Industrielle Magnetron-Beschichtungsanlagen für Metallbeschichtungsanwendungen

• Anpassung: Verfügbar
• Garantie: Ein Jahr
• Überzug: Vakuum-Beschichtung
• Substrat: Stahl
• Bescheinigung: CE, ISO
• Zustand: Neu
• Transportpaket: Holzgehäuse
• Spezifikation: Angepasst
• Warenzeichen: acme
• Herkunft: China
• Produktionskapazität: 5000

Produktbeschreibung

Produktbeschreibung

Dieses Beschichtungssystem ist eine kreisförmige Vakuumkammer-Struktur, mit Auspuff an der Rückseite und einer Vordertürstruktur, und ist aus hochwertigem austenitischen Edelstahl gefertigt. Auf der oberen Platte der Sputterkammer sind ein (zwei) 2-Zoll (oder 3-Zoll) Magnetron-Sputterziele installiert. Die Richtung des ausgehenden Strahls ist in Richtung des Substratracks, und auf dem Substrat wird ein dünner Film erhalten. Die Anlage hat eine einfache Struktur und kann zur Erforschung und Entwicklung von nanoskaligen ein- und mehrschichtigen Funktionsfilmen wie Hartfolien, Metallfolien, Halbleiterfolien, dielektrischen Folien, Verbundfolien, Ferromagnetische Filme, magnetische Filme und andere neue Dünnschichtmaterialien. .

Hauptparameter des Systems

l Letzter Vakuumgrad: ≤6×10-5Pa (innerhalb von 12 Stunden unter Reinigungs- + Backungs- und Entgasungsbedingungen erhalten);

l Saugzeit: Innerhalb von 30 Minuten, ≤6×10-4PA;

l Temperatur der Substratheizung: ≤600ºC;

l Substratgröße: ≤Φ3inch Wafer;

l Anzahl der Substrat Racks: 1 Set;

l Zielgröße: 50mm Durchmesser (optional 3inch);

l Anzahl der Ziele: 1 oder 2;

l Größe der Vakuumkammer: DN250*340 (kann entsprechend den tatsächlichen Bedingungen eingestellt werden);

l Bedruckstoffträger-Bewegungsabstand: ≤50mm (axiale Richtung);

l Winkel zwischen Zielachse und Substratdrehachse: Co-Sputtern;

l Gassystem: 2-Wege Lufteinlass, von denen 1 für die Abluft verwendet wird;
 

Element		Spezifikationen und Beschreibung
Vakuumkammer	Sputterkammer	DN220*320, die Größe kann entsprechend den Designanforderungen angepasst werden, die obere Abdeckung kann geöffnet werden und die Tür kann geöffnet werden
	Drosselklappe für Ultrahochvakuum	DN100, elektrische Steuerung, optionale automatische Konstantdruckfunktion
	Molekularpumpe	Molekularpumpe 110L/S oder 150L/S.
	Mechanische Pumpe	DVR16 Drehschieberpumpe, dient auch als Vorpumpe und Vorstufenpumpe
	Schwallventil	DN25 elektromagnetisches Prallventil, Vorpumpenleitung ein-aus
	Absperrventil	6mm elektrisches Absperrventil mit doppelter Aderendhülse
	Beleuchtung und Backgerät	Optional
	Verschiedene Arten von Flanschen und Beobachtungsfenstern	DN16, 35, 63, 100, 150
	Edelstahlrohre, Rohrverbindungen	Verschiedene Spezifikationen von Präzisions-Edelstahlrohre, Balgen, Rohrverbindungen
Vakuummessung und Lufteinlass	Digitales Composite-Vakuummessgerät	5227 Composite-Vakuummeter oder importiertes Full-Range-Messgerät optional
	Blanke Metalllehre	ZJ52T, ZJ27 Metallschnittstelle
	Massenflussregler	D07-7B Massendurchflussregler, Bereich 100sccm
	Rohre und Steckverbinder	Mischgaskammer
	Absperrventil	6mm elektrisches Absperrventil mit doppelter Aderendhülse
	Einlass- und andere Steuerschnittstellen	Druckregelventil elektrische Steuerung, Rückmeldung vorhanden
Probenrack	Rotierendes Substrat-Rack	Substratrotation, Substratrack anheben
	Hebegerät	Manuelle Einstellung für das Anheben
	Sputtersubstrat Heizgerät	≤600ºC Heizgerät optional
	Stromversorgung für Temperaturregelung	Japan Shimaden Temperaturregelung, PID Temperaturregelung
Sputtersystem	Magnetische Kontrolle Sputterziel	Integriertes Sputterziel, optional 2 Zoll oder 3 Zoll, mit Prallwand
	Sputterspeisung	500W wahlweise DC oder RF
	Geräteregal	Integriertes Layout
	Wasser- und Gassystem	Einschließlich Kühlwassermaschine
	Steuerungssystem	Standard manuell, optionale automatische Touchscreen-Steuerung

