• Lab Cuo, Nio, Cdo Deposition Nano Film Pulsed Laser Deposition PLD Coating System
  • Lab Cuo, Nio, Cdo Deposition Nano Film Pulsed Laser Deposition PLD Coating System
  • Lab Cuo, Nio, Cdo Deposition Nano Film Pulsed Laser Deposition PLD Coating System
  • Lab Cuo, Nio, Cdo Deposition Nano Film Pulsed Laser Deposition PLD Coating System
  • Lab Cuo, Nio, Cdo Deposition Nano Film Pulsed Laser Deposition PLD Coating System
  • Lab Cuo, Nio, Cdo Deposition Nano Film Pulsed Laser Deposition PLD Coating System
Favoriten

Lab Cuo, Nio, Cdo Deposition Nano Film Pulsed Laser Deposition PLD Coating System

After-sales Service: on-Line Service
Warranty: 1 Year
Type: Spin Coating
Coating: Vacuum Coating
Substrate: Steel
Certification: CE

Wenden Sie sich an den Lieferanten

Gold Mitglied Seit 2023

Lieferanten mit verifizierten Geschäftslizenzen

Henan, China
, um alle verifizierten Stärkelabels (15) anzuzeigen.
  • Überblick
  • Produktbeschreibung
  • Produktparameter
  • Detaillierte Fotos
  • Unternehmensprofil
  • FAQ
Überblick

Grundlegende Informationen.

Modell Nr.
TN-PLD
Condition
New
Produktionsname
PLD Coating Equipment
Kammermaterial
SS304
Spannung
3 Phase 380V
Pulased Laser
Optional
Transportpaket
Fumigated Wooden Box
Spezifikation
2000*2500mm
Warenzeichen
TN
Herkunft
China
HS-Code
8486209000
Produktionskapazität
20

Produktbeschreibung

Produktbeschreibung

Lab CuO, Nio, CDO Deposition Nano Film Pulsed Laser Deposition PLD Coating System

1. Gerätefunktion

Die PLD-Serie wird hauptsächlich zur Züchtung von optischen Kristallen, Ferroelektrik, Ferromagneten, Supraleitern und organischen Verbindungen von Dünnschichtmaterialien verwendet, die sich besonders für das Wachstum von komplexen Schichtdicken mit hohem Schmelzpunkt, mehreren Elementen und mit Gaselementen eignen.
Lab Cuo, Nio, Cdo Deposition Nano Film Pulsed Laser Deposition PLD Coating System

2. Geräteübersicht

Die Ausrüstung kann in fünf Teile nach der Erscheinungsstruktur unterteilt werden: PLD-Abscheidekammer, Vakuummesssystem, Vakuumpumpsystem, Werkbank und elektrischer Schaltschrank.

2,1 PLD-Abscheidekammer

Kugelförmige Vakuumkammer Struktur, Größe Φ450mm, aus 1Cr18Ni9Ti Edelstahl Material, Argon Lichtbogenschweißen, Oberflächenspray Glas Schuss matte Behandlung. Die Vakuumleckrate liegt unter 5,0×10-8PA.i/S. Die Schnittstelle ist mit einer Metalldichtung oder einem Fluorgummiring abgedichtet und ein Φ220-Zylinder unter der Vakuumkammer wird auf der Arbeitsfläche installiert. CF150 Messerkantenflansch ist unten angeschlossen, und CF150 manuelles Absperrventil ist angeschlossen. Schließen Sie die CF150 Bypass-Rohrleitung und das 620-Molekularpumpensystem an. Vor der Vakuumkammer befindet sich eine mit Gummiring versiegelte Tür mit einem Sichtfenster mit einem Durchmesser von Φ150mm, die für Probeneintritt und -Ausgang sowie Austausch und Wartung des Zielmaterials verwendet wird. Die rotierende Zielplattform auf der linken Seite des Beobachtungsfensters anbringen. Installieren Sie den Probenheiztisch direkt gegenüber dem rotierenden Zieltisch. Auf derselben horizontalen Ebene wie die rotierende Zielplattform sind in einem Winkel von 135 Φ100mm zwei einfallende Beobachtungsfenster mit einem Durchmesser von angeordnet. Ausgestattet mit Infrarot und UV-Quarz. Über der Vakuumkammer befindet sich eine Operation mit einem Durchmesser von Φ100mm und zwei Testbeobachtungsfenstern. Außerdem gibt es zwei CF35 Ersatzflanschanschlüsse für die Ausrüstung. Der Vakuumkammerkörper ist mit einem Widerstandsmessgerät, einem Ionisationsmessgerät, einem manuellen Vorpumpwinkelventil von KF40, einem manuellen Entlüftungsventil von Φ10 und einer Elektrode für Backbeleuchtung von CF35 ausgestattet.

