• Hochpräzise Siliziumkarbid Wafer Oberflächenpoliergeräte
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Hochpräzise Siliziumkarbid Wafer Oberflächenpoliergeräte

After-sales Service: 12months
Warranty: 12months
Typ: Surface Grinding Machine, Surface Grinding Machine
Objekt wird verarbeitet: Flat Workpieces, Shenzhen Pangda Laboratory High Precision Silicon
Schleifmittel: Grinding Wheel, Grinding Wheel
Steuerungsmodus: PLC, CNC

Wenden Sie sich an den Lieferanten

Hersteller/Werk & Handelsunternehmen

360° virtueller Rundgang

Diamond-Mitglied Seit 2021

Lieferanten mit verifizierten Geschäftslizenzen

Guangdong, China
Zusammenarbeit mit Fortune 500
Dieser Lieferant hat mit Fortune-500-Unternehmen zusammengearbeitet
Jahrelange Exporterfahrung
Die Exporterfahrung des Lieferanten beträgt mehr als 10 Jahre
Erfahrenes Team
Der Lieferant verfügt über 15 ausländische Handelsmitarbeiter und 13 Mitarbeiter mit über 6 Jahren Erfahrung im Auslandshandel
F&E-Fähigkeiten
Der Lieferant verfügt über 10 Forschungs- und Entwicklungsingenieure. Weitere Informationen finden Sie unter Audit Report
, um alle verifizierten Stärkelabels (26) anzuzeigen.

Grundlegende Informationen.

Modell Nr.
FD-4601P
Automatische Sorte
Semiautomatic, Semiautomatic
Cylindrical Grinder Type
Oberflächenschleifmaschine
Präzision
High Precision, High Precision
Zertifizierung
ISO 9001, ISO 9001
Bedingung
New, New
Kundendienst
Ingenieure zur Wartung von Maschinen im Ausland
Service
Übersee-Einrichtung & After-Sale verfügbar
Klasse
Schleifen
Prozessstation
1
Abrasiv
Recycelbares Wasser und Schleifscheibe
Werkstückgenauigkeit (Parallelität)
1um
Leistung des Schleifscheibenmotors
5,5kW
Transportpaket
Wood Crate
Warenzeichen
PONDA
Herkunft
China
Produktionskapazität
500 Unit/Year

Produktbeschreibung

Warum Ponda?
Ponda hat profunde Erfahrung mit Läppen, Polieren und Ausdünnen. Wir lieferten bisher mehr als 60, 000 Lösungen für Lapping-Prozesse und -Geräte in den Branchen Maschinen, Elektronik, Luft- und Raumfahrt, Luftfahrt, Automobil, Atomenergie, Optik; die Stoffe von Metall, SiC-Wafer, Keramik, Glas, Industrie-Saphir, Kunststoffe und andere Verbundwerkstoffe.
ProdukteW
High Precision Silicon Carbide Wafer Surface Polishing Equipment
Anwendungsbereich:
Weit verbreitet in LED-Saphir-Substrat, alle Arten von keramischen Produkten, Quarz Wafer, Silizium Wafer, Germanium Wafer, Molybdän Wafer, Siliziumkarbid, Lithium-Tantalat und andere Materialien einseitig polieren.



Geräteprinzip:
Die Poliermaschine ist eine Präzisionspoliermaschine, das Polierprodukt wird auf die Polierscheibe gelegt, die Polierscheibe dreht sich gegen die Uhr, das Werkstück dreht sich selbst, das Werkstück wird durch den Zylinderdruck gepresst, Und das Werkstück ist relative Drehreibung mit der Polierscheibe, um den Zweck des Polierens zu erreichen.
 
Konfiguration und Vorteile:
1. Automatische Zirkulation Flüssigkeit Zufuhr System angenommen wird.
2, der Werkstückdruck mit Zylinderdruck, der Druck ist einstellbar; der Zylinder hat die Funktion der Verhinderung von Luftverlust, um die Sicherheit von Personen und Ausrüstung zu gewährleisten.
3, mit PLC+ Touchscreen-Steuerungssystem, die Drehzahl der Scheibe, Luftdruck und Timing kann direkt auf dem Bedienfeld eingegeben werden.
4, die Ausrüstung ist eine Station (einschließlich einer Menge von Zylinderdruck) eingerichtet, kann Polieren 1 Gruppe von Produkten zur gleichen Zeit.
5, mit Wasserkühlung, kann die Polierflüssigkeit kühlen.
6, mit dem Scheibenoberfläche Temperaturmesssystem, kann Echtzeit-Temperaturmessung der Scheibenoberfläche, bequeme Temperaturregelung, effektiv verhindern, dass die Temperatur des Produkts durch übermäßige Schäden verursacht.
7. Die Oberfläche des polierten Werkstücks hat die Eigenschaften von hoher Helligkeit, kein Kratzer, kein Materialkorn, kein Lochfraß, keine zusammenbrechende Kante, Usw.
High Precision Silicon Carbide Wafer Surface Polishing Equipment

