• Zweidimensionales Film Growth Roll to Roll PECVD System
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Zweidimensionales Film Growth Roll to Roll PECVD System

Anwendung: Schule, Labor
Customized: Customized
Zertifizierung: CE, tüv
Struktur: Desktop-
Stoff: Stehlen
Art: Rohrofen

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Diamond-Mitglied Seit 2016

Lieferanten mit verifizierten Geschäftslizenzen

Hersteller/Werk & Handelsunternehmen

Grundlegende Informationen.

Modell Nr.
OTF-1200X-II-PE-RR
hf-Frequenz
13,56MHz
Abgleich
Automatisch
Kühlung
Luft
Rauschen
<50 db
Stromversorgung
5 -300W einstellbar
Ausgangsanschluss
n-Typ
Transportpaket
Wooden Box
Spezifikation
Dia. 80mm
Warenzeichen
CY
Herkunft
Cyky
HS-Code
85141090
Produktionskapazität
210 Sets Per Month

Produktbeschreibung

Rolle-zu-Rolle PE-CVD-System für kontinuierlichen Graphen  Oder zwei Dimensionales Filmwachstum - OTF-1200x-II-PE-RR
OTF-1200x-II-PE-RR ist ein  Rohr    -Ofenanlage im Labormaßstab, das aus 300W RF-Plasmaquelle, 80mm O. D zwei Heizzonen  , einem Split-Tube-Ofen bei 1200oC Max., 3 Kanal MFC-Gasversorgungsstation und hochwertiger mechanischer Vakuumpumpe besteht. Und zwei Vakuumkammern mit ein- und Ausrollung des Substrats sowie Touchscreen-Bedienfeld. Das R2R System ist für die Erforschung der Flexibilität konzipiert, Graphen oder andere zweidimensionale Filme kontinuierlich für die Industrie zu züchten.

 
Zwei Heizzonen Geteilter Röhrenofen
 
Zwei Heizzonen mit  Einer Heizzone von 440 mm Länge Und 250 mm Länge konstante gemäßigte Zone
1200oC Max. Betriebstemperatur für < 60 Minuten
1100oC Max für Dauerheizung
Programmierbarer digitaler Präzisionsregler mit 30 Segmenten
Hochreines Quarzrohr:   80mm AD x 72mm ID x 1400 mm Länge 2, 83" ID x 55'' Länge
Eingangsleistung: 208 - 240V AC Eingang, einphasig bei max 3KW
Optional ist ein Ofen mit drei Heizzonen erhältlich
Plasma-HF-Stromversorgung
 
Ausgangsleistung:           5 -300W verstellbar mit ± 1% Stabilität
HF-Frequenz:                   13, 56 MHz ±0, 005% Stabilität
Abgleich:                             Automatisch
HF-Ausgangsanschluss:             50 Ω, Typ N, Buchse
Rauschen:                                       < 50 dB.  
Kühlung:                                 Luftkühlung.
Leistung:                     208-240VAC, 50/60Hz
Drei-Kanal-Gasversorungsstation
 
Arbeitstemperatur: 5~45 ºC
Max. Druck: 3x106  Pa
Genauigkeit:   ±1, 5 % FS
Liner:   ±(0, 5-1, 5)%F. S.
Genauigkeit der Duplikate:   ±0, 2%F. S.
Regelbereich:
Controller 1: 0~100  SCCM    (Ar-Gaskalibrierung)
Controller 2:   1~199  SCCM  ( H2 Gaskalibrierung )
Controller 3: 1~499 SCCM    (  Methan Kalibrierung  )
  Vakuumpumpe und Ventil
 
Hochleistungs-Drehschieber-Vakuumpumpe (7, 8 CFM -240 l/m) mit zweistufiger Abgasanlage im Untergehäuse mit max. Vakuumdruck 10-2  Torr.
  KFD25 Adapter und Edelstahlrohr sind zwischen Pumpe verbunden Und Rohrflansch mit Präzisions-Kugelhahn
Digitales Unterdruckmessgerät und Anzeige  Sind mit dem installiert Ofen
Oiless Pumpe ist verfügbar und PID druckgesteuertes Vakuumsystem ist auf Anfrage gegen Aufpreis erhältlich.
Korrosionsbeständiges Manometer Messbereich 3, 8 x 10-5  Bis 1125 Torr
Korrosionsbeständig, gasunabhängig  
Hohe Genauigkeit und Reproduzierbarkeit bei Atmosphäre für zuverlässigen atmosphärischen Druck Erkennung
Die schnelle atmosphärische Detektion eliminiert Wartezeiten und verkürzt den Prozesszyklus
Einfach austauschbare Plug & Play-Sensorelemente
Temperaturregler 30  Programmierbare Segmente zur präzisen Steuerung von Heizrate, Kühlrate und Verweildauer.
Integrierte PID-Auto-Tune-Funktion mit Überhitzungs- und defekten Thermoelementen.
Übertemperaturschutz    Und  Alarm  Ermöglichen den Betrieb ohne Vermittlung(en).
+/- 1 ºC Temperaturgenauigkeit.
RS485 Kommunikationsanschluss.      
Systemsteuerung 7" Touchscreen-Bedienfeld integriert, die Temperatur, Gasdurchfluss, Plasma-Leistung zu steuern  
Gesamtabmessungen 2400 L x 600 B x 1250 H mm
R2R Vakuumkammern
 
Zwei Vakuum-versiegelte Kammern befinden sich an zwei Enden von Ofen und verbunden mit Quarzrohr
Die Walzen für das Substrat innen und außen befinden sich In der seitlichen Vakuumkammer  
Die Reeling-Geschwindigkeit für das Substrat ist von  1-400mm/min einstellbar
Max. Bewegliche Substratbreite  L 65 mm für Rohr mit 80mm AD
Eine Rolle Kupferfolie mit 65 mm Breite und 0, 025 mm Dicke  ( ~5 kg) ist für die Kundenpraxis im Lieferumfang enthalten.
100mm OD-Tube ist auf Anfrage erhältlich, die  Substrat mit max. Breite 80 mm füttern kann
Garantie   Ein Jahr beschränkte Garantie mit Unterstützung für die Aufstiegszeit  
Two Dimensional Film Growth Roll to Roll Pecvd System
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