2.1.1 Drehende Zielstufe

  L 187, S. 1) Vier Ziele können einmal installiert werden, die Größe des Ziels: (i) Φ60mm~Φ25mm;

  L 187, S. 2) Jedes Zielmaterial kann selbst-Rotation zu realisieren, die Drehzahl ist 5-50 U/min, stufenlos einstellbar, und gesteuert durch die magnetische Kupplung Mechanismus durch den Schrittmotor angetrieben;

  L 187, S. 3) Der Umsetzungsmechanismus für die Zielposition wird durch einen magnetischen Kupplungsmechanismus gesteuert, der von einem Schrittmotor angetrieben wird;

  L 187, S. 4) Die Abdeckung der Zielabschirmung schützt die drei Ziele, und nur ein Ziel wird für Sputtern freigelegt, um einen Film zu bilden, um Kreuzkontamination zwischen den Zielen zu vermeiden.

2.1.2 Komponenten der Probenheizung

  L 187, S. 1) Substratgröße: Φ60mm, kann Φ10mm-Φ60mm Proben platzieren, nehmen mechanische Befestigungsmethode an und ersetzen die Probe durch Ersetzen der Substratabdeckung;

  L 187, S. 2) Die maximale Temperatur der Probenheizung ist 800ºC±1ºC; sie wird durch Thermoelement-Closed-Loop-Feedback gesteuert; (spezielle Heizungen können für Oxidforschung gemacht werden)

  L 187, S. 3) Das Substrat kann sich kontinuierlich drehen, die Drehzahl beträgt 5~50 U/min, was durch einen Schrittmotor, der den Wellenmechanismus antreibt, vervollständigt wird;

  L 187, S. 4) Der Abstand zwischen dem Ziel und dem Substrat kann auf 20-80mm eingestellt werden, was durch den manuellen Balgenverstellmechanismus außerhalb des beweglichen Substrathohlraums ergänzt wird;

2.1.3 Fensterzubehör

L 187, S. 1) Φ100mm Quarzglasfenster (248nm UV-Band, für Laserinzidenz)

L 187, S. 2) Φ100mm Quarzglasfenster (Infrarotband)

L 187, S. 3) Φ100mm optisches Glasfenster

2).1.4 Vakuumpumpsystem

Ausgestattet mit 1 KYKY-160/620 Molekularpumpe,

Ausgestattet mit mechanischer Pumpe 1 2XZ-8B,

Ausgestattet mit 4 Ф40 Balgenrohren.

Ausgestattet mit 1 Luftentlassventil,

Ausgestattet mit 2 KF40 mit Vakuum-Magnetventilen,

Ausgestattet mit 1 KF40 mit aufblasbarem elektromagnetischen Vakuumwinkelventil,

Ausgestattet mit 1 CF150 manuellem Absperrventil,

Ausgestattet mit 2 CF35 manuellen Winkelventilen,

Ausgestattet mit einem Satz Molekularsieb

2.1.5 Vakuumweg

Ausgestattet mit zwei Kanälen Masse Durchflussmesser, N2 Gas Kalibrierung. 100 SCCM. Durch den Gasmischbehälter und durch das manuelle Winkelventil betreten.

