• Hochreines Vanadiumplatte 99,5 %-99,95 % Metall-Vanadium-Sputterziel für PVD-Prozess
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Hochreines Vanadiumplatte 99,5 %-99,95 % Metall-Vanadium-Sputterziel für PVD-Prozess

Material: Vanadium
Anwendung: Vacuum Coating, Surface Treatment,
Form: Rund, rechteckig, Pellets
Lieferzeit: 15-18days
Schlüsselwörter: Vanadium-Platte, Vanadium-Sputtertarget
Größe: Als Ihre Anfrage

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Hersteller/Werk
  • Überblick
  • Produktbeschreibung
  • Unternehmensinformationen
  • FAQ
Überblick

Grundlegende Informationen.

Modell Nr.
XK- V 02
Reinheit
99.9%,99.95%
Hauptanwendung
Vakuumbeschichtung, Oberflächenbehandlung, Dekoration
Chemische Zusammensetzung
v
moq
1pc
Produktname
xk-Vanadium-Platte
Technologie
Schmelzen
Paket
Vakuumpaket
Zertifikat
ISO9001:2015 Uhr
Transportpaket
Vacuum Sealed Package Inside; Wooden Case Outside
Warenzeichen
XinKang
Herkunft
Hunan, China
Produktionskapazität
100000 Kilogram/Kilograms Per Month

Produktbeschreibung

Produktbeschreibung
 

 

Produktname Vanadiumplatte
Verfügbare Reinheit 99,5%min., wie Sie es wünschen
Verfügbare Form Rund, rechteckig, Pellets
Größe Wie pro Ihre Anfrage
Technologie Schmelzen
Angebot Wir sind Fabrik und können nach Kunden Legierung Verhältnis roch. Für weitere Informationen wenden Sie sich bitte an den Verkaufsleiter (der Titelpreis dient nur als Referenz, bitte fragen Sie den Vertrieb nach einem bestimmten Angebot)
Anwendung Vakuumbeschichtung, Prozess, Dekoration, LED, Semi,
Zugehörige Produkte W, Mo, Ta, NB, Ti, Ni, Zn, Cu und etc

 

Unternehmensinformationen
High Purity Vanadium Plate 99.5%-99.95% Metal Vanadium Sputtering Target for PVD Process
High Purity Vanadium Plate 99.5%-99.95% Metal Vanadium Sputtering Target for PVD ProcessHigh Purity Vanadium Plate 99.5%-99.95% Metal Vanadium Sputtering Target for PVD ProcessHigh Purity Vanadium Plate 99.5%-99.95% Metal Vanadium Sputtering Target for PVD ProcessHigh Purity Vanadium Plate 99.5%-99.95% Metal Vanadium Sputtering Target for PVD ProcessHigh Purity Vanadium Plate 99.5%-99.95% Metal Vanadium Sputtering Target for PVD ProcessHigh Purity Vanadium Plate 99.5%-99.95% Metal Vanadium Sputtering Target for PVD ProcessHigh Purity Vanadium Plate 99.5%-99.95% Metal Vanadium Sputtering Target for PVD ProcessHigh Purity Vanadium Plate 99.5%-99.95% Metal Vanadium Sputtering Target for PVD ProcessHigh Purity Vanadium Plate 99.5%-99.95% Metal Vanadium Sputtering Target for PVD Process


 
FAQ

 

1.sind Sie Handelsunternehmen oder Hersteller?

 Xinkang:Wir sind ein professioneller Hersteller, der seit über 10 Jahren auf diesem Gebiet spezialisiert ist.

 

2.wie lange ist Ihre Lieferzeit?

 Xinkang: Versand kann in 3-5days für die regelmäßige Größe oder Proben und 15 Tage für Batch-Menge gemacht werden.

 

3.Haben Sie MOQ?

Xinkang: Nein, wir unterstützen Proben.

 

4.Was ist Ihre Zahlungsmethode?

 Xinkang:T / T im Voraus, Paypal, Western Union und etc.

 

 

Willkommen, uns jederzeit zu kontaktieren!

 

 

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