Lab Hochpräzisions-Magnetron-Sputterbeschichtungsanlage Metallbeschichtungssystem

• Anpassung: Verfügbar
• Kundendienst: Online-Service
• Garantie: Ein Jahr
• Modell Nr.: Made-to-order
• Art: Beschichtungsproduktionslinie
• Überzug: Vakuum-Beschichtung
• Substrat: Stahl
• Bescheinigung: CE
• Zustand: Neu
• Probenbühne: durchm. 100mm
• Heiztemperatur: max. 500ºC
• Drehgeschwindigkeit: 1-30rpm Adjustable
• Kammermaterial: Hochreiner Quarz
• Transportpaket: Holzgehäuse
• Spezifikation: Angepasst
• Warenzeichen: rj
• Herkunft: Zhengzhou, China

Produktbeschreibung

Desktop Dual-Target Magnetron Sputtering System
(Modulares Co-Sputtersystem für Advanced Thin-Film Deposition)

 

Wichtige Spezifikationen

Komponente	Parameter
Probenbühne	- Durchmesser: 100-150mm - Heizung: ≤500 (±1) - Rotation: 1-20 U/min einstellbar
Magnetron-Ziele	- Menge: 2× 2-Zoll - Kühlung: Wassergekühlt (10L/min Durchfluss)
Vakuumkammer	- Abmessungen: Φ219mm × 280mm (Edelstahl) - Bildfenster: φ40mm Quarzfenster - Beladung: Front/Top-Opening Design mit  drehbarem Shutter für Target Switching
Stromversorgung	- DC + RF: 1×300W (max.), ≤600V, Reaktionszeit <5ms
Kühlsystem	- Wassertank: 9L Kapazität, 10L/min Durchfluss
Dickenüberwachung	- Genauigkeit: 0.1Å (optional, wassergekühlt)
Vakuumpumpe	- Primär: Drehschieberpumpe (1,1L/s) - Sekundär: Turbo-Molekularpumpe (60L/s, Import-Qualität) - Anschlüsse: KF40 (Einlass), KF16 (Auslass)
Allgemein	- Leistung: AC 220V, 50Hz, 4,5kW insgesamt

 

Funktionen

1. Mehrschichtige Abslattigung
   • Dual-Target-Co-Sputtern mit mechanischem Shutter für sequenzielle/gepulste Abscheidung.
   • Die beheizte Drehbühne gewährleistet die Gleichmäßigkeit der Filme (z. B. bei Legierungs-/Oxidstapeln).
2. Hohe Vakuumleistung
   • Edelstahlkammer (Grunddruck <10^-5 Pa mit empfohlener Pumpe).
   • Kompakte Turbopumpe in Importqualität minimiert den Platzbedarf und hält gleichzeitig die Drehzahl von 60L/s.
3. Prozesssteuerung
   • Optionale  Echtzeit-Dickenüberwachung (0.1Å-Auflösung).
   • Frontlader-Design mit Quarzfenster für die in-situ-Beobachtung.

 

Anwendungen

• Elektronik: Leitfähige/metallische Folien (z. B. Au, Al, Cu).
• Optik: Anti-Reflektions/IR-Beschichtungen.
• Forschung: Mehrschichtige SEM-Proben, keramische dünne Filme (mit RF-Leistung).

 

Technische Hinweise

• Pumpe nicht im Lieferumfang enthalten - kompatibel mit importierten Turbo-Molekularpumpen (z. B. Pfeiffer HiPace 80).
• Erweiterbar: Gepulste DC- oder zusätzliche HF-Leistung für reaktives Sputtern.

 

Warum Dieses System Wählen?
 Platzsparend: Desktop-Design (optimiert für Labore mit begrenztem Platzangebot).
 Flexible Absaugung: Ziele ohne Unterdruck schalten.
 Präzision in Industriequalität: Temperaturregelung bei ±1 Grad, schnelle Abpumpen.
Für OEM-Konfigurationen (z. B. 4-Zielsysteme) wenden Sie sich an unser Engineering-Team.

 

*Hinweis: Alle Spezifikationen entsprechen ISO 9001. Kundenspezifische Gasverteiler (z. B. 4-Kanal-MFC) auf Anfrage erhältlich.