• Graphitprodukte mit hoher Dichte und niedrigem Aschegehalt Herstellung von CIP-Graphit
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Graphitprodukte mit hoher Dichte und niedrigem Aschegehalt Herstellung von CIP-Graphit

Art: Graphite Rod
Zusammensetzung: Graphit
Kohlenstoffgehalt: High-Carbon
Klasse: Industrial Grade
Bildung Way: Graphitelektrodensektor
Kristallmorphologie: Compact Crystalline Graphite

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Handelsunternehmen

Grundlegende Informationen.

Modell Nr.
IS-11
Schüttdichte
1,8
Korngröße
10 Mikron
Stärke
80 mpa
Härte
50 hds
Widerstand
12 μωm
Aschegehalt
100 ppm
Transportpaket
Plywood Case
Spezifikation
500-400-200
Warenzeichen
SHJ
Herkunft
Dalian
HS-Code
38011000
Produktionskapazität
1000 Ton Per Year

Produktbeschreibung

Graphitprodukte mit hoher Dichte und niedrigem Aschegehalt - Herstellung durch CIP Graphite

Graphit ist ein faszinierendes Material, das für eine Vielzahl von Anwendungen eingesetzt wurde. Seine einzigartigen Eigenschaften machen es zu einer beliebten Wahl für komplexe Zerspanung, elektrische Komponenten und Schmierstoffe. Graphit hat auch einen niedrigen Wärmeausdehnungskoeffizienten, wodurch es ein ideales Material für Hochtemperaturanwendungen ist.

Die Vorteile von Graphitprodukten mit hoher Dichte sind vielfältig. Die hohe Dichte sorgt für zusätzliche Festigkeit, was zu einer besseren Leistung und Haltbarkeit führt. Der geringe Aschegehalt sorgt dafür, dass die Graphitprodukte nur minimale Verunreinigungen aufweisen, wodurch sie sich für Hochtemperaturanwendungen eignen.

Eine Möglichkeit, Graphitprodukte mit hoher Dichte und niedrigem Aschegehalt herzustellen, ist der Einsatz von CIP-Graphit. CIP Graphit steht für Cold Isostatic Pressing Graphite. Es ist ein Verfahren, das sehr gleichmäßige Graphitblöcke mit hoher Dichte und kleiner Korngröße erzeugt. Dieses Verfahren wird durch die Aufnahme von Graphitpulver und Unterwerfen es hohen Druck in einem geschlossenen Behälter mit Flüssigkeit gefüllt erreicht.

CIP Graphitblöcke sind wegen ihrer hervorragenden Eigenschaften sehr begehrt. Sie zeichnen sich durch hohe Festigkeit, geringe Porosität und hohe Reinheit aus und sind damit ideal für den Einsatz in der Halbleiterindustrie. Die geringe Korngröße sorgt zudem für eine ausgezeichnete Zerspanbarkeit und gute Wärmeleitfähigkeit.

CIP Graphit wird in einer Vielzahl von Anwendungen eingesetzt. Seine Eigenschaften machen es ideal für den Einsatz in der Herstellung von Graphitelektroden, Formen und Heizelementen in Hochtemperaturöfen. Darüber hinaus wird CIP-Graphit zur Herstellung von Graphittiegeln verwendet, die für das Wachstum von Halbleiterkristallen verwendet werden und ist bei der Herstellung von gesinterten Diamanttrennwerkzeugen von unschätzbarem Wert.

Zusammenfassend sind Graphitprodukte mit hoher Dichte und niedrigem Aschegehalt in vielen Anwendungen äußerst vorteilhaft und unverzichtbar. Das CIP-Graphitverfahren ist eine zuverlässige und effiziente Möglichkeit, diese Graphitprodukte mit überlegenen Eigenschaften zu erzeugen, die hohen Temperaturen und rauen Umgebungen standhalten können. Die Gleichmäßigkeit der CIP-Graphitblöcke gewährleistet zudem eine einfache Bearbeitung, was Zeit spart und die Produktionseffizienz erhöht. Letztendlich wird sich die Herstellung von Graphitprodukten mit hoher Dichte und niedrigem Aschegehalt mit CIP-Graphit als kluge Investition erweisen.

High Density and Low Ash Content Graphite Products Making by CIP Graphite

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