ANWENDUNG
Prozess Industrie nach Substanz Branche nach Anwendbarkeit
Hoch
Geschwindigkeit
Schleifen
Und Ausdünnung
Metall Und Legierung
Keramik
Oxid
Hartmetall
Glas
Kunststoff
Naturstein
Abdichtung Dichtring (Flüssigkeit, Öl, Gas)
Halbleiter Substrat (Al2O3, Si, SiC, Ge, Ge-Si, Gan, GaAs, GaAsAl, GaAsP, InSb, ZnO, AlN) in Wafer, LED usw. verwendet
Kunststoff Hartplastik
Optik (flach) Optische Linse, optischer Reflektor, Holographisches Glas, HUD Glas, Siebglas
Edelstein jade, Saphir, Achat, etc.
Andere Messblock, Mikrometermessgerät, Reibplatte, Metallkomponenten und jede andere präzise Hardware.
*HINWEIS: Spiralstreifen erscheint nach dem Schleifen und Ausdünnen mit hoher Geschwindigkeit. Um es zu vertreiben, braucht man einen Lap oder Polieren.


SPEZIFIKATION
Standardspezifikation
Maschinenmodell FD170T FD220T FD320T FD450T
Stationsdurchmesser   Φ150 mm / 6 Zoll Φ220 mm / 8 Zoll Φ320 mm / 12 Zoll Φ460 mm / 18 Zoll
Max. Werkstückabmessung Φ150×30 mm Φ220×50 mm Φ320×50 mm Φ460×50 mm
Prozessdicke 50μm≤N 75μm≤N 95μm≤N 120μm≤N
Auflösung Des Gitrates 0,5 μm 0,5 μm 0,5 μm 0,5 μm
Nummer der Station 1 1 1 1
Drehgeschwindigkeit Des Rades   0-3000 U/min 0-3000 U/min 0-3000 U/min 0-3000 U/min
Drehgeschwindigkeit Der Station 0-300 U/min 0-300 U/min 0-300 U/min 0-300 U/min
Gesamtgewicht 650 kg 850 kg 900 kg 920 kg
Gesamtfläche 1200×550 mm 1150×1200 mm 1150×1200 mm 1150×1200 mm
Integrierte Optionale Kits
Grad Standard Erweitert
Slurry Recycle System - Integriert mit SPS
Abrichtungssystem - Integriert mit SPS
Station Wird Repariert Mechanische Befestigung Pneumatische Vakuumbefestigung
Spindel Mechanisch Pneumatisch
*HINWEIS: Die optionalen Kits auf der Grundlage der Produktionsanforderungen, Herstellung von Proben können bestätigen, wenn sie notwendig sind.


BEISPIELVORFÜHRUNG (AUSDÜNNUNG)
High Precision Silicon Carbide Wafer Surface Polishing Equipment

High Precision Silicon Carbide Wafer Surface Polishing Equipment
Patent
High Precision Silicon Carbide Wafer Surface Polishing Equipment

Über das Unternehmen

High Precision Silicon Carbide Wafer Surface Polishing Equipment

Ponda ist ein High-Tech-Unternehmen, das sich auf alle Arten von hochpräzisen Schleifmaschinen, Poliergeräten und deren unterstützenden Produkten und Verbrauchsmaterialien spezialisiert hat
Wir haben eine Produktionswerkstatt und Prüfgeräte, Montagearbeiter und mechanische Konstruktion engineers45 Personen

Lieferung und Verpackung
Packvorschrift: Verpackung, 1 / Holzkiste.

High Precision Silicon Carbide Wafer Surface Polishing Equipment
High Precision Silicon Carbide Wafer Surface Polishing Equipment
Häufig gestellte Fragen

Q1: Welche Maschine ist für mein Produkt am besten geeignet?
A: Es hängt in der Regel von 5 Anforderungen und Parameter Ihres Produkts:  Planheit,  Rauheit,  Dicke,  Dimension,  Produktivität:
1.  Wenn bessere Ebenheit und Rauheit erforderlich waren, könnten Sie sowohl Läppen und Poliermaschine benötigen.
2.  Wenn Sie das Produkt in einem großen Rand, wie 500μm, zu verdünnen, könnten Sie eine dünnere Maschine für extra benötigen.
3.  Wenn die Produktivität übertrieben war, benötigen Sie möglicherweise größere Maschine oder Produktionslinie zu erweitern.
Darüber hinaus können wir die Produktionslinie bestätigen, da wir Muster für Sie herstellen.

Q2: Stellt Ponda Gebühren für die Probenherstellung?
A: Nein, es ist kostenlos, Proben zu machen.
Q3: Ist Ponda Händler oder Hersteller?
A: Wir sind Hersteller, zertifiziert  National High-Tech Enterprise.
Q4: Wie lange dauert die Lieferung der Maschine?
A: Ca. 15 Tage zu liefern. Wenn die Maschine nicht vorrätig ist, benötigen wir 15 Tage mehr für die Herstellung.
Q5: Bietet Ponda den Übersee-Setup und After-Sale-Service an?
A: Ja, wir bieten Übersee-Service und Online-Tutorial.
Q6: Wie viele Maschinentypen stellt Ponda her?
A: Wir haben 21 große Serien von Maschinen, 5 verschiedene Typen laufen in verschiedenen Prinzipien, mehr als 15 Arten von Platten, 100 Arten von Schlämmen.  

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