• Hochvakuum-drei-Ziel-Magnetron-Sputtersystem mit Massenstrom Messgerät für Filmablage
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Hochvakuum-drei-Ziel-Magnetron-Sputtersystem mit Massenstrom Messgerät für Filmablage

After-sales Service: on-Line Service
Warranty: One Year
Art: Magnetron Sputtering
Überzug: Vacuum Coating
Substrat: Stahl
Bescheinigung: CE

Wenden Sie sich an den Lieferanten

Gold Mitglied Seit 2023

Lieferanten mit verifizierten Geschäftslizenzen

Henan, China
, um alle verifizierten Stärkelabels (15) anzuzeigen.
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Überblick

Grundlegende Informationen.

Modell Nr.
TN-MSH325-III-DCDCRF-SS
Zustand
Neu
Produktname
Magnetron Sputtersystem
Beschichtungsmethode
Magnetron System
gleichstromversorgung
500W*2
hf-Leistung
500W*1
Kammergröße
300*300mm
Substratgröße
140mm
Substrate Heating
Max. 500c
Zielgröße
2 Inch*3
Stromversorgung
ac 220V
Drehschieberpumpe
1,1l/s
Turbo-Molecular Pump
600L/s
Kammermaterial
SS304
Transportpaket
Fumigated Wooden Box
Spezifikation
600*650*1280mm
Warenzeichen
TN
Herkunft
China
Produktionskapazität
20 Sets Per Month

Produktbeschreibung

Hochvakuum-Magnetron-Sputtersystem mit drei Zielen und Massenstrom Messgerät für die Filmabscheidung

Produktbeschreibung

MAGNETRON SPUTTERING: ÜBERSICHT

Sputtern ist ein Plasma-basierter Abscheidungsprozess, bei dem energetische Ionen auf ein Ziel hin beschleunigt werden. Die Ionen treffen auf das Ziel und Atome werden von der Oberfläche ausgestoßen (oder gesputscht). Diese Atome bewegen sich in Richtung Substrat und integrieren sich in den wachsenden Film.

Eigenschaften des Magnetron Sputterbeschichtungsmaschinen:

1. Triple Target Magnetron Sputtering Coater ist eine kostengünstige Magnetron Sputtering Beschichtungsanlage. Es ist standardisiert, modular und anpassbar.

2. Es gibt 1-Zoll, 2-Zoll und 3-Zoll-Magnetron-Ziele. Sie können das Ziel entsprechend der Größe des zu beschichtenden Substrats auswählen.

3. Der Magnetron Sputterbeschichter ist mit 500W DC und 500W RF Leistung ausgestattet. Die Gleichstromversorgung wird für die leitungstriven Materialien und die HF-Leistung für die isolierenden Materialien verwendet.  Leistung von 300W bis 1000W Zoll nach Ihren Anforderungen.

4. Der Magnetron Sputterbeschichter ist mit einem zweikanaligen hochpräzisen Massendurchflussmesser ausgestattet. 4-Kanal-Massendurchflussmesser IS
   Verfügbar

5. Der Magnetron Sputterbeschichter ist mit einer Turbo-molekularen Pumpe ausgestattet, und das ultimative Vakuum beträgt bis zu 10E-5Pa, andere Arten von molekularen Pumpen sind zum Kauf erhältlich.

6. Molekulare Pumpe Gasweg wird durch mehrere Magnetventile gesteuert, können Sie die Kammer öffnen, um die Probe ohne zu nehmen
   Pumpe wird abgeschaltet.

7. Dieses Produkt kann mit einem integrierten Industriecomputer ausgestattet werden, um das System zu steuern.
High Vacuum Three Target Magnetron Sputtering System with Mass Flow Meter for Film Deposition

Produktparameter

Spezifikationen der Magnetron Sputteranlage:

