5N Halbmond geformte Wolfram W Sputtering Ziel Anpassung

• Application: Electronics, Industrial
• Standard: GB
• Purity: 99.999%
• Alloy: Non-alloy
• Shape: Powder
• Type: Sputtering Target
• Modell Nr.: W-5Ntarget
• Transportpaket: Wooden Box Package
• Spezifikation: 99.999%
• Warenzeichen: rheniumet
• Herkunft: China
• HS-Code: 4301962010
• Produktionskapazität: 10000piece/Year

Produktbeschreibung

Produktbeschreibung

Anwendung:

Hochreine Wolfram-Ziele, hochreine Wolfram-Titan-Legierung Ziele und Wolfram-Silizium-Verbundziele werden in der Regel durch Magnetron Sputtern angewendet, um verschiedene komplexe und leistungsstarke Dünnschichtmaterialien zu produzieren. Da hochreines Wolfram oder ultrareines Wolfram (5 N oder 6 N) eine hohe Beständigkeit gegen Elektronenmigration, hohe Temperaturstabilität und die Fähigkeit, stabile Silizide zu bilden, wird es oft als dünner Film in der Elektronikindustrie als Tor-, Verbindungs-, Übergang- und Barrieretall verwendet. Ultra-hochreines Wolfram und seine Silizide werden auch in ultra-großen integrierten Schaltungen als Widerstandsschichten, Diffusionsbarrieren usw. sowie als Gate-Materialien und Verbindungsmaterialien in Metalloxid-Halbleitertransistoren verwendet. Wolfram-Titan-Legierung Sputterziele werden oft verwendet, um Übergangsmetallschichten von Dünnschicht-Solarzellen zu machen.

 

Spezifikation:

Name	Molekulare Formel	Spezifikation	Größe		Relative Dichte	Korngröße	Fehlerrate
Wolfram-Ziel	W	4N (99,99 %)	Zoll	Mm	≥99 %	≯50µm	0
		5N (99,999 %)	D(6,8,10,12) H(0,25,0,5,0,75)	Durchmesser 150~350 Dicke 6~25
Wolfram Titanium Target	WTi10 WTi20	4N (99,99 %)			≥99 %	≯50µm	0
		4N5 (99,995 %)

 

 Chemische Komponente  

Spezifikationsklasse Chemischer Index			W/(W+Ti)≥99,99 %			W/(W+Ti)≥99,995 %				W≥99,999 %
Gesamte Spurenverunreinigungen			≯100 ppm			≯50 ppm				≯10 ppm
Verunreinigungsindex (ppm)			Max		Typischer Wert	Max		Typischer Wert		Max		Typischer Wert
Radioaktive Elemente	U		-		0,2	0,1		0,05		0,0008		0,0005
	Th		-		0,2	0,1		0,05		0,0008		0,0005
Alkali-Metallelemente	Li		1		0,05	0,02		0,01		0,01		0,003
	Entfällt		5		1	0,5		0,2		0,1		0,05
	K		5		1	0,1		0,05		0,05		0,03
Mo,Re			10		5	10		5		1		0,5
Fe, Cr			10		5	5		3		0,5		0,3
Ca,Si,Cu,Ni,Al,Zn,Sn,Mn,Co,Hg,V			2		1	0,5		0,3		0,2		0,2
P,AS,SE			2		1	0,5		0,2		0,2		0,2
B,Pb,SB,Be,Ba,Bi,CD,Ge,NB,PT,mg,Zr,Au,in,GA,AG			1		0,5	0,5		0,1		0,1		0,1
Alle anderen Einzelelemente			1		0,5	0,5		0,1		0,1		0,1
Gasanalyse (≯, ppm)		O		C			N		H		S
		30		20			20		20		10

 

Je nach Verwendungszweck gibt es unterschiedliche Anforderungen an den Verunreinigungsgehalt von hochreinen Wolfram-Targets und Wolfram-Titan-Targets. Generell muss die chemische Reinheit zwischen 99,99 % und 99,999 % liegen. Wir können auch andere Spezifikationen anpassen, die für die Anwendung nach den Anforderungen des Benutzers geeignet sind.

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