| Kundendienst: | 12 Monate |
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| Garantie: | 12 Monate |
| Anwendung: | Schule, Labor |
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Geprüfter Lieferant Von einer unabhängigen externen Prüfstelle geprüft
Das Plasma-verbesserte CVD-System besteht aus einem Plasmagenerator, einem drei-Zonen-Rohrofen, einem Einfachheizbereich-Rohrofen, einer HF-Stromversorgung und einem Vakuumsystem.
Damit die chemische Reaktion bei einer niedrigeren Temperatur stattfindet, wird die Aktivität des Plasmas verwendet, um die Reaktion zu fördern, und so wird die CVD als plasmaverstärkte chemische Gasphasenabscheidung (PECVD) bezeichnet. Das PECVD-Gerät zur Herstellung von Graphenfolien ionisiert ein Gas, das ein Filmbestandteil-Atom enthält, mittels einer HF-Leistung von 13,56 MHz, bildet ein Plasma in einer Vakuumkammer, nutzt starke chemische Aktivität des Plasmas, verbessert die Reaktionsbedingungen und nutzt Plasmaaktivität, um die Reaktion zu fördern, Anschließend legt man einen gewünschten Film auf das Substrat.
Anwendungen:
Dieses Gerät kann an verschiedenen Prüfplätzen wie der Graphen-Vorbereitung, Sulfid-Vorbereitung und Nanometer-Materialaufbereitung eingesetzt werden. Verschiedene Filme wie SiOx, SiNx, amorphes Silizium, mikrokristallines Silizium, Nano-Silizium, Sic, diamantähnliche, etc. Können auf der Oberfläche eines Blechs oder ähnlich geformter Probe abgelagert werden, und p-Typ und n-Typ dotierte Filme können auch abgelagert werden. Die abgeschiedene Folie hat eine gute Gleichmäßigkeit, Kompaktheit, Haftung und Isolierung. Es ist weit verbreitet in den Bereichen Schneider, hochpräzise Formen, harte Beschichtungen, High-End-Dekoration, etc.. Verwendet
| Vakuumrohrofen | Modell | TN-PECVD50-1200-Q | |
| Rohrmaterial | Hochreiner Quarz | ||
| Rohrdurchmesser | 50mm | ||
| Rohrlänge | 1000mm | ||
| Länge der Ofenkammer | 660mm | ||
| Länge der Heizzone | 200mm+200mm+200mm | ||
| Betriebstemperatur | 0~1100ºC | ||
| Genauigkeit der Temperaturregelung | ±1ºC | ||
| Temperaturregelmodus | Temperaturregelung für 30 oder 50 Segmente | ||
| Anzeigemodus | LED (digitale Röhrenanzeige hervorheben) | ||
| Abdichtmethode | Vakuumflansch aus Edelstahl 304 | ||
| Flanschschnittstelle | 1/4-Zoll-Schneidemuffe (Ø8 Pagodengelenk) | ||
| Vakuum | 4,4×10E-3Pa | ||
| Stromversorgung | AC:220V 50/60Hz | ||
| Gasversorgungssystem | Modell | TN-3F | |
| Gaskanal | 3-Kanal | ||
| Messeinheit | Gasfloat-Durchflussmesser | ||
| Messbereich | Ein Kanal: 0~100ml H2 Gas | Der Durchflussmesser des entsprechenden Gastyps und -Bereichs Kann nach Kundenwunsch ausgewählt werden | |
| B -Kanal: 16~160ml N2 Gas | |||
| C -Kanal: 25~250ml Ar Gas | |||
| Messgenauigkeit | ±2,0 % | ||
| Rohrdruckfestigkeit | 3MPa | ||
| Unterschied Arbeitsdruck | 50~500KPa | ||
| Verbindungsrohr | Edelstahl 304 | ||
| Gaskanal | Nadelventil aus Edelstahl 304 | ||
| Schnittstellenspezifikation | 1/4"-Schneidehülse für Gaseinlass und -Auslass | ||
| Auspuffanlage | Mechanische Pumpe | GHD-031B | |
| Förderleistung | 4L/S | ||
| Abgasschnittstelle | KF16 | ||
| Vakuummessung | Pirani-Spurweite | ||
| Ultimatives Vakuum | 1×10E-1Pa | ||
| Stromversorgung | AC:220V 50/60Hz | ||
| Pumpschnittstelle | KF40 | ||
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