Hochvakuum-Dreifachziel-DC-Magnetron-Sputterbeschichter mit Bias-Reinigungsfunktion

Produktdetails
Kundendienst: Online-Service
Garantie: Ein Jahr
Art: Magnetron-Sputtern
Gold Mitglied Seit 2023

Lieferanten mit verifizierten Geschäftslizenzen

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Überblick

Grundlegende Informationen.

Modell Nr.
TN-MSH300-III-DCDCRF-SS
Überzug
Vakuum-Beschichtung
Substrat
Stahl
Bescheinigung
CE
Zustand
Neu
Produktname
Magnetron Sputtermaschine
Beschichtungsmethode
Magnetron-Sputtern
gleichstromversorgung
500W*2
hf-Leistung
500W*1
Kammergröße
300*300mm
Substratgröße
140mm
Substratheizung
Max 500C
Zielgröße
2 Zoll*3
Stromversorgung
ac 220V
Drehschieberpumpe
1,1l/s
turbo-Molekularpumpe
600L/s
Kammermaterial
SS304
Transportpaket
Begasierte Holzkiste
Spezifikation
1300*1250*1850mm
Warenzeichen
tn
Herkunft
China
HS-Code
8479899990
Produktionskapazität
20 Sätze pro Monat

Produktbeschreibung

Hochvakuum-Dreifach-Ziel-DC-Magnetron-Sputteranlage mit Bias Reinigungsfunktion

Produktbeschreibung

MAGNETRON SPUTTERING: ÜBERSICHT

Sputtern ist ein Plasma-basierter Abscheidungsprozess, bei dem energetische Ionen auf ein Ziel hin beschleunigt werden. Die Ionen treffen auf das Ziel und Atome werden von der Oberfläche ausgestoßen (oder gesputscht). Diese Atome bewegen sich in Richtung Substrat und integrieren sich in den wachsenden Film.

Eigenschaften des Magnetron Sputterbeschichtungsmaschinen :

1. Triple Target Magnetron Sputtering Coater ist eine kostengünstige Magnetron Sputtering Beschichtungsanlage. Es ist standardisiert, modular und anpassbar.

2. Es gibt 1-Zoll, 2-Zoll und 3-Zoll-Magnetron-Ziele. Sie können das Ziel entsprechend der Größe des zu beschichtenden Substrats auswählen.

3. Der Magnetron Sputterbeschichter ist mit 500W DC und 500W RF Leistung ausgestattet. Die Gleichstromversorgung wird für die leitungstriven Materialien und die HF-Leistung für die isolierenden Materialien verwendet.  Leistung von 300W bis 1000W Zoll nach Ihren Anforderungen.

4. Der Magnetron Sputterbeschichter ist mit einem zweikanaligen hochpräzisen Massendurchflussmesser ausgestattet. 4-Kanal-Massendurchflussmesser IS
   Verfügbar

5. Der Magnetron Sputterbeschichter ist mit einer Turbo-molekularen Pumpe ausgestattet, und das ultimative Vakuum beträgt bis zu 10E-5Pa, andere Arten von molekularen Pumpen sind zum Kauf erhältlich.

6. Molekulare Pumpe Gasweg wird durch mehrere Magnetventile gesteuert, können Sie die Kammer öffnen, um die Probe ohne zu nehmen
   Pumpe wird abgeschaltet.

7. Dieses Produkt kann mit einem integrierten Industriecomputer ausgestattet werden, um das System zu steuern.
High Vacuum Triple Target DC Magnetron Sputtering Coater with Bias Cleaning Function

Produktparameter

Spezifikationen der Magnetron Sputteranlage:

