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PVD Dünnschichtmaterial Bormagnetron Sputtering Target für die Beschichtung Maschine

Art: Nicht metallisches Ziel
Gestalten: Runden
Zertifizierung: TÜV, ISO, CE
Material: Bor
Reinheit: 99,5 %-99,9 %
Größe: Angepasst

Kontakt Lieferant

Diamond-Mitglied Seit 2018

Lieferanten mit verifizierten Geschäftslizenzen

Hersteller/Werk

Grundlegende Informationen.

Modell Nr.
XK-B
moq
1 st.
Kostenlose Probe
Akzeptieren
Verpackung
Holzgehäuse
Zertifikat
Geben Sie für jedes Ziel an
Verkehr
Per Express
Lieferung
5-10 Tage
Transportpaket
Vacuum Sealed
Spezifikation
customized
Warenzeichen
no
Herkunft
China
HS-Code
8486909900
Produktionskapazität
1000 PCS/Year

Produktbeschreibung

 Dünnschicht-Beschichtungsmaterialien Borsputtertarget  
 

Unsere Fabrik liefern hohe Qualität Al2O3, SiO2, Si3N4, SiC, Nb2Ox, TiOx, ITO, AZO Sputterziele sowie viele andere Verbundmaterialien. Da keramische Sputterziele sehr empfindlich sind und eine sehr schlechte Wärmeleitfähigkeit aufweisen, wird sie normalerweise mit Kupferrückplatte durch Indium oder Elastomer verbunden, um die Lebensdauer zu verlängern.

Sintertechnologie werden verwendet, um keramische Sputterziele zu produzieren, kann die Form rund und rechteckig sein.für runde Ziel kann der Durchmesser 1" bis 14" sein, während Dicke 3mm bis 6,35mm sein kann, kann spezielle Größe angepasst werden. Für rechteckige Zielfläche, monolithische oder mehrere Fliesen Konstruktion wird abhängig von der Größe geliefert werden.

PVD Thin Film Material Boron Magnetron Sputtering Target for Coating Machine

Funktionen

Chemische Zusammensetzung: B

Verfügbare Reinheit: 3N

Produktionstechnik: Pulvermetallurgie

Formen: Planare Ziele

Verfügbare Größe: Rundes Ziel, Durchmesser ≤ 14", rechteckiges Ziel, nach Ihren Anforderungen

Für diese Materialien wird Indium-Verklebung empfohlen

Vorteile: Gleichmäßige Farbe, glatte Oberfläche, keine Risse, kein Absplittern, keine Fremdeinschlüsse und Verunreinigungen.  
PVD Thin Film Material Boron Magnetron Sputtering Target for Coating Machine

Unternehmensprofil:
 

Seit 2014

Spezialisiert auf hochreine Sputterziele.

Führender Hersteller von Sputtermaterialien in China.

Qualifizierte die Weltzertifikate wie ISO9001:2008 und SGS.

Umfassend in Forschung und Entwicklung, Fertigung und Vertrieb von Dünnschichtmaterialien.

Export in mehr als 15 Länder in Europa, Südostasien, Südamerika und Gebieten, etc.
PVD Thin Film Material Boron Magnetron Sputtering Target for Coating Machine

UNSER VORTEIL

1, viele Jahre Herstellung & Export Erfahrung.

2 Strict & Complete QC-System

3, perfekte After-Sale-Systerm

PVD Thin Film Material Boron Magnetron Sputtering Target for Coating Machine
UNSERE PRODUKTE
PVD Thin Film Material Boron Magnetron Sputtering Target for Coating Machine

UNSERE FABRIK
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