Hauptparameter des Systems:
l Letzter Vakuumgrad: ≤5×10-5Pa (innerhalb von 12 Stunden unter Reinigungs- + Backungs- und Entgasungsbedingungen erhalten);

l Saugzeit: Innerhalb von 40 Minuten, ≤5×10-4PA;

l Substrat Heiztemperatur: ≤600ºC (Jod Wolfram Lampe Heizung);

l Substratgröße: ≤Φ3inch runder Wafer;

l Zielgröße: 2 Zoll oder 3 Zoll;

l Anzahl der Ziele: 3;

l Größe der Vakuumkammer: 400×400×H380~450 (kann entsprechend den tatsächlichen Bedingungen angepasst werden);

l Bedruckstoffträger-Bewegungsabstand: ≤50mm (axiale Richtung);

l Winkel zwischen Zielachse und Substratdrehachse: Co-Sputtern;

l Gassystem: 4-Wege Lufteinlass, davon 1 für Abgase;

Diese kleine Beschichtungsmaschine hat eine kompakte Struktur und eine einfache und elegante Erscheinung. Sie ist einfach zu bedienen und zu warten und hat niedrige Betriebskosten. Die Haupteinheit und das elektronische Steuerungssystem dieses Geräts übernehmen ein integriertes Design. Die Haupteinheit besteht aus einem Geräteregal, einem Pumpsystem und einer Vakuumkammer. Der Beschichtungsprozess erfolgt in der Sputtervakuumkammer; das elektronische Steuerungsteil übernimmt einen Standard-Schaltschrank, der verschiedene modulare Steckboxen enthält. Das System ist leistungsstark und bietet eine stabile Leistung.

Die Grundparameter der Ultra-Hochvakuum-Magnetron-Sputterbeschichtungsmaschine sind wie folgt:

l Ultimatives Vakuum der Beschichtungskammer: ≤6×10-5Pa;

l Pumpzeit: Besser als 6×10-4PA innerhalb von 30 Minuten;

l Vakuumkammer Größe: 300×300×H350mm, die Vakuumkammer ist aus Edelstahl;

l Zielgröße und -Menge: 2 φ50mm Permanentmagnet-Ziele;

l der Abstand zwischen Ziel und Substrat ist einstellbar (40~100mm, angepasst nach Zielposition);

l Substratrotation: 0~60 U/min einstellbar; mit Heizung ausgestattet, kann bis zu 500 Grad erhitzt werden;

l Größe der Hauptmaschine: Ca. 1100mm lang×750mm breit×1650mm hoch;

l Gasart: 2-Wege MFC, Arbeitsgas Ar + Reaktionsgas;

l Schichtdicke Messung: Ausgestattet mit einem Satz von Quarzkristall Film Dickenmessgerät und Original-Sonde (optional);

l Steuerungssystem: Touchscreen + SPS-Steuerung wird angenommen, um den Start und Stopp von Pumpen, Ventilen und verschiedenen Ausgangsalarmen zu steuern;
 

