• 4N Nickel Ni Sputterziel für Infrarot-Detektoren Halbleiter
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4N Nickel Ni Sputterziel für Infrarot-Detektoren Halbleiter

Art: Metall Ziel
Gestalten: Runden
Zertifizierung: ISO
Zertifikat: tüv/sgs/ce/rohs
Rekrutierung: Distributor
Probe: Bereitstellen

Kontakt Lieferant

Diamond-Mitglied Seit 2018

Lieferanten mit verifizierten Geschäftslizenzen

Hersteller/Werk

Grundlegende Informationen.

Modell Nr.
XK-Ni
moq
1pcs
Verkehr
dhl/ups/Fedx/
Lieferung
5-10days
Herkunft des Landes
china
Material
Nickel
Größe
Angepasst
Transportpaket
Vacuum Sealed
Spezifikation
customized
Warenzeichen
no
Herkunft
china
HS-Code
8486909900
Produktionskapazität
1000PCS/Year

Produktbeschreibung

Nickel/Ni  Sputtering-Zielmerkmale :

Chemische Zusammensetzung: Reines Ni

Verfügbare Reinheit: 3N5-4N5

Produktionstechnik: EB-Schmelzen

Formen: Planare Ziele, rotierende Ziele

Durchschnittliche Korngröße: < 100um  


Nickel Sputtering Target werden durch Schmelztechnologie produziert, es wird normalerweise für Infrarotdetektoren und magnetische Datenspeicherfeld angewendet. Hochreines Nickel wird normalerweise für Halbleiterfelder verwendet. Mit bis zu 5N Reinheit, gleichmäßiger Korngröße und geringerem Gasgehalt können Endverbraucher während des PVD-Prozesses konstante Erosionsraten sowie eine hochreine und homogene Dünnschichtbeschichtung erzielen.

Unternehmensprofil:

Seit 2014

Spezialisiert auf hochreine Sputterziele.

Führender Hersteller von Sputtermaterialien in China.

Qualifizierte die Weltzertifikate wie ISO9001:2008 und SGS.

Umfassend in Forschung und Entwicklung, Fertigung und Vertrieb von Dünnschichtmaterialien.

Export in mehr als 15 Länder in Europa, Südostasien, Südamerika und Gebieten, etc.
4n Nickel Ni Sputtering Target for Infrared Detectors Semiconductors4n Nickel Ni Sputtering Target for Infrared Detectors Semiconductors

UNSER VORTEIL

1, viele Jahre Herstellung & Export Erfahrung.

2 Strict & Complete QC-System

3, perfekte After-Sale-Systerm

4n Nickel Ni Sputtering Target for Infrared Detectors Semiconductors
 
UNSERE PRODUKTE    

*Metallziel : W, Mo, Ta, NB, Cu, V, Ni, Ti, Fe, Al, Zr, Co, Au, AG, PT usw.

*Ziel der Legierung: NiFe, NiCr, NIV, CuNi, TiAl, CoCr,  Cofe, WTI, CoTaZr, CuInGa, ZnSn, CuZn, Usw.

*Keramikziel : TiO2,Al2O3,Ta2O5, ZrO2,SiC,SiO,SiO2, ITO, GZO, AZO, WS2, MoS2, Ga2O3, HfO2 usw.

* Verdampfungsmaterialien : Crucible, Pellets, Granulat, Stücke, etc

* Trägerplatte: Cu, Mo, SS, etc

*Binding Service: Indium, Elastomer     
 4n Nickel Ni Sputtering Target for Infrared Detectors Semiconductors                   
VERPACKUNG UND LIEFERUNG
 
Verpackungsdetails:
Innen: Trocknungsmittel und Vakuum versiegelt, um Oxidation zu verhindern
Außen: Holzkoffer, um Beschädigungen beim Transport zu vermeiden

 
Lieferdetails: Innerhalb von 3-15 Werktagen .
DHL, FedEx, UPS Tür-zu-Tür-Service, 5-7 Tage von China in Ihr Land.
 
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UNSER ZERTIFIKAT

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UNSER FEEDBACK


Wir sind rekuriting Vertretungen in verschiedenen Ländern und Gebieten, kontaktieren Sie bitte, wenn Sie Interesse an der Beschaffung aus unserer Fabrik sind.
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