Hochwertige Molybdän Sputterziele

• Anwendung: Luftfahrt, Elektronik, Industriell, Medical, Chemical
• Standard: JIS, GB, LÄRM, BS, ASTM, AISI
• Reinheit: > 99,95%
• Legierung: Legierung
• Art: Molybdänplatte
• Pulver: nicht Powder
• Modell Nr.: Moly Target
• Transportpaket: Wooden Box
• Spezifikation: 0.02mm--12.0mm diameter
• Herkunft: China
• HS-Code: 8102950000
• Produktionskapazität: 1000000meters

Produktbeschreibung

Molybdän Sputterziele

Beschreibung:
Molybdän Sputtering Ziel ist weit verbreitet in der Herstellung von LCD-und Touchscreens (Panels) verwendet. Es wird auch für Solarzellen und solare Wasserheizung verwendet. Wir können reine Molybdän-und Molybdän-Legierung Ziele mit verschiedenen Formen, einschließlich Scheibe, planar, Dreh-sowie benutzerdefinierte Ziele.

Anwendung:
Sputtern ist eine physikalische Gasphasenabscheidung (PVD) Methode, um das verdampfte Zielmaterial auf die Oberfläche des Substrats zu legen, das eine dünne Schicht bildet.
Sputtern ist die bevorzugte Vakuumabscheidungstechnik, die von Herstellern von Halbleitern, CDs, Festplattenlaufwerken und optischen Geräten verwendet wird. Es wird in der Halbleiterindustrie weitgehend eingesetzt, um dünne Schichten verschiedener Materialien in der integrierten Schaltungsverarbeitung abzulegen. Dünne Antireflexbeschichtungen auf Glas für optische Anwendungen werden ebenfalls durch Sputtern abgeschieden. Gesputterte Folien weisen eine ausgezeichnete Gleichmäßigkeit, Dichte, Reinheit und Haftung auf.


Funktionsprinzip:
Sputterzielmaterialien für Magnetron-Sputterlagerstätten ist eine neue Art der physikalischen Gasphasenabscheidung (PVD)
Ein orthogonales magnetisches und elektrisches Feld wird der Anode und der Kathode des Sputterziels hinzugefügt und füllt das Gas (normalerweise das Ar-Gas) in der Hochvakuumkammer.
AR-Gasinionisation in positive Ionen und Elektronen. Unter der Wirkung des elektrischen Feldes, hat Target bestimmten Unterdruck, elektronisch durch Magnetfeld beeinflusst und seine Ionisationswahrscheinlichkeit erhöht sich mit Arbeitsgas, Dann bilden High-Density-Plasma in der Nähe der Kathode, Ar-Ion unter der Wirkung von lorentz Kraft, beschleunigen fliegen auf die Zieloberfläche, bombardieren Zieloberfläche mit einer hohen Geschwindigkeit, so dass Atome Sputtern von Ziel fliegen auf die Substrat Deposition Film.


Spezifikation:
Die Molybdän Sputterziele können wir bieten sind wie folgt:
Plattenziel: Gewicht:≤200kg/st., Reinheit:≥99,95 %
Tubenziel: Länge:≤Φ165mmΧ1000mm, Reinheit:≥99,95%


Wir können Molybdän Ziele wie pro Kundenwünsche liefern.
Wenn es irgendwelche anderen Spezifikationen gibt, kontaktieren Sie uns bitte ohne zu zögern!
Willkommen zu Ihrer Anfrage, bitte wenden Sie sich an Wendy.

Zeit für die Inhaltsaktualisierung:2024.05.31