Manufacturing Technology: | Optoelectronic Semiconductor |
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Material: | Element Semiconductor |
Type: | Quartz Wafer |
Package: | Customize as Per Demand |
Signal Processing: | Analog Digital Composite and Function |
Application: | Temperature Measurment & Optics Applying |
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Anwenden 1 | Lasersysteme/Laseroptik |
Anwenden 2 | Alle Arten von Sensoren und Chips |
Anwenden 3 | Optische Fenster und Objektiv |
Anwenden 4 | Hochfrequenzschaltung / Mikrowellenschaltung / integrierte Schaltung |
Anwenden 5 | Internet der Dinge |
Technische Daten | Beschreibung Und Wert |
Substrat | Corning 7980, Nikon, Heraeus usw. Quarzglas oder Quarzglas mit Quarzglas |
Größe | 2, 3, 4, 5, 6, 8, 10, 12 Zoll, etc oder anpassen wie pro Anforderung |
Dicke | 0,5, 1, 2, 3, 4, 6,7,8mm, oder anpassen wie pro Nachfrage |
Polieren Von Arbeitsmaskieren | Einflächige Polierung oder doppelflächige Polierung |
Dickenvariation (TTV) | <3um |
PPV | <=20um |
Reinheit von Quarzwafern | 1). Synthetischer Quarzwafer 99,999% 2). Hochreiner Quarzwafer 99,99% |
Quarzwafer-Design | ODM/OEM verfügbar |
Daten | 4 Zoll | 5 Zoll | 6 Zoll | 8 Zoll | 12 Zoll |
Durchmesser | 100 ± 0,1 mm | 125 ± 0,1 mm | 150 ± 0,1 mm | 200 ± 0,1 mm | 300± 0,1 mm |
Dicke | 500 ± 5 um Oder Anpassen |
625 ± 5 um Oder Anpassen |
675 ± 5 um Oder Anpassen |
725 ± 5 um Oder Anpassen |
900± 5 um Oder Anpassen |
Rauheit | RA ≤ 1 nm | RA ≤ 1 nm | RA ≤ 1 nm | RA ≤ 1 nm | RA ≤ 1 nm |
Verzug | ≤ 10um | ≤ 10um | ≤ 10um | ≤ 10um | ≤ 10um |
Planheit | ≤ 3 um | ≤ 3 um | ≤ 3 um | ≤ 3 um | ≤ 3 um |
Oberflächenqualität | 20/10 | 20/10 | 20/10 | 20/10 | 20/10 |
Form | Rund, mit Passkante und Passwinkel | ||||
Fasen | 45 Grad, SEMI Spec; C-Form | ||||
Substrat | Corning, Nikon, Heraeus usw. |
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