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Geprüfter Lieferant 4-Zoll-Magnetron-Ziel Single Target DC Magnetron Sputtering Coater für Oxidfilm
MAGNETRON SPUTTERING: ÜBERSICHT
Sputtern ist ein Plasma-basierter Abscheidungsprozess, bei dem energetische Ionen auf ein Ziel hin beschleunigt werden. Die Ionen treffen auf das Ziel und Atome werden von der Oberfläche ausgestoßen (oder gesputscht). Diese Atome bewegen sich in Richtung Substrat und integrieren sich in den wachsenden Film.
Single Target DC Magnetron Sputtering Coater Equipment ist eine kostengünstige Magnetron Sputtering Beschichtungsanlage, die von unserem Unternehmen unabhängig erforscht und entwickelt wurde. Es hat die Eigenschaften der Standardisierung, Modularisierung und Anpassung. Magnetron-Targets können zwischen 1 Zoll, 2 Zoll und 3 Zoll gewählt werden, und Kunden können je nach Größe des plattierten Substrats wählen; das Netzteil ist ein 1500W-Hochleistungs-DC-Netzteil, das für hochenergetische Metallsputterbeschichtung verwendet werden kann. Je nach experimentellen Anforderungen können auch DC- oder HF-Netzteile anderer Spezifikationen ausgewählt werden, um Beschichtungsvorgänge verschiedener Materialien zu erreichen.
Spezifikationen der Magnetron Sputteranlage:
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Single Target DC Magnetron Sputtering Coater |
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Probe Tabelle |
Gesamtabmessungen |
φ 360 mm |
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Einstellbare Drehzahl |
1-20rpm einstellbar |
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Ziel |
Zielebene |
Ziel der kreisförmigen Ebene |
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Sputtervakuum |
0,1Pa bis 3Pa |
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Zieldurchmesser |
100 bis 101,6mm |
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Zieldicke |
3mm |
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Isolationsspannung |
>2000V |
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Kabelspezifikationen |
SL-16 |
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Solltemperatur des Kopfes |
<= 65 ºC |
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Vakuum Kammer |
Innenwandbehandlung |
Elektrolytisches Polieren |
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Formnest |
Φ500mm x 500mm |
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Hohlraummaterial |
Edelstahl 304 |
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Sichtfenster |
Quarzfenster, φ100mm Durchmesser |
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Öffnungsmethode |
Seitliche Öffnung |
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Gas Kontrolle |
Flusssteuerung |
Masse-Durchflussmesser, Messbereich 0 ~ 100SCCM |
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Gasart |
Argon, Stickstoff, Sauerstoff und andere Gase sind verfügbar |
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Reglerventiltypen |
Magnetregler |
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Statischer Zustand des Reglerventils |
Normaler Abschluss |
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Linearität messen |
Plus oder Minus 1,5 % F.S. |
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Wiederholgenauigkeit der Messung |
Plus oder Minus 0,2 % F.S. |
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Messen Sie die Reaktionszeit |
≤8 Sekunden (T95) |
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Betriebsdruck |
0,3 MPa |
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Druckfestes Gehäuse |
3MPa |
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Umgebungstemperatur bei Betrieb |
(5 ~ 45) ºC |
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Gehäusematerial |
Edelstahl 316L |
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Leckrate des Körpers |
1×10-8PA.m3/s |
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Rohrverschraubungen |
1/4 „ummantelte Gelenke |
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Eingangs-/Ausgangssignale |
0 bis 5V |
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Stromversorgung |
±15V (±5 %) (+15V 50mA, -15V 200mA) |
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Gesamtabmessungen mm |
130 x 102 x 28 (B x H x H) |
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Kommunikationsschnittstelle |
RS485 MODBUS-Protokoll |
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Gleichstromversorgung |
Stromversorgung |
1500W |
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Film Dicke Messung |
Stromversorgung |
DC:5V (±10 %) Maximalstrom 400mA |
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Auflösung |
±0,03Hz(5-6MHz), 0,0136A/Messung (Aluminium) |
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Messgenauigkeit |
±0,5 % Dicke +1 Zählung |
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Messzyklus |
100ms ~ 1S/Zeit (kann eingestellt werden) |
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Messbereich |
500.000 A (Aluminium) |
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Kristallfrequenz |
6MHz |
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Kommunikationsschnittstelle |
Serielle RS-232/485-Schnittstelle |
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Anzeigebits |
8-Bit-LED-Anzeige |
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Molekularbiologisch Pumpe |
Molekulare Pumpgeschwindigkeit |
1200L/S |
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Nenndrehzahl |
24000rpm |
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Vibrationswert |
<= 0,1 um |
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Startzeit |
5min |
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Ausfallzeiten |
7min |
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Kühlmethode |
Wasserkühlung + Luftkühlung |
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Kühlwassertemperatur |
<=37ºC |
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Kühlwasserdurchsatz |
1L/min |
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Montagerichtung |
Vertikal ±5. |
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Schnittstelle Luftabsaugung |
150CF |
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Auslassöffnung |
KF40 |
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Vorne Pumpe |
Förderleistung |
VRD-16 |
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Ultimatives Vakuum |
1PA |
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Stromversorgung |
AC:220V/50Hz |
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Motorleistung |
400W |
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Rauschen |
<=56dB |
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Schnittstelle Luftabsaugung |
KF40 |
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Auslassöffnung |
KF25 |
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Ventil |
Absperrventil |
Zwischen dem Vakuum ist ein Absperrventil angeordnet Kammer und die molekulare Pumpe |
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Absperrventil |
Zwischen dem ist ein Absperrventil installiert Molekulare Pumpe und die vordere Bühne |
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Seitlichem Ablassventil |
Zwischen dem ist ein seitl. Ablassventil installiert Vakuumkammer und die vordere Bühne |
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Entlüftungsventil |
Ein elektromagnetisches Entlüftungsventil ist installiert An der Vakuumkammer |
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Ultimatives Vakuum der gesamten Maschine |
<=5X10-4PA |
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Testziel |
1 Stück Nickel Ziel 4 Zoll im Durchmesser und 3mm Stärke |
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1. WIR haben Magnetron Sputtermaschine mit 1 Ziel, 2 Ziele, 3 Ziele, 4 Ziele, etc. Ziel kann an der Ober- oder Unterseite der Kammer entworfen werden.
2. 0-1000W DC-Leistung oder HF-Leistung Ziel ist verfügbar. Bias-Funktion ist optional.
3. Zielgröße: 1-Zoll, 2-Zoll, 3-Zoll, 4-Zoll, etc.
4. Starkes magnetisches Ziel und Permanentes magnetisches Ziel ist optional.
5. Magnetron Sputtermaschine mit Verdunstung, E-Strahl ist verfügbar.
6. Kundenspezifischer Service ist immer verfügbar!
Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd ist ein umfassendes Unternehmen, das Design, Forschung und Entwicklung, Produktion und Vertrieb integriert.
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