100 Großer Volumen-Plasma-Reiniger zur Oberflächenbehandlung mit 9 elektrischen Platten

Produktdetails
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Grundlegende Informationen.

Modell Nr.
KS-PL-DW100
Anwendung
Industrie, Schule, Labor
Individuell
Individuell
Struktur
Desktop-
Stoff
Rostfreier Stahl
Transportpaket
Holzpaket
Spezifikation
400× 500× 500 mm (L× W× H)
Warenzeichen
Kunsheng
Herkunft
Luoyang City, Henan
HS-Code
8486209000
Produktionskapazität
500 Sätze pro Jahr

Produktbeschreibung

KS-PL-DW100 Großvolumen-Plasma-Reiniger - hohe Kapazität Präzisionsreinigung und Oberflächenaktivierungssystem
Das Plasma-Reinigungssystem KS-PL-DW100 wurde für industrielle Anwendungen mit hoher Kapazität entwickelt, bei denen Verarbeitung großer Volumina, präzise Oberflächenbehandlung und Kontaminationskontrolle von entscheidender Bedeutung sind. Mit einer geräumigen 100-Liter-Kammer und einer mehrstöckigen Elektrodenplattenkonfiguration (3-9 Stockwerke) ist er für eine gleichmäßige Plasmaverteilung über eine Vielzahl komplexer Teile ausgelegt und damit die ideale Wahl für Massenproduktionsumgebungen.
Die KS-PL-DW100 ist mit einer korrosionsbeständigen Edelstahlkammer aus 316 mit den Maßen 400×500×500 mm ausgestattet und gewährleistet eine hervorragende mechanische Haltbarkeit und chemische Stabilität bei längeren Plasmabehandlungen. Der Gesamtformfaktor des Systems von 1100×700×1500 mm bietet eine Balance zwischen kompaktem Bauraum und hoher Durchsatzleistung und passt sich nahtlos in große Reinraumbereiche ein.
Herzstück des KS-PL-DW100 ist ein hochfrequenter 13,56 MHz HF-Generator mit automatischer Matching-Integration, der eine Vielzahl von Prozessgasen unterstützt. Das System bietet eine stufenlos einstellbare HF-Leistung von bis zu 750W, wodurch flexible Prozessbedingungen für alles gewährleistet werden, von empfindlichen Polymeroberflächen bis hin zu robusten Metallbehandlungen.
100 Large Volume Plasma Cleaner for Surface Treatment with 9 Electric Plates

Der KS-PL-DW100 ist mit einem hochpräzisen Zweikanal-Elektro-Durchflussmesser ausgestattet, um Prozessgase wie Argon, Sauerstoff, Stickstoff oder spezielle Ätzgase feinsteuern zu können. Die Vakuumbedingungen werden mit einem Hochvakuum-Siliziumsensor in Echtzeit genau überwacht und der Druck wird für eine optimale Plasmastabilität und eine gleichmäßige Behandlung zwischen 1-30 Pa aufrechterhalten.
Mit einer integrierten SPS-Steuerung und einer intuitiven HMI-Touchscreen-Schnittstelle können Anwender Prozessparameter einfach konfigurieren, überwachen und automatisieren. Die Reinigungszeiten sind bis zu 99999 Sekunden programmierbar, wodurch eine präzise Kontrolle über die Oberflächenaktivierung, die Entfernung organischer Rückstände und kontaminationsfreie Reinigungsprozesse gewährleistet wird.
Das System unterstützt die Hochleistungskammer und integriert eine BSV60-fach-Drehvakuumpumpe, die eine leistungsstarke 20 l/s Pumpgeschwindigkeit bietet. Dies ermöglicht eine schnelle Evakuierung und einen stabilen Betrieb, wodurch Zykluszeiten verkürzt und die Betriebseffizienz gesteigert werden.
Typische Anwendungen des KS-PL-DW100 sind die großflächige Reinigung von Halbleiterwafern, LED-Panels, Leiterplatten, Komponenten medizinischer Geräte und optischen Präzisionssubstraten. Es wird häufig in Branchen eingesetzt, in denen Oberflächenreinheit, verbesserte Haftung und feines Plasmaätzen für die Produktqualität unerlässlich sind.
100 Large Volume Plasma Cleaner for Surface Treatment with 9 Electric Plates

Der KS-PL-DW100 bietet außergewöhnliche Leistung, Zuverlässigkeit und einfache Integration in Fertigungsumgebungen und ist damit die ultimative Plasmalösung für die Anforderungen großer Volumina und hochpräziser Oberflächenbehandlung.
Technische Parameter:\
Modell  KS-PL-DW100
Hohlraummaterial  Oberflächenbehandlung aus Edelstahl 316
Formnest  400×500×500 MM (L×B×H)
Kavität  100L
Elektrodenplatten  3-9 Stockwerke
Formfaktor  1100×700×1500 MM (L×B×H)
Netzfrequenz  13,56 MHz (automatische Integration)
Stromversorgung  0-750W (stufenlos einstellbar)
Durchflussmesser  Ultrapräzises 2-Wege Elektro-Durchflussmessgerät
Vakuuometer  Messung von Silizium mit hohem Vakuum und Echtzeitanzeige
Steuerungsmodus  Vollautomatische Steuerung und manuell (SPS HMI)
Reinigungszeit  0-99999 s einstellbar
Vakuumniveau  1-30 Pa
Kammertemperatur  <30 C
Versorgungsspannung  380V
Vakuumpumpe  BSV60 (GESCHWINDIGKEIT 20 L/S)

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