Industrielles Koh Kohlenstofftetrafluorid CF4 Gas

• Anpassung: Verfügbar
• CAS-Nr.: 75-73-0
• Formel: CF4
• Modell Nr.: 99.9%
• EINECS: 200-896-5
• Bestandteil: Reine Industrie Air
• Grade Norm: Industriestandard
• Chemische Eigenschaft: Nicht brennbares Gas
• un-Nummer: 1982
• Versandname: Tetrafluormethan
• Gefahrenklasse: 2.2
• Bezeichnung: Nicht entzündliches Gas
• Allgemeine Beschreibung: Farblos/nicht brennbares Gas
• Mol-Datei: 75-73-0.mol
• Transportpaket: Zylinder
• Spezifikation: 1,603g/cm3(-128º c) 27,330 (cm·mol)
• Warenzeichen: rm/oem
• Herkunft: Qingdao, China
• HS-Code: 2826199090
• Produktionskapazität: 1000 Stück pro Monat

Produktbeschreibung

Anwendung von SF4:
Kohlenstofftetrafluorid ist derzeit die größte Menge an Plasma-Ätzgas in der Mikroelektronik-Industrie. Es ist eine Mischung aus hochreinem Gas und hochreinem Sauerstoff aus Tetrafluorid. Es kann weit verbreitet in der Ätzung von Silizium, Siliziumdioxid, Siliziumnitrid, Phosphor-Siliziumglas und Wolfram-Film Materialien verwendet werden.
Bei Silizium- und Siliziumdioxid-Systemen kann die Selektivität von 45:1 durch die Anpassung des Verhältnisses der beiden Gase mit dem reaktiven Ionenätzverfahren von CF4-h2 erreicht werden, das sehr nützlich für das Ätzen des Siliziumdioxid-Films auf dem polykristallinen Siliziumgatter ist.

Es ist auch weit verbreitet in der Oberflächenreinigung von elektronischen Geräten, Herstellung von Solarzellen, Lasertechnologie, Gasphasenisolierung, kryogene Kühlung, Lecktest-Mittel, Kontrolle der Weltraumrakete Haltung und Reinigungsmittel in der Druckkreisproduktion.

 COA von CF4 Gas

Element	Index
CF4, % (V/V)≥	99,999	99,995	99,99
N2, 10-6 (V/V) ≤	4	20	40
O2, 10-6 (V/V) ≤	1	5	10
CO2, 10-6 (V/V) ≤	1	5	10
CO, 10-6 (V/V) ≤	0,3	0,5	1
SF6, 10-6 (V/V) ≤	1	1	5
H2O, 10-6 (V/V) ≤	1	5	10
HF, 10-6 ≤ (V/V)	0,1	0,3	0,3
TFC (CH2F2,CHF3,C2F3,C3F8),10-6(V/V) ≤	1	10	30
Gesamter Verunreinigungsgehalt, ppm (V/V) ≤	10	50	100

CF4 Spezifikation

Parameter Kritischer Test	Einheit	Unternehmen Spezifikation	Analyse Ergebnisse	Analysemethode
Tetrafluormethan (CF4)	%(V/V)	99,999 % Min	>99,999%	GK
Sauerstoff(O2)	v.ppm	<1,0	<0,2	GK
Stickstoff(N2)	v.ppm	<1,0	<0,6	GK
Kohlenmonoxid (CO)	v.ppm	<0,5	<0,2	GK
Kohlendioxid(CO2)	v.ppm	<0,5	<0,2	GK
Schwefelhexafluorid(SF6)	v.ppm	<0,2	<0,1	GK
Trifluormethan(CHF3)	v.ppm	<0,5	<0,1	GK
Andere Halogenkohlenwasserstoffe (OFC)*	v.ppm	<1,0	<0,7	GK
Gesamtkohlenstoff (THC)*	v.ppm	<0,5	<0,1	GK
Feuchtigkeit(H2O)	v.ppm	<0,5	<0,2	Feuchtigkeitsanalysator
Säure (als HF)	v.ppm	<0,1	<0,08	Säuregerät
Gesamtinhalt Der Verunreinigung	v.ppm	≤10,0	<10,0	GK
Particale (>0.1μm)	pcs/Liter	<10,0	<1,0	ICP-MS

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