Probenbühne Größe Dia,140mm
Heiztemperatur Max. 500ºC
Temperaturgenauigkeit ±1ºC
Drehzahl 1-20rpm einstellbar
Magnetron Sputterkopf Menge 2 Zoll×3 (1 Zoll, 2 Zoll optional)
Kühlmodus Wasserkühlung
Wasserkühler Umwälzwasserkühler mit einer Durchflussrate von 10L/min
Vakuumkammer Kammergröße Dia,300mm×300mm
Kammermaterial Edelstahl
Fenster „Watch“ Dia,100mm
Öffnungsmodus Obere Abdeckung geöffnet
 Masse-Durchflussmesser  2 Kanäle; Messbereich 100SCCM; 100SCCM (kundenspezifisch anpassbar)
Vakuumsystem Modell TN-GZK103-A
Molekularpumpe CY-600
Vorpumpe Drehschieberpumpe
Ultimatives Vakuum 1,0E-5Pa
Pumpschnittstelle CF160
Abgasschnittstelle KF40
Vakuummessung Compound-Vakuummesser
Stromversorgung AC;220V 50/60Hz
Förderleistung Molekularpumpe: 600L/S Drehschieberpumpe: 1,1l/S.   
Umfassende Gaspumpumpe Leistung: Vakuum bis zu 1,0E-3Pa in 20 Minuten
Stromversorgung Menge DC-Netzteil x2
HF-Stromversorgung x1
Max. Ausgangsleistung DC 500 W, RF 500W
Andere Parameter Versorgungsspannung AC220V,50Hz
Gesamtleistung 4KW
Gesamtgröße 600mm×650mm×1280mm
Gesamtgewicht Etwa 300kg
 
Detaillierte Fotos

1. WIR haben Magnetron Sputtermaschine mit 1 Ziel, 2 Ziele, 3 Ziele, 4 tagrst, etc. Ziel kann an der Ober- oder Unterseite der Kammer entworfen werden.
2. 0-1000W DC-Leistung oder HF-Leistung Ziel ist verfügbar. Bias-Funktion ist optional.
3. Zielgröße: 1-Zoll, 2-Zoll, 3-Zoll, 4-Zoll, etc.
4. Starkes magnetisches Ziel und pernanent magenetisches Ziel ist optional.
5. Magnetron Sputtermaschine mit Verdunstung, E-Strahl ist verfügbar.
6. Kundenspezifischer Service ist immer verfügbar!
High Vacuum Three Target Magnetron Sputtering System with Mass Flow Meter for Film DepositionHigh Vacuum Three Target Magnetron Sputtering System with Mass Flow Meter for Film DepositionHigh Vacuum Three Target Magnetron Sputtering System with Mass Flow Meter for Film Deposition

 



High Vacuum Three Target Magnetron Sputtering System with Mass Flow Meter for Film Deposition

Unternehmensprofil

High Vacuum Three Target Magnetron Sputtering System with Mass Flow Meter for Film Deposition

Verpackung Und Versand

Wir können das Magnetron Sputtersystem zu Land, auf dem Seeweg, auf dem Luftweg, per Express versenden, auch Paket und Versand nach Ihren Anforderungen arrangieren.
High Vacuum Three Target Magnetron Sputtering System with Mass Flow Meter for Film Deposition

FAQ

F. sind Sie Hersteller oder Handelsunternehmen?
A. Wir sind professioneller Hersteller von Laborgeräten, Wir haben professionelle R & D-Team und Werkstatt, die die Qualität und After-Sales-Service versprechen kann.  

F. wie ist Ihre Garantie?
A.  Unsere Garantie beträgt 12 Monate und bietet lebenslange Wartung. Wir bieten 24 Stunden Online-Service.

F. wie lange ist Ihre Lieferzeit? Wie lange dauert es, wenn ich das Instrument anpassen möchte?
A. 5-10 Tage im Laden. Maßgeschneiderte Produkte----Es dauert in der Regel 30-60 Tage, je nach Ihren Anforderungen.

F. Stromversorgung und Stecker?
A. Wir können Produkte liefern, die auf Ihre lokale Spannung und Stecker Standard akrodieren.

F. wie zahlen?
A.  T T, L / C, D / P USW.

F. wie ist das Paket von Waren? Liefermethoden?
A.  Standard Export Begasung Zeichen Holzbox Verpackung oder als Ihre Anforderungen.
 

Kontaktieren Sie Uns

IST MAGNETRON SPUTTERN DER RICHTIGE PROZESS FÜR IHRE ARBEIT?
Bitte nehmen Sie Kontakt auf und wir können an Ihrem Projekt mitarbeiten.

Wie können wir Ihnen helfen, Ihre Ziele zu erreichen? Welche technischen Hindernisse kann unser Engineering-Team Ihnen dabei helfen? Bitte drücken Sie die Schaltfläche „Kontakt aufnehmen“, um mit uns in Kontakt zu treten. Wir freuen uns, von Ihrer Recherche zu erfahren und Ihnen auf jede ermögliche Weise zu helfen.

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Hauptprodukte
Evaporation Coater; Film Coater
Anzahl der Angestellten
13