Kundendienst: | Online-Service |
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Garantie: | Ein Jahr |
Art: | Magnetron-Sputtern |
Lieferanten mit verifizierten Geschäftslizenzen
Von einer unabhängigen externen Prüfstelle geprüft
Hochvakuum-Magnetron-Quelle Magnetron Sputter Coater mit Bias Reinigung
MAGNETRON SPUTTERING: ÜBERSICHT
Sputtern ist ein Plasma-basierter Abscheidungsprozess, bei dem energetische Ionen auf ein Ziel hin beschleunigt werden. Die Ionen treffen auf das Ziel und Atome werden von der Oberfläche ausgestoßen (oder gesputscht). Diese Atome bewegen sich in Richtung Substrat und integrieren sich in den wachsenden Film.
Magnetron Sputter & thermische Verdampfung zwei-in-einem -Beschichtungsmaschine kann für die Beschichtung von elektronischen Produkten, Glas, keramischen Proben, Metall und anderen Proben verwendet werden, besonders geeignet für die Probenvorbereitung von Labor-SEM (Rasterelektronenmikroskop).
Die Ausrüstung besteht hauptsächlich aus Edelstahl-Vakuumkammer, Magnetron Sputterziel, Verdampfungsquelle, Rotations-Heizung Probentisch, Vakuumpumpe Einheit, Vakuum-Messgerät, Luftansaugsystem und Steuersystem.
Spezifikationen der Dual Target Magnetron Sputteranlage:
Produktname | Magnetron Sputtering Coater | |
Modell | TN-MSZ-DCRF-SS | |
Probenbühne | Größe | Φ100mm |
Heiztemperatur | <500ºC | |
Drehgeschwindigkeit | 0~20rpm, einstellbar | |
Sputterpistole | 2 Zoll*1, 50,8mm, Stärke<3mm | |
Vakuumkammer | Größe | φ194*230mm |
Beobachtungsfenster | Quarz | |
Kammermaterial | SUS304 | |
Öffnen | Oben geöffnet | |
Vakuumsystem | Reservepumpe | Drehschieber-Vakuumpumpe, 1,1L/s. |
Sekundärpumpe | Molekularpumpe, 60L/s | |
Vakuummessung | Komposit-Vakuummessgerät, Bereich: 10-5~105Pa | |
Saug-Anschluss | KF16, KF40 | |
Auslassöffnung | KF16 | |
Vakuumgrad | 1,0×10-4PA | |
Spannung | AC 220V 50/60Hz | |
Sputterleistung | Menge | DC-Netzteil*1, HF-Netzteil*1 |
Ausgangsleistung | DC-500W, RF-300W | |
Andere | Spannung | AC220V,50Hz |
Gesamtleistung | 3kW | |
Gesamtgröße | 550*500*700mm |
1. WIR haben Magnetron Sputtermaschine mit 1 Ziel, 2 Ziele, 3 Ziele, 4 tagrst, etc. Ziel kann an der Ober- oder Unterseite der Kammer entworfen werden.
2. 0-1000W DC-Leistung oder HF-Leistung Ziel ist verfügbar. Bias-Funktion ist optional.
3. Zielgröße: 1-Zoll, 2-Zoll, 3-Zoll, 4-Zoll, etc.
4. Starkes magnetisches Ziel und pernanent magenetisches Ziel ist optional.
5. Magnetron Sputtermaschine mit Verdunstung, E-Strahl ist verfügbar.
6. Kundenspezifischer Service ist immer verfügbar!
WIR können die Magnetron Sputteranlage zu Land, auf dem Seeweg, auf dem Luftweg, per Express versenden, auch Paket und Versand nach Ihren Anforderungen arrangieren.
F. sind Sie Hersteller oder Handelsunternehmen?
A. Wir sind professioneller Hersteller von Laborgeräten, Wir haben professionelle R & D-Team und Werkstatt, die die Qualität und After-Sales-Service versprechen kann.
F. wie ist Ihre Garantie?
A. Unsere Garantie beträgt 12 Monate und bietet lebenslange Wartung. Wir bieten 24 Stunden Online-Service.
F. wie lange ist Ihre Lieferzeit? Wie lange dauert es, wenn ich das Instrument anpassen möchte?
A. 5-10 Tage im Laden. Maßgeschneiderte Produkte----Es dauert in der Regel 30-60 Tage, je nach Ihren Anforderungen.
F. Stromversorgung und Stecker?
A. Wir können Produkte liefern, die auf Ihre lokale Spannung und Stecker Standard akrodieren.
F. wie zahlen?
A. T T, L / C, D / P USW.
F. wie ist das Paket von Waren? Liefermethoden?
A. Standard Export Begasung Zeichen Holzbox Verpackung oder als Ihre Anforderungen.
IST MAGNETRON SPUTTERN DER RICHTIGE PROZESS FÜR IHRE ARBEIT?
Bitte nehmen Sie Kontakt auf und wir können an Ihrem Projekt mitarbeiten.
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