2.1.6 Vakuummesssystem

Das Vakuummesssystem besteht aus einem Messgerät und einem Vakuummessgerät. Die Maschine ist mit Widerstandsmessgeräten für direktes Einführen und Metallionisationsmessgeräten ausgestattet. Den Vakuumgrad der Atmosphäre~2x10-5Pa messen.

2.1.7 Arbeitsplatz

Die Werkbank besteht aus einem Rahmen und einem Hort. Das Rack ist das Skelett der Ausrüstung, die Installation der tragenden Teile. Gasweg, Wasserablauf und andere Komponenten im Inneren einbauen.

2.1.8 Elektrischer Schaltschrank

Der elektrische Schaltschrank ist mit einer Touch-Screen-Steuerung, einer Durchflussanzeige, einer Substratheizung, einer Ionisationsstromversorgung, einer 620L-molekularen Pumpenstromversorgung und einer Gesamtstromversorgung ausgestattet.

L 187, S. 1) Die Steuerung der Vakuumsteuerung erfolgt über SPS + Touchscreen, der das Vakuumpumpsystem, den Prozess der Probenrotation und das Beleuchtungssystem steuert.der Touchscreen ist ein 7-Zoll-Farbbildschirm.

L 187, S. 2) Das Substrat und die organische Heizungsregelung Stromversorgung bestehen aus leitfähigen SR3 Meter. Die Genauigkeit der Temperaturregelung beträgt ±0.5ºC. Die maximale Heiztemperatur beträgt 800ºC.

L 187, S. 3) Durchflussanzeige ein Band zwei.

L 187, S. 4) Die Ionisationsstromversorgung wird zur Reinigung des Substrats verwendet, 3KW/1kW.

L 187, S. 5) FF160/620 die Stromversorgung der Molekularpumpe steuert Start, Stopp und Betrieb der Molekularpumpe.

L 187, S. 6) Unten befindet sich der Hauptstromkasten. Wenn der Luftschalter geschlossen ist, wird das Gerät als Ganzes eingeschaltet. Mit Phasenfolgealarm.

Produktparameter

Spezifikationen der gepulsten Plaser Beschichtungsmaschine

Hauptvakuumsystem

Kugelstruktur, Größe: durchm. 450mm

Laden des Probensystems

Vertikale zylindrische Struktur, Größe: durchm. 150×150mm

Konfiguration des Vakuumsystems

Hauptvakuumkammer

Mechanische Pumpe, Molekularpumpe, Ventil

Laden des Probensystems

Mechanische Pumpe und molekulare Pumpe (gemeinsam mit der Primärkammer), Ventil

Ultimativer Druck

Hauptvakuumsystem

≤6*10-6Pa(nach dem Backen und Entgasen)

Laden des Probensystems

≤6*10-3 Pa (nach Backen und Entgasen)

Vakuumrückgewinnungssystem  

Hauptvakuumsystem

Es kann 5x10-3Pa in 20 Minuten erreichen (Das System ist kurzzeitig der Atmosphäre ausgesetzt Zeit und gefüllt mit trockenem Stickstoff, um mit dem Pumpen zu beginnen)

Laden des Probensystems  

Es kann 5x10-3Pa in 20 Minuten erreichen (Das System ist kurzzeitig der Atmosphäre ausgesetzt Zeit und gefüllt mit trockenem Stickstoff, um mit dem Pumpen zu beginnen)

Rotierende Zielplattform

Die maximale Größe des Ziels beträgt etwa 60mm. Vier Zielmaterialien können gleichzeitig installiert werden, das Ziel ändert sich in Rotationsbewegung; jedes Ziel kann unabhängig gedreht werden, Drehzahl: 5-60 U/min

Substrat-Heizplattform

Probengröße

Durchm.  51

Bewegungsmodus

Substrat dreht sich kontinuierlich, Drehzahl: 5-60 U/min

Heiztemperatur

Maximale Temperatur der Substratheizung: 800ºC±1ºC, kontrolliert und einstellbar

Gaskreislaufsystem

1-Kreis-Massenstromregler, 1-Kreis-Füllventil

Optionales Zubehör

Lasergerät

Kompatibel mit Coherent 201 Laser

Laserstrahl-Scanning-Gerät

2D Scannen mechanische Plattform, führen Sie zwei Grad der Freiheit Scannen.

