Schwamm Titan Sphäroidization Plasma Spheroidizing Equipment

• After-sales Service: One Site Training and Installation
• Warranty: One Year
• Partikelgröße: D50 50micro
• Sauerstoff: 10ppm
• Temperatur: 3000-10000K
• Transportpaket: Standard Export Package
• Modell Nr.: TJPS
• Spezifikation: Dimension(L*W*H): Various according to the request
• Warenzeichen: Skyline
• Herkunft: China
• HS-Code: 85142000
• Produktionskapazität: 20 Sets/Year

Produktbeschreibung

1. Einleitung

RF Plasma hat die guten Eigenschaften der hohen Energiedichte , hohe Heizungsintensität , Plasma -Lichtbogen von großem Volumen, einfachen Prozess, etc. Auch weil es elektrodeleess  gibt es  keine Verschmutzung auf Produkt durch  Elektrode Verdunstung verursacht.

Prinzip: Inertgas  (Argon) ist ionisiert , um  stabile Plasma -Brenner von Hochtemperatur  -Argon unter der Wirkung von Hochfrequenz  -Stromversorgung sein;  Die Rohstoffe  des Pulvers   werden in den Plasmabrenner  durch Trägergas  (Stickstoff) durch Pulverzufuhr eingeführt, Pulverpartikel   absorbieren viel Wärme , wenn in der Plasmabrenner  der hohen Temperatur und ihre Oberflächen schnell schmelzen ;  Pulver werden  in einem   ungeheuren Tempo in den Reaktor eingebracht und dann werden sie   unter  Inertgas  schnell gekühlt und  unter     der Wirkung der Oberflächenspannung zu kugelförmigem Pulver verfestigt; und Pulver werden  im  Kollektor gesammelt.

 

2.  Funktionen

1. Hohe Heiztemperatur , schnelle Abkühlgeschwindigkeit und  keine Elektrodenverschmutzung ;

2. Reagierende Materialien , die  dynamisch im Plasma verteilt werden, Agglomeration   und Wachstum  von Pulver vermeiden, geeignet zum Schmelzen und Sphäroidisieren;

3. Herstellung von Pulver aus hochschmelzenden Metall   und Oxid, wie  Mo, Ti, W, WC,  Aluminiumoxid , Siliziumoxid , Zirkoniumoxid  usw.

4. Regelmäßige Pulverform  mit Sphäroidisationsrate   von über 90%; glatte und helle Oberfläche; gute Fließfähigkeit; und zunehmende Pulverkompaktheit  und Schüttdichte .

 

3. Technische Parameter

1.  Gesamtleistung : 100kW;

2.  RF -Brenner: 100kW, 3MHz;

3.  Kapazität: 3-4kg/h;

4.  Ultimativer Vakuumgrad : 8*10-2PA;

5.  Gesamtleistung  der  gesamten Ausrüstung: 150kW.

 

4. Anlagenstrukturen

 

     Die Produktionsanlagen für HF-Plasmasphäroidisierungspulver bestehen hauptsächlich  aus den folgenden Teilen:

1.  RF Plasma -Taschenlampe;

2.  RF Plasma -Stromversorgung ;

3.  Gas - und Pulverfütterungssystem  ;

4.  Reaktor-Kollektor  und Halter;

5. Vakuumpumpsystem  ;

6. Elektrisches Steuer - und Messsystem ;

7. Wasserkühler  ;  

Skyline Plasma Sphäroidization Equipment für verbesserte Metall-Pulver-Flow und Packungseigenschaften

Um optimale Fließeigenschaften und eine hohe Packungsdichte zu erreichen, sollte ein ideales Additive Manufacturing (AM) Metallpulver hochkugelförmig sein und keine Satelliten aufweisen. Aspherical Partikel haben ein minimales Verhältnis von Oberfläche zu Volumen, was im Prinzip einen zusätzlichen Vorteil der reduzierten Oberflächenkontamination, z.B. Sauerstoffaufnahme, bringt. Eine erhöhte Partikelsphärizität kann die Pulverzufuhr verbessern, was zu glatteren Schichten, verbesserter Packungsdichte, erhöhter Wärmeleitung im Pulverbett und einem verbesserten Schmelzprofil führt. Die Erzeugung einer Komponente durch AM, auch bekannt als Metal 3D Printing, basiert auf dem Aufbau des endgültigen Designs durch eine Reihe von vielen tausend Schichten. Während verschiedene Metallpulver je nach der geforderten Leistung des Endteils ausgewählt werden können, ist ein reproduzierbares Verhalten des Pulvers während des gesamten Prozesses der Schlüssel für einen erfolgreichen Aufbau.

Plasmasphäroidisierung
Grundsätzlich kann jedes metallische Pulver plasmabehandelt werden, um die Durchfluss- und Verpackungseigenschaften von niederkugeligen, unregelmäßigen, schwammartigen, agglomerierten und kantigen metallischen Pulvern zu verbessern, die mit anderen Methoden wie Wasserzerstäubung, chemischen und mechanischen Prozessen und Standardgaszerstäubung hergestellt werden.  Diese Fallstudie stellt die Ergebnisse des Plasmaspheroidizierungsverfahrens von Skyline zu Morphologie , Fließverhalten und Verpackungseigenschaften von drei verschiedenen metallischen Pulvern vor - reinem Wolfram (W), Ti6Al4V und reinem Tantal (Ta).
Schlußfolgerung Der Plasmaspheroidisation
Morphologie und Packungsdichte haben einen signifikanten Einfluss auf die Qualität der Pulverschicht und das Schmelzverhalten, je nach Abscheidesystem.  Die Plasmasphäroidisierung bei Skyline hat sich als effektive Methode zur Steuerung der Form, des Durchflusses und der Verpackungseigenschaften gemäß definierter Spezifikationen für eine Reihe von metallischen Pulvern erwiesen, um eine zuverlässige, reproduzierbare Leistung zu liefern. Wir bei Skyline verfügen über eine umfassende Expertise in der METALLVERARBEITUNG und umfangreiche Erfahrung in der Zusammenarbeit mit führenden Unternehmen in der Luft- und Raumfahrt, der Biomedizin und der Automobilindustrie. Wir nutzen dieses Wissen und die Fähigkeiten der Plasmatechnologie, um Lösungen für eine Vielzahl von Branchen und AM-Plattformen bereitzustellen.

Vorteile der Plasmasphäroidisierung

1. Ultra-Hochtemperatur: Es macht es möglich, Hochtemperatur-feuerfeste Metallpulver, das nicht durch traditionelle Gaszerstäubung vorbereitet werden kann.
2. Das Reaktionsmaterial wird dynamisch im Plasma dispergiert, was die Agglomeration und das Wachstum des Pulvers, das für die Herstellung von Mikro- und Nanomaterialien geeignet ist, vermeiden kann.
3. Kein Kaltzerstäubungsmedium: Um die Bildung von Unregelmäßigkeiten von geschmolzenen Partikeln durch schnelle Abkühlung zu vermeiden.
4. Das vorbereitete Material hat die Eigenschaften einer gleichmäßigen Partikelgrößenverteilung, hoher Reinheit, hoher Sphärizität, guter Fließfähigkeit, niedrigem Sauerstoffgehalt, Und keine Satelliten-/Hohlkugeln.

Über Skyline