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PVD-Beschichtungslösungen Sputterziele

Anwendung: Luftfahrt, Elektronik, Industriell, Medical, Chemical, Furnace Construction
Standard: GB, LÄRM, ASTM
Reinheit: > 99,95%
Legierung: Nichtlegiertem
Art: Molybdän-Bar
Pulver: nicht Powder

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Hersteller/Werk

Grundlegende Informationen.

Modell Nr.
OEM
Designing Scheme
Qos
Transportpaket
Composite Board Box
Spezifikation
Upon request
Warenzeichen
SNMTCO
Herkunft
China
HS-Code
8486202100
Produktionskapazität
500 Sets/Year

Produktbeschreibung

Snmtco bietet Sputterziele, die die Leistung von dünnen Film Absorberschichten verbessern.

PVD Coating Solutions Sputtering Targets

Unsere Molybdän-Sputterziele kombinieren optimierte Zielgeometrien und Materialeigenschaften für einen effizienten Beschichtungsprozess und beste Sputterergebnisse. Sie werden in einer Vielzahl von Anwendungen eingesetzt, wie Flachbildschirmen, Photovoltaik und großflächigen Beschichtungen. Mit unserer Material- und Anwendungskompetenz und modernsten Verarbeitungstechnologien sind wir der führende Lieferant für CIGS-Hersteller und große OEMs,


PVD Coating Solutions Sputtering Targets

Anwendungsfelder:

  • Rückkontakt in Dünnschicht-Solarzellen
  • Elektrodenmaterial für TFT-LCD-Metallisierung
  • Haftungs- und Barriereschicht für Al- und Cu-Metallisierung für TFT-LCD
 

Vorteile:

  • Vollständig dichtes Material durch spezielle Verformungsprozesse
  • Höhere Nutzungsraten als planare Ziele
  • Hohe Wärmeleitfähigkeit
 
 
Eigenschaften von Molybdän-Rotary Sputtering Ziele
Dichte (bei 20 Grad) > 99,8 % der theoretischen Dichte
Reinheit (ohne Wolfram) > 99,97 Gew.-%
Wärmeleitfähigkeit (bei 20 Grad) 140 W/(m.K)
Zielmaterialdicke Typisch: 10 bis 15 mm
Ziellänge Monolithisch oder auf einem Trägerrohr bis 4 m gebunden
Mikrostruktur Feinkörnig, gleichmäßig (spannungsfrei)

Hohe Nutzungsraten
Rotationsziele bieten eine doppelte oder sogar dreifache Materialausnutzung von planaren Zielen. Rotative monolithische Versionen halten den Rekord: Sie halten ihre Stabilität auch nach einer Zielauslastung von mehr als 75 % aufrecht.
Hohe Wärmeleitfähigkeit
Monolithische Ziele tragen zu einer höheren Produktivität und einer höheren Effizienz für einen schnelleren Beschichtungsprozess bei. Ohne eine niedrig schmelzende Bindungsschicht ermöglichen monolithische Targets die höchsten Wärmeübertragungsraten. Monolithische Drehziele können mit bis zu 30 kW/m Leistung betrieben werden.

Hochwertiges Material

  • Volldichte, gleichmäßige und feinkörnige Mikrostruktur
  • Garantierte Reinheit von mehr als 99,97 % (ohne Wolfram)
  • Ausgezeichnete Wärmeübertragung
  • Geringer Dünnschichtwiderstand möglich (typisch 15 µOhm.cm)
  • Hohe mechanische Festigkeit


 
  • 3,1 Zertifikat (EN 10204) für die 21 kritischsten Elemente
  • GDMS, ICP-OES, AAS, LECO für die Trace- und Ultra-Trace-Analyse
  • Metallographie (Lichtoptische Mikroskopie, SEM) für die mikrostrukturelle Analyse
  • Ultraschallprüfung
PVD Coating Solutions Sputtering Targets
 

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Stammkapital
20000000 RMB
Blumenbeet
101~500 Quadratmeter