Type: | Metal Target |
---|---|
Shape: | Round/Square |
Certification: | ISO |
Reinheit: | 99,99 % |
Chemische Zusammensetzung: | Tungsten Titanium |
Transportpaket: | Vacuum Packed or Per Customer′s Request. |
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[Anwendung]
Hochreines Wolfram-Ziel, hochreines Wolfram-Titan-Legierung Ziel und Wolfram-Silizium-Verbundziel werden in der Regel durch Magnetron Sputtering hergestellt. Wegen seiner hohen Beständigkeit gegen Elektronentransfer, hohe Temperaturstabilität und Fähigkeit, stabile Silizide zu bilden, wird hochreines Wolfram oder hochreines Wolfram (5 N oder 6 N) häufig in der Elektronikindustrie in Form von dünnen Filmen als Tor-, Übergang-, Übergang- und Barrieretalle verwendet. Ultra-hochreines Wolfram und seine Silizide werden auch in vlsi als Widerstandsschicht, Diffusionsbarriere, Gate-Material und Verbindungsmaterial in MOS-Transistoren verwendet. Wolfram-und Titanlegierung Sputterziele werden oft verwendet, um die Übergangsmetallschicht von Dünnschicht-Solarzellen zu machen.
[Spezifikation]
Name |
Molekulare Formel | Spezifikation |
Größe |
Relative Dichte | Korngröße | Fehlerrate | |
Wolfram-Ziel |
W |
4N (99,99 %) |
Zoll |
Mm |
≥99 % |
≯50µm |
0 |
5N (99,999 %) |
D(2,3,4,6,8,10,12)
H(0,25,0,5,0,75) |
Durchmesser :
50~350
Dicke:
6~25
|
|||||
Wolfram Titanium Target |
WTi10 WTi20 |
4N (99,99 %) |
≥99 % |
≯50µm |
0 |
||
4N5 (99,995 %) |
Chemische Zusammensetzung
Spezifikationsklasse Chemischer Index |
W/(W+Ti)≥99,99 % |
W/(W+Ti)≥99,995 % |
W≥99,999 % |
|||||||||
Gesamte Spurenverunreinigungen |
≯100 ppm |
≯50 ppm |
≯10 ppm |
|||||||||
Verunreinigungsindex (ppm) |
Max |
Typischer Wert | Max | Typischer Wert | Max | Typischer Wert | ||||||
Radioaktive Elemente |
U |
- |
0,2 |
0,1 |
0,05 |
0,0008 |
0,0005 |
|||||
Th |
- |
0,2 |
0,1 |
0,05 |
0,0008 |
0,0005 |
||||||
Alkali-Metallelemente |
Li |
1 |
0,05 |
0,02 |
0,01 |
0,01 |
0,003 |
|||||
Entfällt |
5 |
1 |
0,5 |
0,2 |
0,1 |
0,05 |
||||||
K |
5 |
1 |
0,1 |
0,05 |
0,05 |
0,03 |
||||||
Mo,Re |
10 |
5 |
10 |
5 |
1 |
0,5 |
||||||
Fe, Cr |
10 |
5 |
5 |
3 |
0,5 |
0,3 |
||||||
Ca,Si,Cu,Ni,Al,Zn,Sn,Mn,Co,Hg,V |
2 |
1 |
0,5 |
0,3 |
0,2 |
0,2 |
||||||
P,AS,SE |
2 |
1 |
0,5 |
0,2 |
0,2 |
0,2 |
||||||
B,Pb,SB,Be,Ba,Bi,CD,Ge,NB,PT,mg,Zr,Au,in,GA,AG |
1 |
0,5 |
0,5 |
0,1 |
0,1 |
0,1 |
||||||
Alle anderen Einzelelemente |
1 |
0,5 |
0,5 |
0,1 |
0,1 |
0,1 |
||||||
Gasanalyse (≯, ppm) |
O |
C |
N |
H |
S |
|||||||
500 |
20 |
20 |
20 |
10 |
Je nach Verwendungszweck gibt es unterschiedliche Anforderungen an den Verunreinigungsgehalt von hochreinen Wolfram-Targets und Wolfram-Titan-Targets. Generell muss die chemische Reinheit zwischen 99,99 % und 99,999 % liegen. Wir können auch andere Spezifikationen anpassen, die für die Anwendung nach den Anforderungen des Benutzers geeignet sind.
F: Sind Sie Handelsunternehmen oder Hersteller ?
A: Wir sind Fabrik.
F: Wie lange ist Ihre Lieferzeit?
A: Im Allgemeinen ist es 3-7 Tage, wenn die Ware auf Lager ist. Oder es ist 15-20 Tage, wenn die Ware nicht auf Lager ist, ist es nach
menge.
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