CAS-Nr.: | 13709-49-4 |
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Formel: | Yof Joxf(3-2x) |
EINECS: | 237-257-5 |
Bescheinigung: | ISO, msds, coa, sgs |
Reinheit: | 99,99 % min |
Art: | Yttriumoxid-Fluorid |
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Indexmodell | YOF,4N | YOF.4N5 | YOF,5N |
YOF/TREO(%,min) | 99,9 | 99,995 | 99,999 |
TREO(%,min) | 88,0 | 88,0 | 88,0 |
Aussehen | Weißes Pulver | Weißes Pulver | Weißes Pulver |
ZU Verunreinigungen/TREO | %(Max) | %(Max) | Ppm (max.) |
La2O3 | 0,0005 | 0,0005 | 5 |
CeO2 | 0,0005 | 0,0005 | 5 |
Pr6O11 | 0,0005 | 0,0005 | 5 |
Nd2O3 | 0,0005 | 0,0005 | 5 |
Sm2O3 | 0,0005 | 0,0005 | 5 |
Eu2O3 | 0,0005 | 0,0005 | 5 |
Gd2O3 | 0,0005 | 0,0005 | 5 |
Tb4O7 | 0,0005 | 0,0005 | 5 |
Dy2O3 | 0,0005 | 0,0005 | 5 |
Ho2O3 | 0,0005 | 0,0005 | 5 |
Er2O3 | 0,0005 | 0,0005 | 5 |
Tm2O3 | 0,0005 | 0,0005 | 5 |
Yb2O3 | 0,0005 | 0,0005 | 5 |
Lu2O3 | 0,0005 | 0,0005 | 5 |
Y2O3 | 0,0005 | 0,0005 | 5 |
Nicht-Re-Verunreinigungen | %(Max) | %(Max) | Ppm (max.) |
Fe2O3 | 0,0005 | 0,0005 | 5 |
SiO2 | 0,001 | 0,01 | 100 |
Cao | 0,002 | 0,005 | 50 |
COO | \ | \ | \ |
Nio | \ | \ | \ |
CuO | \ | \ | \ |
MnO2 | \ | \ | \ |
Kr2O3 | \ | \ | \ |
CDO | \ | \ | \ |
PBO | \ | \ | \ |
Al2O3 | 0,005 | 0,005 | 0,005 |
Na2O | \ | \ | \ |
K2O | \ | \ | \ |
MgO | \ | \ | \ |
TiO2 | \ | \ | \ |
ZnO | \ | \ | \ |
ThO2 | \ | \ | \ |
ZrO2 | \ | \ | \ |
L.O.I (%,MAX) | \ | \ | \ |
Größe (D50, um) | \ | \ | \ |
Memo | Kann nach Anforderung individuell angefertigt werden. |
Element | Inhalt | Hinweis |
Yttrium CE Zirkoniumoxid | Y 2,5% CE 25% Zr 72,5% | Thermische Spritzbeschichtung |
Yttriumoxid Y2O3 | Y2O3 99,999 % | Halbleiter/LED/LCD-Plasma-Spritzbeschichtung |
Yttrium-Oxyfluorid YOF | Y5O4F7/Y7O6F9/YOF 99,999 % | Halbleiter |
Yttria stabilisiertes Zirkonia YSZ | Y2O3 3/5/8mol | Beschichtung der thermischen Barriere |
Zirkoniumoxid ZrOx | ZrOx 99,5 % | Sputtermaterialien, thermische Spritzbeschichtung |
Siliziumoxid | SIO 99 % | Thermische Beschichtung Oberfläche Behandlung von Materialien |
Kobaltoxid COO | Co 72 % | Thermische Beschichtung Oberfläche Behandlung von Materialien |
Chromoxid Cr2O3 | Cr2O3 99,5 % | Thermische Beschichtung Oberfläche Behandlung von Materialien |
Aluminiumoxid Al2O3 | Al2O3 99,9 % | Thermische Beschichtung Oberfläche Behandlung von Materialien |
La2Zr2O7 | ||
Al-Ti-Mischoxid | Al-Ti | Thermische Beschichtung Oberfläche Behandlung von Materialien |
Titanoxid TiOx TiO2 | TiOx 99,95 % | Thermische Spritzbeschichtung, Sputtermaterialien |
Nioboxid nBox Nb2O5 | NBox 99,95 % | Thermische Spritzbeschichtung, Sputtermaterialien |
Yttrium Aluminium Granat YAG Y3Al5O12 | YAG | Thermische Spritzbeschichtung, Sputtermaterialien |
Niob-Hartmetall NBC | NBC | Thermische Spritzbeschichtung, Sputtermaterialien |
Siliziumkarbid SiC | β-SiC 99 % | Thermische Spritzbeschichtung, Sputtermaterialien |
Siliziumnitrid Si3N4 | Si3N4 99 % | Thermische Spritzbeschichtung, Sputtermaterialien |
Borcarbid B4C | B4C 99 % | Thermische Spritzbeschichtung, Sputtermaterialien |
Bornitrid B | MRD. | Thermische Spritzbeschichtung, Sputtermaterialien |
Andere | Agglomeriert Und Versifelt | Sphärisch/Kugelförmig schließen |
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