Hauptparameter des Systems:

l Letzter Vakuumgrad: ≤5×10-5Pa (innerhalb von 12 Stunden unter Reinigungs- + Backungs- und Entgasungsbedingungen erhalten);

l Saugzeit: Innerhalb von 40 Minuten, ≤5×10-4PA;

l Substrat Heiztemperatur: ≤600ºC (Jod Wolfram Lampe Heizung);

l Substratgröße: ≤Φ3inch runder Wafer;

l Zielgröße: 2 Zoll oder 3 Zoll;

l Anzahl der Ziele: 4;

l Größe der Vakuumkammer: 500×500×H450 (kann entsprechend den tatsächlichen Bedingungen eingestellt werden);

l Bedruckstoffträger-Bewegungsabstand: ≤50mm (axiale Richtung);

l Winkel zwischen Zielachse und Substratdrehachse: Co-Sputtern;

l Gassystem: 4 Lufteinlass, davon 1 für Abgase;

   

Die Grundparameter der Ultra-Hochvakuum-Magnetron-Sputterbeschichtungsmaschine sind wie folgt:

l Ultimatives Vakuum der Beschichtungskammer: ≤6×10-5Pa;

l Pumpzeit: Besser als 8×10-4PA innerhalb von 30 Minuten;

l Vakuumkammer Größe: 300mm×300mm×H400mm, die Vakuumkammer ist aus Edelstahl und mit einem Glas Beobachtungsfenster ausgestattet;

l Zielgröße und -Menge: 2 φ50mm Permanentmagnet-Targets (integriert);

l Sputterspeisung: 2 500W digitale DC Sputterspeisung Netzteile;

l Druckregelung, ausgestattet mit Folienmesser und elektrischer Drosselklappe, um eine konstante Druckregelung zu erreichen;

l horizontaler Bewegungsabstand 0~80mm, ausgestattet mit Isolationsplatte, um ein Herunterfallen der Schlacke während der Bewegung zu vermeiden;

l Heißpresssystem: Untere Substrattemperatur: 0~600ºC stufenlos einstellbar. Die obere Platte wird pneumatisch zum Abdrücken gesteuert;

l Größe der Haupteinheit: Länge 1060mm×Breite 600mm×Höhe 1600mm; (die Größe wird entsprechend den Bedürfnissen angepasst)

l Gas-Typ: 2-Wege-Massenstrom-Controller, 2-Wege-Lufteinlass;

Unternehmensprofil

Unser Unternehmen kann seinen Kunden vielfältige Lösungen für die Konstruktion von Vakuumbeschichtungssystemen anbieten, die flexibel Co-Sputterdeposition, Mehrschichtfilmdeposition, Isolierfolien und Compound-Folienvorbereitung erreichen und die Anforderungen der Folienvorbereitung in verschiedenen Bereichen erfüllen. Die entwickelte multifunktionale Verdunstungsbeschichtungsmaschine wird in der Forschung und Entwicklung von OLED- und OPV-Produkten weit verbreitet. Auf der Basis der Standardkonfiguration kann unser Unternehmen Beschichtungsmaschinen für bestimmte Zwecke, tragbare Beschichtungsinstrumente, Prüfgeräte und nicht-Standard-Vakuumprodukte nach Kundenbedürfnissen anpassen.

 

Zertifizierungen

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Kundenzufriedenheit,unsere Verantwortung!
"Einheit, Strenge, Initiative  und  Innovation" ist  die  Essenz   der  Unternehmenskultur   von ACME.Es  ist  tief  in   der  Unternehmensphilosophie   von verwurzelt
"Kundenzufriedenheit , unsere  Verantwortung!",übertrifft die   Erwartungen der Kunden   und  gewinnt  das  Vertrauen   vieler  namhafter  Unternehmen.
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Inspektionsservice:regelmäßige Rückkehrbesichtigung und Inspektionsdienste;
Stagnation Service:langfristige  Stagnation Services  für das  Projekt erforderlich.