Super sauber tragbarer Laminar-Flow-Schrank Reinraumarbeitsbank H14 Horizontale Reinigungsarbeitsbank

• Anpassung: Verfügbar
• Kapazität: Anpassbar
• After-Sales-Service bereitgestellt: Ingenieure zur Verfügung Service Maschinen im Ausland
• Modell Nr.: SZP
• Zertifizierung: CE, ISO9001
• Verwendung: Forschungsinstitut, Krankenhaus, Schule, Reinraum
• Lärm: ≤62 Dezibel
• Art: Horizontale Schlauch saubere Bank
• Modell-Nr.: Szfm-czl1800
• Luftsauberkeit: ISO5 Level, 100 Level (US-bundesstaaten 209E)
• Beleuchtung: >300lx
• Nennleistung: 800W
• Passen Sie sich der Anzahl der Personen an: Multiplayer einseitig
• Konfiguration unten: 4 Fußtassen / 4 Universalräder
• Lüfter: 2 Sätze von Zentrifugalventilatoren
• Hauptfilter: 2 Tabletten
• Material der Arbeitsplatte: Aus SUS304# Edelstahl
• Luftgeschwindigkeit: 0,45m/s
• Spannung: 220V/50Hz
• Spezifikation der Lampe reinigen: 21W 2 Lampen.
• Das Hauptmaterial: Aus hochwertiger Kaltplattenbackfarbe
• Bedienfeld: Tastentyp, mit Licht, mit Gangdrehzahlregulati
• Tabellenkonfiguration: Zwei Sätze von fünf-Loch-Buchsen
• Transportpaket: Paket exportieren
• Spezifikation: Anpassbar
• Warenzeichen: pharma
• Herkunft: China
• Produktionskapazität: 100 Sätze/Monat

Produktbeschreibung

„Clean Bench“ ist ein Begriff, der in der Halbleiterindustrie für eine saubere und unverschmutzte Arbeitsfläche verwendet wird. Sie ist für den Herstellungsprozess von Halbleiterbauelementen von entscheidender Bedeutung, da schon kleinste Verschmutzungen die Leistung und Zuverlässigkeit des Endprodukts erheblich beeinträchtigen können.

Ein Reinraum besteht typischerweise aus einer festen Oberfläche, wie z. B. einem Tisch oder einer Tischplatte, die mit einem Reinraummaterial wie Edelstahl oder einem hochreinen Polymer bedeckt ist. Die Oberfläche wird dann versiegelt und mit HEPA-Filtern ausgestattet, um Partikel und Verunreinigungen aus der Luft zu entfernen.

Um eine saubere Arbeitsfläche zu erhalten, ist es wichtig, strenge Verfahren zur Vermeidung von Kontaminationen zu befolgen, wie das Tragen von Reinraumkleidung und die Einhaltung von ordnungsgemäßen Handlings- und Lagerprotokollen für Materialien und Geräte. Regelmäßige Reinigung und Wartung der sauberen Werkbank und ihrer Komponenten sind auch für die Aufrechterhaltung einer sauberen und unverschmutzten Arbeitsumgebung von entscheidender Bedeutung.

Zusammenfassend ist eine saubere Werkbank ein entscheidendes Element im Halbleiterherstellungsprozess, um die Produktion hochwertiger und zuverlässiger Halbleiterbauelemente sicherzustellen.
 

 

Modell		HS840	HS1300
Entsprechende Station		Eine Person eine Seite	Zwei Personen auf einer Seite
Luftströmungsrichtung		Vertikal
Funktion	Sauberkeit	Klasse 100
	Effizienz Der Sammlung	≥99,9 % von 0,5um Partikeln
	Kolonienzahl	≤0,5/Gefäß (Petrischale ist φ90mm)
	Windgeschwindigkeit	Anfänglich:0,6(m/s), endg:0,2 (m/s)
	Windgeschwindigkeitsbereich	0,2-0,6 (m/s)
	Geräuschpegel	≤62dB
	Halbschwingungswert	≤3um
	Beleuchtungsstärke (Lx)	≥300LX (Aktivitätszentrum)
	Lager Der Arbeitsfläche	50kg
Zusammensetzung	Innere Kammer	Edelstahlplatte
	Außenhülle	Kaltwalzstahl elektrostatische Sprühen außen
	Bedienklappe	Nein
	HEPA-Filter (mm)	760*610*50 ein Stück	610*610*50 zwei Stücke
	Vorfilter (mm)	760*610*5 ein Stück	610*610*5 zwei Stücke
	Leuchtstofflampe	20W*1	30W*1
	UV-Lampe	20W*1	30W*1
	Unterer Lüfter	300W ein Stück	300W zwei Stück
Steuerung	Anzeigen	LED
	Steuerung Der Windgeschwindigkeit	Intelligent mehrstufig einstellbar
	Zusatzfunktion	Die untere vertikale Einstellung, eine Taste zum Öffnen und Schließen der Beleuchtung Sterilisation
Spezifikation	Innengröße (B*L*H) (mm)	660*650*570	1210*660*570
	Außengröße (B*L*H) (mm)	840*825*1340	1300*810*1440
	Verpackungsgröße (B*L*H) (mm)	1040*1020*1620	1460*990*1570
	Max. Leistung	0,4kW	0,8kW
	Nennstrom (50/60Hz)	AC220V/1,8A	AC220V/3,6A
	NW/GW kg	120/170	170/235