• Direct Bond Kupfer Dbc Metallisierung Hochleistungs-Aln Aluminium Nitrid Substrat
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Direct Bond Kupfer Dbc Metallisierung Hochleistungs-Aln Aluminium Nitrid Substrat

Anwendung: Laser Diode (Ld)
Fertigprodukt: Keramikplatine
Substratmaterial: Aluminium Nitride (Aln) Ceramic
Oberflächenmetallisierung: Direct Bond Copper (Dbc / Dcb)
Funktion: Starke Haftfestigkeit zwischen Keramik und Metall
Transportpaket: Vacuum Packaging

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Bewertung: 5.0/5
Hersteller/Werk, Handelsunternehmen, Konzerngesellschaft
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  • Produktionsprozess
  • Unsere Vorteile
  • Produktinspektion
Überblick

Grundlegende Informationen.

Modell Nr.
Customized
Spezifikation
According to the Drawing
Warenzeichen
JingHui
Herkunft
China
HS-Code
8547100000

Produktbeschreibung

Direct Bond Kupfer DBC Metallisierung Hochleistungs-AlN-Aluminiumnitrid Substrat
 

Produkteinführung

Was ist Direct Bond Copper (DBC) Technologie?

Direct Bond Copper (DBC) Technologie ist eine Metallisierungsmethode zum Verkleben von Kupferfolie auf der keramischen Oberfläche (hauptsächlich Al2O3 und AlN). Das Grundprinzip ist es, Sauerstoffelement zwischen Cu und Keramik einzuführen, dann Cu / O eutektische flüssige Phase bei 1065-1083 Grad Celsius zu bilden, und dann mit keramischen Substrat und Kupferfolie zu reagieren, um CuAlO2 oder Cu(AlO2)2 zu bilden, und die Bindung zwischen Kupferfolie und Substrat unter der Wirkung von Mesophase zu realisieren.  

Da AlN zu den Nichtoxidkeramiken gehört, ist es der Schlüssel zur Oberflächenkupferbeschichtung, eine Al2O3-Übergangsschicht auf ihrer Oberfläche zu bilden und die effektive Bindung zwischen der Kupferfolie und der Grundkeramik unter der Einwirkung der Übergangsschicht zu realisieren.


Was sind die Merkmale der  DBC -Technologie?

In den folgenden beiden Tabellen erfahren Sie mehr über DBC.


Direct Bond Copper Dbc Metallization High Performance Aln Aluminium Nitride Substrate
Direct Bond Copper Dbc Metallization High Performance Aln Aluminium Nitride Substrate
 

Produktionsprozess

Die DBC-Methode verwendet ein Hochtemperatur-Schmelz- und Diffusionsverfahren, um das keramische Substrat und hochreines sauerstofffreies Kupfer miteinander zu verbinden.

Die geformte Metallschicht hat eine gute Wärmeleitfähigkeit, eine hohe Haftfestigkeit, ausgezeichnete mechanische Eigenschaften, einfaches Ätzen, hohe Isolierung und hohe thermische Zykluskapazität.


Direct Bond Copper Dbc Metallization High Performance Aln Aluminium Nitride Substrate
 

Unsere Vorteile

DBC-Keramiksubstrate werden häufig in der Verpackung und Wärmeableitung von IGBT (Insulated Gate Bipolar Transistor), Laserdiode (LD) und Concentrator Photovoltaics (CKV) verwendet. Jinghui Ceramic kontrolliert streng die eutektische Temperatur und Sauerstoffgehalt in den Prozess der Herstellung von DBC-keramischen Substraten. Die DBC-Technologie hat das branchenführende Niveau erreicht und verdient Ihr Vertrauen.
 

Direct Bond Copper Dbc Metallization High Performance Aln Aluminium Nitride Substrate

Produktinspektion

Um die beste Leistung unserer Keramikplatinen zu gewährleisten, müssen alle Produkte vor dem Ausgehen eine strenge Inspektion bestehen.

Direct Bond Copper Dbc Metallization High Performance Aln Aluminium Nitride Substrate

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