• Hohe Wärmeleitfähigkeit Aluminiumnitrid Keramikwafer für Halbleiter
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Hohe Wärmeleitfähigkeit Aluminiumnitrid Keramikwafer für Halbleiter

Application: Aerospace, Electronics, Medical, Refractory
Type: Ceramic Ring
Volumenwiderstand: 1.4*10(14) Ω.Cm
Biegefestigkeit: 450mpa
Farbe: Hellgrau
Durchschlagsfestigkeit: 18.45 Kv/mm

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Fujian, China
Eigenmarke
Der Lieferant verfügt über 1 Eigenmarken. Weitere Informationen finden Sie unter Audit Report
QA/QC-Inspektoren
Der Lieferant verfügt über 3 QA- und QC-Inspektionspersonal
F&E-Fähigkeiten
Der Lieferant verfügt über 2 Forschungs- und Entwicklungsingenieure. Weitere Informationen finden Sie unter Audit Report
Produktzertifizierung
Die Produkte des Lieferanten verfügen bereits über relevante Zertifizierungsqualifikationen, darunter:
CE
, um alle verifizierten Stärkelabels (26) anzuzeigen.

Grundlegende Informationen.

Modell Nr.
INC-AlN201155
Dielektrische Konstante
8.56 (1MHz)
Oberflächenrauheit
0,3-0,5
Wärmeleitfähigkeit
(25°c) 180 W/Mk
Dichte
3.31g/cm3
Transportpaket
Standard Safety Cartons with Plastic Foams
Spezifikation
Customized
Warenzeichen
INNOVACERA
Herkunft
Fujian, China
Produktionskapazität
200000 Piece/Pieces Per Month

Produktbeschreibung

High Thermal Conductivity Aluminum Nitride Ceramic Wafer for Semiconductor

 

 

 

Hohe Wärmeleitfähigkeit Aluminiumnitrid Keramikwafer für Halbleiter

 

Die Aluminiumnitrid (AlN) Keramik hat eine hohe Wärmeleitfähigkeit (5-10-mal wie die Aluminiumoxidkeramik), niedrig

 

Dielektrische Konstante und Verlustfaktor, gute Isolierung und hervorragende mechanische Eigenschaften, ungiftig,

 

Hohe thermische Beständigkeit, chemische Beständigkeit und der lineare Ausdehnungskoeffizient ist ähnlich mit Si, das ist

 

Weit verbreitet in Kommunikationskomponenten, Hochleistungs-LED, elektrische elektronische Geräte und andere

 

Felder.Sonderspezifikation Produkte können auf Anfrage hergestellt werden.

 

 

PRODUKTLEISTUNG


- hohe Wärmeleitfähigkeit, hohe Biegefestigkeit, hohe Temperatur


- gute elektrische Isolierung


- niedrige dielektrische Konstante und Verlust


- kann Laser gebohrt, metallisiert, plattiert und gelötet werden

 

 

Produktmerkmale

 

1.einheitliche Mikrostruktur


2.hohe Wärmeleitfähigkeit* (70-180 WM-1K-1), maßgeschneidert über Verarbeitungsbedingungen und Additive


3.High elektrischen Widerstand


4.Wärmeausdehnungskoeffizient nahe dem Silizium


5.Resistance gegen Korrosion und Erosion


6.Excellent thermische Schock-Widerstand


7.chemisch stabil bis 980 Grad Celsius in H2 und CO2 Atmosphären, und in Luft bis 1380 Grad Celsius (Oberflächenoxidation

 

Tritt bei 780 Grad auf; die Oberflächenschicht schützt das Schüttgut bis 1380 Grad).

 

High Thermal Conductivity Aluminum Nitride Ceramic Wafer for Semiconductor
High Thermal Conductivity Aluminum Nitride Ceramic Wafer for Semiconductor

 

 
Anwendung
 
High Thermal Conductivity Aluminum Nitride Ceramic Wafer for Semiconductor
 
 
 
 
- RF / Mikrowellen Komponenten
- Leistungsmodul
- Leistungstransformatoren
- Hochleistungs-LED-Paket
 
 
 
 
- Laser Diode Sub-Montierungen
- LED Chip Sub-Mount
- Mikroelektronische Pakete
- Transistoren
High Thermal Conductivity Aluminum Nitride Ceramic Wafer for Semiconductor
High Thermal Conductivity Aluminum Nitride Ceramic Wafer for Semiconductor

 

 

 

 

 

- Substrate Mit Hoher Wärmeleitfähigkeit

 

Für LED und Leistungselektronik

 

- Substrate für Leistungselektronik

 

Eigenschaften Des Aluminiumnitrides-Materials
 
 
 
 
Material
 
ALN
 
 
Artikelnr
 
INC-AN180
INC-AN200
INC-AN220
Farbe
 
Grau
Grau
Beige
Hauptinhalte
 
96 % ALN
96 % ALN
97 % ALN
Hauptmerkmale
 
Hohe Wärmeleitfähigkeit, Ausgezeichnete Plasmabeständigkeit
 
 
Hauptanwendungen
 
Wärmeableitungsteile, Plasmawiderstandsteile
 
 
Schüttdichte
 
3,30
3,30
3,28
Wasseraufnahme
 
0
0
0
Vickers Härte (Last 500g)
 
10,0
9,5
9.
Biegefestigkeit
 
>=350
>=325
>=280
Druckfestigkeit
 
2500
2500
-
Young' Elastizitätsmodul
 
320
320
320
Poisson-Verhältnis
 
0,24
0,24
0,24
Bruchzähigkeit
 
-
-
-
Linearer Wärmeausdehnungskoeffizient
40-400degree
4,8
4,6
4,5
Wärmeleitfähigkeit
20degree
180
200
220
Spezifische Wärme
 
0,74
0,74
0,76
Temperaturbeständigkeit
 
-
-
-
Volumenwiderstand
20degree
>=10-14
>=10-14
>=10-13
Durchschlagsfestigkeit
 
>=15
>=15
>=15
Dielektrische Konstante
1MHz
9
8,8
8,6
Verlusttangente
*10-4
5
5
6
High Thermal Conductivity Aluminum Nitride Ceramic Wafer for Semiconductor
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