300D organisch-anorganisches kombiniertes Verdunstungs-Beschichtungssystem zur Herstellung von Nano-Skala Neue Folienmaterialien
Produktbeschreibung des 300D organisch-anorganischen kombinierten Verdunstungsbeschichtungssystems:
Es besteht hauptsächlich aus Vakuumkammer System Verdampfungskammer, Verdunstungsquelle System, Probenbühne System, Vakuum-Pumpen und Messsystem, Gassystem, Steuersystem, Filmdicke Testsystem, obere Abdeckung hydraulische Öffnungsmechanismus und elektronische Steuerung.
Anwendung von 300D organisch-anorganischen kombinierten Verdunstungsbeschichtungssystemen:
Es wird für die Herstellung neuartiger Dünnschichtmaterialien wie einschichtige und mehrschichtige Funktionsfilme im Nanobereich, Hartfilme, Metallfolien, Halbleiterfolien und Dielektrikfolien verwendet. Es wird in der Forschung und Kleinserienvorbereitung von Dünnschichtmaterialien in Universitäten und Forschungsinstituten weit verbreitet.
Technische Daten des 300D organisch-anorganischen kombinierten Verdunstungsbeschichtungssystems:
| Ultimatives Vakuum |
6, 7*10-5Pa |
| Vakuumzeit der Rückgewinnung |
6, 6×10 Pa in 40 Minuten (Kurzzeiige Exposition gegenüber der Atmosphäre und Befüllung mit trockenem Stickstoff Zum Starten des Pumpens) |
| Leckrate des Systems |
1*10-7PaL/s |
| Vakuumkammer |
Kreisförmige Vakuumkammer, Größe 300 * 350mm |
| Probenbühne |
Eine flache Probe mit einer Dicke von 3 x 3 cm und einer Dicke von 3, 2 mm; |
| Elektrode |
Menge: 4 Stück, Standard-Typ gelötet indirekt wassergekühlte Struktur; Durchmesser Φ20mm, interne Wasserkühlung. Verdampfung in Film; Probenmaterial: Negative Bias -200V |
| Organischer Strahlquelle Ofen |
menge: 3, Standard-Typ 600 Grad Temperaturregelung, Verdampfung zu Filmen; |
| Probendrehtisch |
Setzen Sie den Probenhalter mit einer Substratposition auf den Drehtisch des Substrats (der Probenhalter kann 2 Zoll separat platziert werden), um den Ofen zu installieren. |
| Substrat |
Um die Gleichmäßigkeit der Filmdicke über eine 2-Zoll-Substratstufe zu erhöhen, wird das Substrat an der Beschichtungsposition gedreht. Die Temperatur des Substrats liegt zwischen Raumtemperatur und 600 Grad Celsius (die Temperatur der oberen Oberfläche des Siliziumwafers muss nur einmal kalibriert werden) |
| 4 Sets von Prallsystem |
Substratblech und Quellblech; 3 Sätze Zielblech, dynamische Dichtung, loses Getriebe, manuelle Steuerung; Probenleitblech (1-er Satz), Magnetgabel, |
| Manuelle Steuerung des Gassystems |
Massendurchflussregler, 1-polig |
| Massendurchflussregler , 1-polig |
Messbereich der Filmdicke 0-999999Å |
| Pumpe |
Optional erhältlicher Satz von Molekularpumpen oder kombinierte Vortex-Trockenpumpe mit Kryopumpen Pumpsystem |
Verwandte Bilder von 300D organisch-anorganisch kombiniertes Verdunstungs-Beschichtungssystem:
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