After-sales Service: | Online Support |
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Warranty: | 1 Year |
Art: | Pecvd Tube Furnace |
Zertifizierung: | CE, ISO |
Struktur: | Horizontal Typ |
Marke: | Cyky |
Lieferanten mit verifizierten Geschäftslizenzen
Chemische Gasphasenabscheidung nimmt Plasma-verstärkte chemische Gasphasenabscheidung Technologie, die hochenergetischen Plasma verwenden kann, um den Reaktionsprozess zu fördern, effektiv die Reaktionsgeschwindigkeit zu erhöhen und die Reaktionstemperatur zu verringern.
Es eignet sich zum Ablegen von dünnen Schichten aus Siliziumnitrid, amorphem Silizium und mikrokristallinem Silizium auf verschiedenen Substraten wie optischem Glas, Silizium, Quarz und Edelstahl. Es hat eine gute filmbildende Qualität, weniger Pinholes und ist nicht leicht zu knacken. Es eignet sich für die Herstellung von amorphem Silizium und mikrokristallinen Silizium-Dünnschicht-Solarzellen. Es kann in der wissenschaftlichen Forschung und Kleinserien-Vorbereitung von Dünnschichtmaterialien in Hochschulen und Universitäten und wissenschaftlichen Forschungsinstituten weit verbreitet werden.
HF -Stromversorgung |
Signalfrequenz |
13,56MHz |
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Leistungsbereich |
0~500W |
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Maximale reflektierte Leistung |
100W |
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Reflektierte Leistung (bei maximaler Leistung) |
<5W |
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Stabilität der Stromversorgung |
±0,1 % |
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Arbeitskammer |
Heiztemperatur |
RT-1000ºC |
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Genauigkeit der Temperaturregelung |
±1ºC |
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Probenhalter |
Φ200mm |
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Drehgeschwindigkeit des Probenhalters |
1-20rpm einstellbar |
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Größe des Sprühkopfs |
Φ90mm |
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Entfernung |
Der Abstand zwischen dem Sprühkopf und der Probe beträgt 40-100mm stufenlos verstellbar |
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Arbeitsvakuum für Abscheidung |
0. 133- 133Pa (kann je nach technischem Verfahren eingestellt werden) |
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Flansch |
Der obere Flansch kann vom Motor angehoben werden, das Substrat ist leicht zu wechseln, und es gibt ein Sichtfenster |
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Kammer |
Werkstoff Edelstahl, Φ500mm * 500mm |
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Beobachtungsfenster |
Φ100mm, mit Waffel |
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Gasversorgung System |
Kanalnummern |
6 |
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Messeinheit |
Massenflussregler |
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Messbereich |
Ein Kanal: 0~200SCCM für H2 |
Anmerkungen: Wenn andere Bereiche erforderlich sind, bitte bei der Bestellung angeben. Je nach den spezifischen Anforderungen des Kunden ist der Durchflussmesser des entsprechenden Gastyps und -Bereichs optional. |
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B -Kanal: 0~200SCCM für CH4 |
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C -Kanal: 0~200SCCM für C2H4 |
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C -Kanal: 0~500SCCM für N2 |
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D -Kanal: 0~500SCCM für NH3 |
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E -Kanal: 0~500SCCM für Ar |
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Messgenauigkeit |
±1,5 % F.S. |
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Unterschied Arbeitsdruck |
-0,15Mpa~0,15Mpa |
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Verbindungsrohr |
Edelstahl 304 |
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Gaskanal |
Nadelventil aus Edelstahl 304 |
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Schnittstellenspezifikation |
1/4" Aderendhülse für Gaseinlass und -Auslass |
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Vakuumsystem |
Vorpumpe |
4,7L/s |
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Molekularpumpe |
1200L/s |
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Vakuummessung |
Compound -Vakuummessgerät, Bereich 10-5Pa ~ 105Pa |
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Vakuumgrad |
5,0*10-3Pa |
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Wasserkühler |
Kühlwassertemperatur |
<=37ºC |
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Wasserdurchfluss |
10L/min |
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Leistung |
0,1KW |
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Kühlleistung |
50W/ºC |
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Stromversorgung |
AC220V 50Hz |
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