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Lab Dual Target Magnetron Sputtering Coater mit Bottom Sputtering Target

Kundendienst: Online-Service
Garantie: Ein Jahr
Art: Magnetron-Sputtern
Überzug: Vacuum Coating
Substrat: Stahl
Bescheinigung: CE

Kontakt Lieferant

Gold Mitglied Seit 2023

Lieferanten mit verifizierten Geschäftslizenzen

Henan, China
, um alle verifizierten Stärkelabels (15) anzuzeigen.
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Überblick

Grundlegende Informationen.

Modell Nr.
TN-MSP500S-DCRF-B
Zustand
Neu
Produktname
Magnertron Sputter Coater
Beschichtungsmethode
Magnetron-Sputtern
Target Power
dc 500W
Kammergröße
500*490mm
Substratgröße
150mm
Substrate Heating
Max. 500c
Zielgröße
2inch*2
Stromversorgung
ac 220V
Drehschieberpumpe
1,1l/s
Thermal Evaporation
1500c
Kammermaterial
SS304
Transportpaket
Fumigated Wooden Box
Spezifikation
1090*900*1250mm
Warenzeichen
TN
Herkunft
China
Produktionskapazität
20 Sets Per Month

Produktbeschreibung

Lab Dual Target Magnetron Sputtering Coater mit Bottom Sputtering Target

Produktbeschreibung

MAGNETRON SPUTTERING: ÜBERSICHT

Sputtern ist ein Plasma-basierter Abscheidungsprozess, bei dem energetische Ionen auf ein Ziel hin beschleunigt werden. Die Ionen treffen auf das Ziel und Atome werden von der Oberfläche ausgestoßen (oder gesputscht). Diese Atome bewegen sich in Richtung Substrat und integrieren sich in den wachsenden Film.

Eigenschaften des Magnetron Sputterbeschichtungsmaschinen:

1. Im Vergleich zu den herkömmlichen Plasma Sputtern, Magnetron Sputtern hat die Vorteile der hohen Energie, hohe Geschwindigkeit, hohe Abscheidungsrate und niedrige Probentemperatur steigen;

2.  Das Magnetron-Target ist mit wassergekühlter Zwischenschicht ausgestattet. Der Wasserkühler kann effektiv Wärme entfernen und Wärmeansammlungen auf der Zieloberfläche vermeiden, so dass die Magnetron-Beschichtung über einen langen Zeitraum stabil arbeiten kann;

3. Dieses Modell nimmt das Layout von unter Ziel, der Probentisch ist auf der Oberseite, und die Höhe mit der Zielfläche kann präzise per Programm eingestellt werden, und kann gedreht und beheizt werden, mit ausgezeichneter Leistung.


Lab Dual Target Magnetron Sputtering Coater with Bottom Sputtering Target

Produktparameter

Spezifikationen der  Magnetron Sputteranlage:

Name Der Produktion Magnetron Sputtermaschine
Eingang AC220V,50Hz
Gesamtleistung 6KW
Ultimativer Vakuumgrad 5x10-4PA
Parameter der Beispieltabelle Größe 150 Durchm.
Höhe 70 mm verstellbar
Heizung ≤500ºC
Drehzahl 1-20 U/min
Parameter des Magnetron-Sputterkopfes Menge 2-Set, 2 Zoll
Kühlmodus Wassergekühlt, erforderlicher Durchfluss rate10L/min
Wasserkühler 10L/min  Umwälzwasserkühlung
Vakuumkammer Größe 500mmDia.  × 490mm H
Material Edelstahl
Fenster „Watch“ 100mm Durchm.  
Modus öffnen Vordere Klappe
 Gasflussregler 1Channel 200sccm Ar;
Vakuumpumpe Molekularpumpensystem Pumpen, 600L/S.
Dickenmessgerät Quarz vibrierenden Film Dickenmesser ,
Ein Satz, Auflösung  0,10 Å
Stromversorgung für Sputter DC-Stromversorgung: Ein Satz, 500W, für Metallfolien
HF-Netzteil: Ein Satz, 500W, für nicht-metallische Folien
Betriebsart   All-in-One-Computer-Betrieb
Gesamtabmessungen 1090mm X 900mm X 1250mm
Gesamtgewicht 350kg
 
Detaillierte Fotos

 

1. WIR haben Magnetron Sputtermaschine mit 1 Ziel, 2 Ziele, 3 Ziele, 4 tagrst, etc. Ziel kann an der Ober- oder Unterseite der Kammer entworfen werden.
2. 0-1000W DC-Leistung oder HF-Leistung Ziel ist verfügbar. Bias-Funktion ist optional.
3. Zielgröße: 1-Zoll, 2-Zoll, 3-Zoll, 4-Zoll, etc.
4. Starkes magnetisches Ziel und pernanent magenetisches Ziel ist optional.
5. Magnetron Sputtermaschine mit Verdunstung, E-Strahl ist verfügbar.
6. Kundenspezifischer Service ist immer verfügbar!
Lab Dual Target Magnetron Sputtering Coater with Bottom Sputtering Target
Lab Dual Target Magnetron Sputtering Coater with Bottom Sputtering TargetLab Dual Target Magnetron Sputtering Coater with Bottom Sputtering Target

Lab Dual Target Magnetron Sputtering Coater with Bottom Sputtering Target

Unternehmensprofil

Lab Dual Target Magnetron Sputtering Coater with Bottom Sputtering Target

Verpackung Und Versand

WIR können die Magnetron Sputteranlage zu Land, auf dem Seeweg, auf dem Luftweg, per Express versenden, auch Paket und Versand nach Ihren Anforderungen arrangieren.
Lab Dual Target Magnetron Sputtering Coater with Bottom Sputtering Target

FAQ

F. sind Sie Hersteller oder Handelsunternehmen?
A. Wir sind professioneller Hersteller von Laborgeräten, Wir haben professionelle R & D-Team und Werkstatt, die die Qualität und After-Sales-Service versprechen kann.  

F. wie ist Ihre Garantie?
A.  Unsere Garantie beträgt 12 Monate und bietet lebenslange Wartung. Wir bieten 24 Stunden Online-Service.

F. wie lange ist Ihre Lieferzeit? Wie lange dauert es, wenn ich das Instrument anpassen möchte?
A. 5-10 Tage im Laden. Maßgeschneiderte Produkte----Es dauert in der Regel 30-60 Tage, je nach Ihren Anforderungen.

F. Stromversorgung und Stecker?
A. Wir können Produkte liefern, die auf Ihre lokale Spannung und Stecker Standard akrodieren.

F. wie zahlen?
A.  T T, L / C, D / P USW.

F. wie ist das Paket von Waren? Liefermethoden?
A.  Standard Export Begasung Zeichen Holzbox Verpackung oder als Ihre Anforderungen.
 

Kontaktieren Sie Uns

IST MAGNETRON SPUTTERN DER RICHTIGE PROZESS FÜR IHRE ARBEIT?
Bitte nehmen Sie Kontakt auf und wir können an Ihrem Projekt mitarbeiten.

Wie können wir Ihnen helfen, Ihre Ziele zu erreichen? Welche technischen Hindernisse kann unser Engineering-Team Ihnen dabei helfen? Bitte drücken Sie die Schaltfläche „Kontakt aufnehmen“, um mit uns in Kontakt zu treten. Wir freuen uns, von Ihrer Recherche zu erfahren und Ihnen auf jede ermögliche Weise zu helfen.

 

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Hersteller/Werk
Hauptprodukte
Evaporation Coater; Film Coater
Anzahl der Angestellten
13