf25 Flansch)
• Hohe Präzision: 200-700PA
• Transportpaket: Holzgehäuse
• Spezifikation: Angepasst
• Warenzeichen: rj
• Herkunft: Zhengzhou, China

Produktbeschreibung

Konstantdruckregelsystem (Modell RJ-HY-DRV16)
1. Systemübersicht
Ein fortschrittliches Druckregelungssystem mit VFD-Technologie (Variable Frequency Drive) für präzise Vakuumkontrolle bei Dünnschichtabscheidung und Materialverarbeitung. Entwickelt für die Integration mit Rohröfen, CVD/PECVD-Systemen und Analysegeräten.
2. Hauptmerkmale
2,1 Präzisionsdruckregelung

• Regelung mit zwei Bereichen:
  • Feinsteuerung: 200-700Pa (±1Pa) über digitales Vakuummeter
  • Breite Steuerung: 10-50kPa (±1%) über Drucksensor
• Adaptive Anpassung der Pumpgeschwindigkeit in Echtzeit

2,2 Intelligente Überwachung

• IoT-fähige (WiFi/RJ45) Fernbedienung
• 30-Tage-Datenprotokollierkapazität (8hrs/Tag)
• TCP/IP-Protokoll für SCADA-Integration
• Visuelle Anzeige der Drucktrends

3. Technische Spezifikationen

Parameter	Spezifikation
Stromversorgung	Einphasig 220V/50Hz
Stromverbrauch	1KW
Vakuumpumpe	DRV16C VFD-Pumpe (KF25 Flansch)
	- enthält Ölnebelfilter
Druckbereiche
Hohe Präzision	200-700Pa
Standardbereich	10-50kPa
Messgeräte
Digitales Vakuummessgerät	PG800K (1-10.000Pa)
Drucksensor	0-100kPa Bereich
Abmessungen	650×420×450mm
Gewicht	40kg

4. Leistungseigenschaften
4,1 Steuerungsparameter

Metrisch	Wert
Durchflussbereich	200-1000ml/min (fein)
	6-17L/min (Standard)
Reaktionszeit	<500ms für 10 % Druckschwankungen
Stabilität	±0,5 % des Sollwerts

4,2 Systemintegration

• Kompatibel mit:
  • Thermische CVD-Systeme
  • Plasmaverstärkte Abscheidung
  • Sputtersysteme
  • Gasmischstationen
• Flanschanschluss Standard KF25

5. Betriebliche Vorteile

1. Prozessoptimierung
   • Hält einen stabilen Druck bei Änderungen des Gasflusses aufrecht
   • Ermöglicht wiederholbare Abscheidungsbedingungen
   • Reduziert Filmdefekte durch Druckschwankungen
2. Vorteile Für Den Benutzer
   • Touchscreen-Schnittstelle mit Rezeptaufbewahrung
   • Automatische Drehzahleinstellung der Pumpe
   • Fernüberwachung über Mobil/Desktop
3. Sicherheitsfunktionen
   • Überdruckschutz
   • Überlastschutz der Pumpe
   • Notentlüftung

6. Wartung Und Support

• 12 Monate Garantie (ohne Verbrauchsmaterialien)
• Technische Unterstützung über die gesamte Lebensdauer
• Empfohlenes Serviceintervall: 2000 Betriebsstunden

7. Typische Anwendungen

• Dünnschichtabscheidung für Halbleiter
• Optische Beschichtungsprozesse
• Vakuumglühsysteme
• Oberflächenmodifikation
• Materialsynthese auf Forschungsebene

Dieses System stellt eine bedeutende Weiterentwicklung der Prozessleittechnik dar und bietet Präzision in Laborqualität mit industrieller Zuverlässigkeit. Die VFD-Pumpenarchitektur reduziert den Energieverbrauch um bis zu 40 % im Vergleich zu herkömmlichen Vakuumsystemen und bietet gleichzeitig eine hervorragende Druckstabilität.
Für eine optimale Leistung empfehlen wir die Kopplung mit unseren Röhrenöfen und Gasversorgungssystemen der RJ-Serie für eine vollständige Prozessintegration.