• Professionelle Herstellung Hochreine Runde Kobalt Metall Kobalt Sputtering Ziel Mit niedrigem Preis
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Professionelle Herstellung Hochreine Runde Kobalt Metall Kobalt Sputtering Ziel Mit niedrigem Preis

Shape: Rectangle, Round, Rotary
Certification: ISO
Verwendung: pvd-Beschichtung
Größe: Benutzerdefiniert akzeptieren
Farbe: Silberweiß
Reinheit: Hohe Reinheit

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Diamond-Mitglied Seit 2018

Lieferanten mit verifizierten Geschäftslizenzen

Hersteller/Werk

Grundlegende Informationen.

Modell Nr.
XK-Co
Grad
Industriequalität
Hauptmarkt
Weltweit
Chemische Zusammensetzung
Co
Aussehen
Shinny
moq
1 st.
Name
Co-Ziel
Produktname
Ziel für Kobaltsputtering
Transportpaket
Vacuum Sealed Package Inside
Spezifikation
customized
Warenzeichen
XK
Herkunft
Hunan, China
HS-Code
84869090
Produktionskapazität
1000 Piece/Pieces Per Month

Produktbeschreibung

Produktbeschreibung

                                               Dünnschicht -Beschichtungsmaterialien 99,95 % Kobalt/Co Sputterziel

Kobalt ist eines der am weitesten verbreiteten Metalle der Welt. Er hat eine Dichte von 8,89 g/cc, einen Schmelzpunkt von 1.495 Grad und einen Siedepunkt von 2.870 Grad Es ist ein glänentes, hartes Metall, das grau in Erscheinung und charakteristisch ferromagnetisch ist. Eine seiner beliebtesten Anwendungen ist als blaues Pigment in Farbe, Schmuck und Glas gefunden. Es wird oft mit anderen Metallen legiert, um Motorteile und Schneidwerkzeuge zu machen. Die beiden wichtigsten Vakuumanwendungen sind als ferromagnetische Schicht bei der Herstellung magnetischer Speichermedien und als Übergangsschicht bei der Batterieherstellung.

Produktname

Kobalt (Co) Sputterziel

Verfügbare Reinheit (%)

99,95 (3N5)

Form

Rechteck, Rund, Drehbar

Größe

Als Ihre Anfrage

Schmelzpunkt()
1495
Dichte (g/cm³)

8,89

Siedepunkt()
2870
Technologie
Vakuumschmelze, patentierter thermomechanisches Verfahren und Maschinenarbeiten
Anwendung
Halbleiter, Mikroelektronik und magnetische Datenspeicherung usw.
Prozess

Dank der speziellen Umformverfahren, die wir verwenden, erreicht die tatsächliche Dichte der Sputterziele fast 100 %. Unsere Kunden profitieren von einem schnelleren Prozess durch höhere Sputtergeschwindigkeiten. Unsere Produktionsprozesse für Kobalt Sputtering Target sind:

Professional Manufacturing High Purity Round Cobalt Metal Cobalt Sputtering Target with Low Price
Analyse

Die von uns produzierten Cobalt Sputterziele sind hochrein. Die wichtigsten Vorteile sind, dass Ihre Filme eine hervorragende elektrische Leitfähigkeit und eine minimale Partikelbildung während des PVD-Prozesses aufweisen. Das folgende Formular ist ein typisches Analysenzertifikat für das hochreine Kobalt-Sputterziel 3N5.

Analysemethoden:
1. Metallische Elemente wurden mit GDMS analysiert.
2. Gaselemente wurden mit LECO analysiert.  

Professional Manufacturing High Purity Round Cobalt Metal Cobalt Sputtering Target with Low Price
Verpackung Und Lieferung
Verpackung
Vakuumversiegeltes Paket innen; Holzgehäuse außen für 99,95 % Kobalt/Co-Sputterziel
Lieferung
15-20 Tage nach Bestellung des Ziels 3N5 Kobalt/Co, das Sputtering anvisierte, 99,95 %
Professional Manufacturing High Purity Round Cobalt Metal Cobalt Sputtering Target with Low Price
Versand
Professional Manufacturing High Purity Round Cobalt Metal Cobalt Sputtering Target with Low Price
Zertifizierungen
Professional Manufacturing High Purity Round Cobalt Metal Cobalt Sputtering Target with Low Price
Hauptgeschäft
Professional Manufacturing High Purity Round Cobalt Metal Cobalt Sputtering Target with Low Price
Professional Manufacturing High Purity Round Cobalt Metal Cobalt Sputtering Target with Low Price
Unsere Fabrik
Professional Manufacturing High Purity Round Cobalt Metal Cobalt Sputtering Target with Low Price
Professional Manufacturing High Purity Round Cobalt Metal Cobalt Sputtering Target with Low Price
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Zertifizierung des Managementsystems
ISO 9001, ISO 14001