Probenbühne Größe Dia,150mm
Heiztemperatur 0-900C optional
Temperaturgenauigkeit ±1ºC
Drehzahl 1-20rpm einstellbar
Magnetronenquelle Menge 2 Zoll×3 (1 Zoll, 2 Zoll, 4 Zoll optional)
Kühlmodus Wasserkühlung
Wasserkühler Umwälzwasserkühler mit einer Durchflussrate von 10L/min
Vakuumkammer Kammergröße Dia,500mm×500mm
Kammermaterial Edelstahl
Fenster „Watch“ Dia,100mm
Öffnungsmodus Öffnen der vorderen Klappe
 Massendurchflussmesser    2 Kanäle; Messbereich 100SCCM; 100SCCM (kundenspezifisch anpassbar)
Vakuumsystem Modell TN-GZK103-A
Molekularpumpe 1200L/s
Vorpumpe 4,4L/s
Ultimatives Vakuum 1,0E-5Pa
Pumpschnittstelle CF160
Abgasschnittstelle KF40
Vakuummessung Compound-Vakuummesser
Stromversorgung AC220V, 50/60Hz
Förderleistung Molekularpumpe: 600L/S Drehschieberpumpe: 4,4L/S.   
Stromversorgung Menge Gleichstromversorgung*3
Max. Ausgangsleistung DC 1000W
Andere Parameter Versorgungsspannung AC220V,50Hz
Gesamtleistung 6KW
Gesamtgröße 1250*1000*2000mm
Gesamtgewicht Etwa 400kg
Detaillierte Fotos

1. WIR haben Magnetron Sputtermaschine mit 1 Ziel, 2 Ziele, 3 Ziele, 4 tagrst, etc. Ziel kann an der Ober- oder Unterseite der Kammer entworfen werden.
2. 0-1000W DC-Leistung oder HF-Leistung Ziel ist verfügbar. Bias-Funktion ist optional.
3. Zielgröße: 1-Zoll, 2-Zoll, 3-Zoll, 4-Zoll, etc.
4. Starkes magnetisches Ziel und pernanent magenetisches Ziel ist optional.
5. Magnetron Sputtermaschine mit Verdunstung, E-Strahl ist verfügbar.
6. Kundenspezifischer Service ist immer verfügbar!

High Vacuum Triple Target DC Magnetron Sputtering Coater with Bias Cleaning FunctionHigh Vacuum Triple Target DC Magnetron Sputtering Coater with Bias Cleaning FunctionHigh Vacuum Triple Target DC Magnetron Sputtering Coater with Bias Cleaning Function
High Vacuum Triple Target DC Magnetron Sputtering Coater with Bias Cleaning Function

Unternehmensprofil

High Vacuum Triple Target DC Magnetron Sputtering Coater with Bias Cleaning Function

Verpackung Und Versand

WIR können die Magnetron Sputter Coater zu Land, auf dem Seeweg, auf dem Luftweg, per Express versenden, auch Paket und Versand nach Ihren Anforderungen arrangieren.
High Vacuum Triple Target DC Magnetron Sputtering Coater with Bias Cleaning Function

FAQ

F. sind Sie Hersteller oder Handelsunternehmen?
A. Wir sind professioneller Hersteller von Laborgeräten, Wir haben professionelle R & D-Team und Werkstatt, die die Qualität und After-Sales-Service versprechen kann.  

F. wie ist Ihre Garantie?
A.  Unsere Garantie beträgt 12 Monate und bietet lebenslange Wartung. Wir bieten 24 Stunden Online-Service.

F. wie lange ist Ihre Lieferzeit? Wie lange dauert es, wenn ich das Instrument anpassen möchte?
A. 5-10 Tage im Laden. Maßgeschneiderte Produkte----Es dauert in der Regel 30-60 Tage, je nach Ihren Anforderungen.

F. Stromversorgung und Stecker?
A. Wir können Produkte liefern, die auf Ihre lokale Spannung und Stecker Standard akrodieren.

F. wie zahlen?
A.  T T, L / C, D / P USW.

F. wie ist das Paket von Waren? Liefermethoden?
A.  Standard Export Begasung Zeichen Holzbox Verpackung oder als Ihre Anforderungen.
 

Kontaktieren Sie Uns

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