Laborc$e-träger Verdampfung-Anstrichsystem mit thermischer Widerstand-Funktion

Merkmale:

*TEMD500 Vakuum6-pocket E-trä Ger Verdampfung-System  Hat die Eigenschaften des hohen Vakuums, der schnellen pumpenden Geschwindigkeit und des bequemen Substratflä Cheladens und des -c$aus dem Programm nehmens

*Equipped mit E-Typen Elektronenstrahl-Verdampfungquelle und 2 Sets von den thermischen Verdampfungquellen, vom Onlineschichtstä Rkenmonitorsystem und von der wahlweise freigestellten Ionquellreinigungs- und Zusatzabsetzungeinheit

*It hat die Vorteile der konstanten Filmentstehung, des kleinen Outgassing und der Uniformtemperatur. Zusä Tzlich zur Dampfabsetzung der herkö Mmlichen niedrigen Schmelzpunktmetalle, kann TEMD500 vapor auch refraktä Re Metalle der Ablagerung und Nichtmetalloxide und Legierungen und andere Materialien, die verwendet werden kö Nnen, um photo-voltaische Filme, Halbleiterelementfilme, ferroelectric Filme vorzubereiten, ETC…
 
Technische Parameter:
Gerä Ten-Name:       E-Trä Ger Verdampfer
Modell:                           TEMD500
Raum-Zelle:         Vertikale zylinderfö Rmige seitliche Klappenstruktur, hinteres Pumpsystem
Raum-Grö ß E:               Φ 500× H650mm
Glü Htemperatur:                       Raumtemperatur zu 300º C
Drehender Substratflä Che-Halter:               Flachplatte Φ 200mm
Schichtstä Rken-Ungleichmä ß Igkeit:         ≤ ± 5.0%                   
Verdampfung-Quelle:         4~6 Hö Hletiegel (wahlweise freigestellte) /2 Gruppen Verdampfungquellen
Steuermethode:               Steuerung PLC-Control/IPC (wahlweise freigestellt)
Besetzter Bereich:                 (Groß Rechner) L1500× W850× H1750mm
Energie:                               ≥ 20kW
Wahlweise freigestellt:                                                     Kaufman-Ionenquelle, Schichtstä Rkenmonitor, Luft kü Hlte Kü Hler, Luftverdichter ab