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Geprüfter Lieferant MAGNETRON SPUTTERING: ÜBERSICHT
Sputtern ist ein Plasma-basierter Abscheidungsprozess, bei dem energetische Ionen auf ein Ziel hin beschleunigt werden. Die Ionen treffen auf das Ziel und Atome werden von der Oberfläche ausgestoßen (oder gesputscht). Diese Atome bewegen sich in Richtung Substrat und integrieren sich in den wachsenden Film.
Lab Gold Platinum Sputtering Target Magnetron Sputtermaschine für Rohr
Single Target DC Magnetron Sputtering Coater Equipment ist eine kostengünstige Magnetron Sputtering Beschichtungsanlage, die von unserem Unternehmen unabhängig erforscht und entwickelt wurde. Es hat die Eigenschaften der Standardisierung, Modularisierung und Anpassung. Magnetron-Targets können zwischen 1 Zoll, 2 Zoll und 3 Zoll gewählt werden, und Kunden können je nach Größe des plattierten Substrats wählen; das Netzteil ist ein 1500W-Hochleistungs-DC-Netzteil, das für hochenergetische Metallsputterbeschichtung verwendet werden kann. Je nach experimentellen Anforderungen können auch DC- oder HF-Netzteile anderer Spezifikationen ausgewählt werden, um Beschichtungsvorgänge verschiedener Materialien zu erreichen.
Spezifikationen der Magnetron Sputteranlage
| Single Target DC Magnetron Sputtering Beschichtungsinstrument | ||
| Probenbühne | Abmessungen | φ185mm |
| Heizbereich | Raumtemperatur~500ºC | |
| Einstellbare Geschwindigkeit | 1-20rpm einstellbar | |
| Magnetisch Kontrolle Ziel Pistole |
Zielebene | Ziel der kreisförmigen Ebene |
| Sputtervakuum | 10PA~0,2Pa | |
| Zieldurchmesser | 50~50,8mm | |
| Zieldicke | 2~5mm | |
| Isolationsspannung | >2000V | |
| Kabelspezifikationen | SL-16 | |
| Solltemperatur des Kopfes | <=65ºC | |
| Echt Null Formnest Körper |
Innenwandbehandlung | Elektrolytisches Polieren |
| Formnest | φ300mm × 300mm | |
| Hohlraummaterial | Edelstahl 304 | |
| Beobachtungsfenster | Quarzfenster, Durchmesser φ100mm | |
| Methode öffnen | Obere Öffnung, Hilfsstütze des Zylinders | |
| Gas Körper Kontrolle System |
Flusssteuerung | Massendurchflussmesser, Bereich 0~200SCCM Argon-Gas |
| Typ des Steuerventils | Magnetventil | |
| Statischer Zustand des Steuerventils | Normalerweise geschlossen | |
| Linearität messen | ±1,5 % F.S. | |
| Wiederholbarkeit der Messung | ±0,2 % F.S. | |
| Messen der Reaktionszeit | ≤8 Sekunde (T95) | |
| Betriebsdruckbereich | 0,3MPa | |
| Druck Ventilgehäuse | 3MPa | |
| Betriebstemperatur | (5~45)ºC | |
| Gehäusematerial | Edelstahl 316L | |
| Leckrate Ventilgehäuse | 1×10-8PA.m3/s | |
| Rohrverbindungen | 1/4″-Klemmverschraubung | |
| Eingangs- und Ausgangssignal | 0~5V | |
| Stromversorgung | ±15V (±5 %) (+15V 50mA, -15V 200mA) | |
| Gesamtabmessungen mm | 130 (Breite) × 102 (Höhe) × 28 (Dicke) | |
| Kommunikationsschnittstelle | RS485 MODBUS-Protokoll | |
| Gleichstromversorgung | Leistung | 500W |
| Ausgangsspannung | 0~600V | |
| Zeitdauer | 65000 Sekunden | |
| Startzeit | 1~10 Sekunde | |
| Messung der Filmdicke | Stromversorgung | DC:5V (±10 %) Maximaler Strom 400mA |
| Auflösung | ±0,03Hz(5-6MHz),0.0136Å /Messung (Aluminium) | |
| Messgenauigkeit | ±0,5 % Dicke + 1 Digits | |
