Halbleiter-Ionen-Implantation und Plasma-Ätzung Graphitteile

• Type: Graphite Parts
• Composition: C
• Carbon Content: 99.9995
• Grade: Customization
• Forming Way: Isostatic Graphite
• Crystal Morphology: Artificial Graphite
• Transportpaket: Wooden Case
• Warenzeichen: SIAMC
• Herkunft: China
• HS-Code: 681519

Produktbeschreibung

SIAMCs Graphitprodukte werden aufgrund ihrer hervorragenden Hitzebeständigkeit, Wärmeleitfähigkeit, ihres geringen Verunreinigungsgehalts und ihrer Beständigkeit gegen Korrosion durch Ionenstrahlen in Ionenimplantations- und Plasmaätzgeräten weit verbreitet eingesetzt.
Bei der Ionenimplantation wird hochreiner Graphit in Flugröhrchen, verschiedenen Schlitzen, Elektroden, Elektrodenabdeckungen, Kabelkanälen, Und Strahlabschlussvorrichtungen. Diese Komponenten müssen gegen Korrosion durch Ionenstrahlen beständig sein.
Beim Plasmaätzen werden die Komponenten der Plasmareaktionskammer dem Ätzgas ausgesetzt, das zu Kontamination und Korrosion führen kann. Graphit ist jedoch unter extremen Arbeitsbedingungen wie Ionenbeschuss oder Plasma korrosionsbeständig und eignet sich daher ideal für Komponenten von Plasmaätzgeräten wie Graphitelektroden.
Die hochwertigen Graphitprodukte von SIAMC bieten eine ausgezeichnete Leistung und Zuverlässigkeit für Ionenimplantations- und Plasmaätzgeräte und gewährleisten so die Qualität und Effizienz der Halbleiterverarbeitung.