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Halbleiterchip-Fertigungsanlagen Siliziumkarbid Ätzung Rie Plasma Kleber Entferner

Kundendienst: 1 Year
Zertifizierung: CE
Garantie: 12 Monate
Automatischer Grad: halbautomatisch
Installation: Vertikal
Driven Typ: elektrisch

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Diamond-Mitglied Seit 2017

Lieferanten mit verifizierten Geschäftslizenzen

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Überblick

Grundlegende Informationen.

Modell Nr.
0
Mould Leben
> 1.000.000 Schüsse
Gewicht
800
Plasmaquelle
rf
Anwendbarer Umfang
4~8inch
Anzahl der Schichten für einzelne Verarbeitung
1
Transportpaket
Minder-Hightech
Spezifikation
850mmx900mmx1850mm
Warenzeichen
minder-hightech
Herkunft
China

Produktbeschreibung




 
Produktbeschreibung

RIE PLASMA Kleber Entferner
Siliziumkarbid Ätzen
Oberflächenreinigung nach dem Ätzen
ZIEL
Harte Maskenschicht, Trockenentfernung
Silikonoxid oder Siliziumnitrid-Ätzen
Entfernung des optischen Widerstands zwischen den Medien
Entfernung von Oberflächenresten
Semiconductor Chip Manufacturing Equipment Silicon Carbide Etching Rie Plasma Glue Remover

Semiconductor Chip Manufacturing Equipment Silicon Carbide Etching Rie Plasma Glue RemoverSemiconductor Chip Manufacturing Equipment Silicon Carbide Etching Rie Plasma Glue Remover
Semiconductor Chip Manufacturing Equipment Silicon Carbide Etching Rie Plasma Glue RemoverSemiconductor Chip Manufacturing Equipment Silicon Carbide Etching Rie Plasma Glue RemoverSemiconductor Chip Manufacturing Equipment Silicon Carbide Etching Rie Plasma Glue RemoverSemiconductor Chip Manufacturing Equipment Silicon Carbide Etching Rie Plasma Glue Remover
Produktparameter

 

PLASMAQUELLE   RF
Leistung ICP 1000W
BIAS 600W (Option)
Anwendbarer Umfang 4~8inch
Anzahl der Schichten für einzelne Verarbeitung 1
Abmessungen des Erscheinungsbilds 850 mm x 900 mm x 1850 mm
Systemsteuerung SPS
Automatisierungsebene Manuell

 

Unternehmensprofil

Wir haben 16 Jahre Erfahrung im Verkauf von Geräten und können Ihnen eine One-Stop IC Package Line Equipment Solution!!
RIE PLASMA Kleber Entferner
Siliziumkarbid Ätzen
Oberflächenreinigung nach dem Ätzen
ZIEL
Harte Maskenschicht, Trockenentfernung
Silikonoxid oder Siliziumnitrid-Ätzen
Entfernung des optischen Widerstands zwischen den Medien
Entfernung von Oberflächenresten Semiconductor Chip Manufacturing Equipment Silicon Carbide Etching Rie Plasma Glue RemoverSemiconductor Chip Manufacturing Equipment Silicon Carbide Etching Rie Plasma Glue RemoverSemiconductor Chip Manufacturing Equipment Silicon Carbide Etching Rie Plasma Glue Remover

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Stammkapital
1000000 RMB