| Messzeitraum | 100ms~1S/Zeit (kann eingestellt werden) | |
| Messbereich | 500.000 Å (Aluminium) | |
| Kristallfrequenz | 6MHz | |
| Kommunikationsschnittstelle | Serielle RS-232/485-Schnittstelle | |
| Ziffern anzeigen | 8-stellige LED-Anzeige | |
| Molekularpumpe | Pumpgeschwindigkeit der Molekularpumpe | 80L/S |
| Nenndrehzahl | 65000rpm | |
| Vibrationswert | <=0,1um | |
| Startzeit | <=4,5min | |
| Ausfallzeiten | <7min | |
| Kühlmethode | Luftgekühlt | |
| Kühlwassertemperatur | <=37ºC | |
| Kühlwasserdurchsatz | 1L/min | |
| Einbaurichtung | Vertikal ±5 Grad | |
| Sauganschluss | 150CF | |
| Abluftanschluss | KF40 | |
| Vorpumpe | Förderleistung | 1,1L/S (VRD-4) |
| Ultimatives Vakuum | 5×10-2PA | |
| Stromversorgung | AC:220V/50Hz | |
| Leistung | 400W | |
| Rauschen | <=56dB | |
| Sauganschluss | KF40 | |
| Abluftanschluss | KF25 | |
| Freigabeventil | Pneumatisches und elektronisch gesteuertes Luftablassventil ist eingebaut Die Vakuumkammer | |
| Das ultimative Vakuum der gesamten Maschine | <=5×10-4PA | |
| Ladegeschwindigkeit der Vakuumkammer | <=2,5Pa/h | |
| Softwaresystem | 1 Satz Überwachungs- und Verwaltungssoftware | |
| Testziel | 2 Kupferziele mit einem Durchmesser von 2 Zoll und Eine Dicke von 3 mm | |
1. WIR haben Magnetron Sputtermaschine mit 1 Ziel, 2 Ziele, 3 Ziele, Ziel kann an der Spitze oder unten von entworfen werden
Die Kammer.
2. DC oder RF Leistungsziel ist verfügbar.
3. Anderes Zielmaterial ist optional
4. Starkes magnetisches Ziel und pernanent magenetisches Ziel ist optional
5. Magnetron Sputtermaschine mit Verdunstungsquelle ist verfügbar
6. Kundenspezifischer Service ist immer verfügbar!
Single Traget Magnetron Sputtermaschine mit Faserwicklung Single Traget Magnetron Sputteranlage mit Quarzkammer, Filmdicke, Molekularpumpe Single Traget Magnetron Sputtermaschine mit unterem Ziel Single Traget Magnetron Sputtermaschine mit DC-Leistung Single Traget Magnetron Sputtermaschine mit HF-Leistung
WIR können die Magnetron Sputter Coater zu Land, auf dem Seeweg, auf dem Luftweg, per Express versenden, auch Paket und Versand nach Ihren Anforderungen arrangieren.
F. sind Sie Hersteller oder Handelsunternehmen?
A. Wir sind professioneller Hersteller von Laborgeräten, Wir haben professionelle R & D-Team und Werkstatt, die die Qualität und After-Sales-Service versprechen kann.
F. wie ist Ihre Garantie?
A. Unsere Garantie beträgt 12 Monate und bietet lebenslange Wartung. Wir bieten 24 Stunden Online-Service.
F. wie lange ist Ihre Lieferzeit? Wie lange dauert es, wenn ich das Instrument anpassen möchte?
A. 5-10 Tage im Laden. Maßgeschneiderte Produkte----Es dauert in der Regel 30-60 Tage, je nach Ihren Anforderungen.
F. Stromversorgung und Stecker?
A. Wir können Produkte liefern, die auf Ihre lokale Spannung und Stecker Standard akrodieren.
F. wie zahlen?
A. T T, L / C, D / P USW.
F. wie ist das Paket von Waren? Liefermethoden?
A. Standard Export Begasung Zeichen Holzbox Verpackung oder als Ihre Anforderungen.
IST MAGNETRON SPUTTERN DER RICHTIGE PROZESS FÜR IHRE ARBEIT?
Bitte nehmen Sie Kontakt auf und wir können an Ihrem Projekt mitarbeiten.
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