Kundendienst: | 1 Year |
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Funktion: | Abriebfestigkeit |
Zertifizierung: | CE |
Garantie: | 12 Monate |
Automatischer Grad: | halbautomatisch |
Installation: | Vertikal |
Lieferanten mit verifizierten Geschäftslizenzen
PLASMAQUELLE | RF | RF | |
Leistung | ICP | 1000W | 1000W |
BIAS | 600W (Option) | 600W (Option) | |
Anwendbarer Umfang | 4~8inch | 4~8inch | |
Anzahl der Schichten für einzelne Verarbeitung | 1 | 2 | |
Abmessungen des Erscheinungsbilds | 1080x1840 x 1800 mm | 1340 x 2050 x 1800 mm | |
Systemsteuerung | Industrielle Steuerung | Industrielle Steuerung | |
Automatisierungsebene | Automatisch | Automatisch |
Gleichzeitiges Laden: 4-Kristall-Bootsplattform
Hohe Entbondungsrate: Plasma mit hoher Dichte, schnelle Entbondungsrate
Stabilität: Hohe Reproduzierbarkeit nach Plasmabehandlung
Remote Plasma: Remote Plasma mit geringer Ionenbeschädigung an Wafern
Spezielle Software: Unabhängig entwickelte Software, intuitive Prozessanimation, detaillierte Daten und Aufzeichnungen
Gleichmäßigkeit: Plasma kann Druck und Temperatur durch Absperrklappen steuern
Sicherheitsfaktor: Geringer Plasmaspiegel reduziert die Schädigung der Produktentladung
After Sales Service: Schnelle Reaktion und ausreichende Bestände
Staubschutz: Erfüllt Kundenanforderungen
Kerntechnologie: Mit fast 30% oder mehr F&E-Teammitgliedern werden die eingesetzten Kernkomponenten unabhängig entwickelt, wodurch das Risiko von Materialknappheit aufgrund von Sanktionen reduziert wird
Wenn Sie mehr wissen wollen, kontaktieren Sie bitte unseren Ingenieur
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