Computersteuerung

Die Steuerungsinhalte umfassen gemeinsames Konvertierungsziel, Zielrotation, Probenrotation, Probentemperaturregelung, Laserstrahlscan, Usw.

Bodenfläche

Hauptgerät

1800 * 1800 mm2

Elektroschrank

700 * 700 mm2 (1)

Detaillierte Fotos

 

Lab Cuo, Nio, Cdo Deposition Nano Film Pulsed Laser Deposition PLD Coating SystemLab Cuo, Nio, Cdo Deposition Nano Film Pulsed Laser Deposition PLD Coating SystemLab Cuo, Nio, Cdo Deposition Nano Film Pulsed Laser Deposition PLD Coating System
Lab Cuo, Nio, Cdo Deposition Nano Film Pulsed Laser Deposition PLD Coating System
Unternehmensprofil

 

Lab Cuo, Nio, Cdo Deposition Nano Film Pulsed Laser Deposition PLD Coating SystemLab Cuo, Nio, Cdo Deposition Nano Film Pulsed Laser Deposition PLD Coating SystemLab Cuo, Nio, Cdo Deposition Nano Film Pulsed Laser Deposition PLD Coating SystemLab Cuo, Nio, Cdo Deposition Nano Film Pulsed Laser Deposition PLD Coating SystemLab Cuo, Nio, Cdo Deposition Nano Film Pulsed Laser Deposition PLD Coating System
FAQ

F. sind Sie Hersteller oder Handelsunternehmen?

A. Wir sind professioneller Hersteller von Laborgeräten, Wir haben professionelle R & D-Team und Werkstatt, die die Qualität und After-Sales-Service versprechen kann.  

F. wie ist Ihre Garantie?

A.  Unsere Garantie beträgt 12 Monate und bietet lebenslange Wartung. Wir bieten 24 Stunden Online-Service.

F. wie lange ist Ihre Lieferzeit? Wie lange dauert es, wenn ich das Instrument anpassen möchte?

A. 5-10 Tage im Laden. Maßgeschneiderte Produkte----Es dauert in der Regel 30-60 Tage, je nach Ihren Anforderungen.

F. Stromversorgung und Stecker?

A. Wir können Produkte liefern, die auf Ihre lokale Spannung und Stecker Standard akrodieren.

F. wie zahlen?

A.  T T, L / C, D / P USW.

F. wie ist das Paket von Waren? Liefermethoden?

A.  Standard Export Begasung Zeichen Holzbox Verpackung oder als Ihre Anforderungen.

 

Senden Sie Ihre Anfrage direkt an Lieferanten

*von:
*bis:
*Meldung:

Geben Sie zwischen 20 bis 4.000 Zeichen.

Das ist nicht das, wonach Sie suchen? Jetzt Beschaffungsanfrage Posten

Ähnliche Produkte nach Kategorie suchen

Startseite des Anbieters Produkte Gasphasenabscheidung Lab Cuo, Nio, Cdo Deposition Nano Film Pulsed Laser Deposition PLD Coating System

Vielleicht Gefällt Dir

Wenden Sie sich an den Lieferanten

Gold Mitglied Seit 2023

Lieferanten mit verifizierten Geschäftslizenzen

Hersteller/Werk
Hauptprodukte
Evaporation Coater; Film Coater
Anzahl der Angestellten
13