Lab Magnetron Sputteranlage mit Übergangskabine für Sem-Probe

• Kundendienst: Online-Service
• Garantie: Ein Jahr
• Art: Magnetron-Sputtern
• Überzug: Vacuum Coating
• Bescheinigung: CE
• Zustand: Neu
• Modell Nr.: TN-MSH325G-III-DCDCRF-SS
• Produktname: Magnertron Sputter Coater
• Beschichtungsmethode: Magnetron-Sputtern
• gleichstromversorgung: 500W*2
• hf-Leistung: 500W*1
• Kammergröße: 325*510mm
• Substratgröße: 150mm
• Substrate Heating: Max. 500c
• Zielgröße: 2 Inch*3
• Stromversorgung: ac 220V
• Drehschieberpumpe: 1,1l/s
• Turbo-Molecular Pump: 600L/s
• Kammermaterial: SS304
• Transportpaket: Fumigated Wooden Box
• Spezifikation: 600*650*1280mm
• Warenzeichen: TN
• Herkunft: China
• Produktionskapazität: 20 Sets Per Month

Produktbeschreibung

Lab Magnetron Sputtering Coater mit Übergangskabine für Sem-Proben

Produktbeschreibung

MAGNETRON SPUTTERING: ÜBERSICHT

Sputtern ist ein Plasma-basierter Abscheidungsprozess, bei dem energetische Ionen auf ein Ziel hin beschleunigt werden. Die Ionen treffen auf das Ziel und Atome werden von der Oberfläche ausgestoßen (oder gesputscht). Diese Atome bewegen sich in Richtung Substrat und integrieren sich in den wachsenden Film.

Eigenschaften des Magnetron Sputterbeschichtungsmaschinen:

1. Triple Target Magnetron Sputtering Coater ist eine kostengünstige Magnetron Sputtering Beschichtungsanlage. Es ist standardisiert, modular und anpassbar.

2. Es gibt 1-Zoll, 2-Zoll und 3-Zoll-Magnetron-Ziele. Sie können das Ziel entsprechend der Größe des zu beschichtenden Substrats auswählen.

3. Der Magnetron Sputterbeschichter ist mit 500W DC und 500W RF Leistung ausgestattet. Die Gleichstromversorgung wird für die leitungstriven Materialien und die HF-Leistung für die isolierenden Materialien verwendet.  Leistung von 300W bis 1000W Zoll nach Ihren Anforderungen.

4. Der Magnetron Sputterbeschichter ist mit einem zweikanaligen hochpräzisen Massendurchflussmesser ausgestattet. 4-Kanal-Massendurchflussmesser IS
   Verfügbar

5. Der Magnetron Sputterbeschichter ist mit einer Turbo-molekularen Pumpe ausgestattet, und das ultimative Vakuum beträgt bis zu 10E^-5Pa, andere Arten von molekularen Pumpen sind zum Kauf erhältlich.

6. Molekulare Pumpe Gasweg wird durch mehrere Magnetventile gesteuert, können Sie die Kammer öffnen, um die Probe ohne zu nehmen
   Pumpe wird abgeschaltet.

7. Dieses Produkt kann mit einem integrierten Industriecomputer ausgestattet werden, um das System zu steuern.

Produktparameter

Spezifikationen der Magnetron Sputteranlage:

Betriebsspannung		VAC 220, 60Hz
Sputterkammer		Abmessungen: ~ φ325xH510mm Material: Edelstahl 304 Innenwandbearbeitung: Elektrolytisches Polieren Versiegelungsmethode: Fluorkautschuk-Dichtung Bildfenster: ~4'' (100mm) mit Blende
Probenhalter		Probenhalter mit zentrieren unteren Einstellungen, mit einem Verschluss Probenhalter: Durchm. 150mm Drehgeschwindigkeit: 0~20rpm einstellbar Heiztemperatur: RT~ 500oC
Magnetron Sputterpistole		Menge: 3 Sets Einstellbarer Winkel -45~45 Grad Sputterausrichtung nach unten Zielmaß: Durchmesser 2'', Dicke max,3mm
Quarzkristallmonitor		Kanalnummern: Ein Kanal Genauigkeit: 0.1Ã Messgeschwindigkeit: 100ms-1S einstellbar Messbereich: 500 000Ã (Aluminium als Referenz) Standard-Sensor Quarzkristall: 6MHz
Vakuumsystem	Rücklaufpumpe	Zweistufige Drehschieberpumpe Förderleistung: 1,1l/s.
	Molekularpumpe	Förderleistung: 600 l/s. Nenndrehzahl: 27000rpm Startzeit: <5min Kühlmethode: Wasserkühlung Vakuumgrad: 5 * 10^-4PA
	Composite-Vakuummessgerät	Widerstandsmessgerät + Ionisationsmessgerät Messbereich: 10^-5Pa ~ 105 Pa
Gleichstromversorgung		Menge: 2 Sets Ausgangsleistung: 0~500W Ausgangsspannung: 0~600V Maximaler Ausgangsstrom: 1A Startzeit: 1~10s
HF-Stromversorgung		Menge: 1 Set Ausgangsleistung: 0~500W HF-Frequenz: 13,56 MHz Abgleichmethode: Automatch Reflektierte Leistung: <=100W Leistungsstabilität: ±0,1%
Massendurchflussregler		Einkanal-MFC für Ar-Gas Messbereich: 0~200sccm
Wasserkühler		Durchflussrate: 10L/min Leistung: 0,1kW Kühlleistung: 50W/ºC Tankinhalt: 9L
Kontrolle		Automatische SPS-Steuerung
Übergangskammer		Die Kammergröße ist für max 4inch Wafer. Ausgestattet mit einer kompakten molekularen Pumpengruppe Förderpumpe: VRD-4, Fördergeschwindigkeit: 1,1l/s. Modell der molekularen Pumpe: TG60F Pumpgeschwindigkeit der molekularen Pumpe: 60L/s.

 

Detaillierte Fotos

1. WIR haben Magnetron Sputtermaschine mit 1 Ziel, 2 Ziele, 3 Ziele, 4 tagrst, etc. Ziel kann an der Ober- oder Unterseite der Kammer entworfen werden.
2. 0-1000W DC-Leistung oder HF-Leistung Ziel ist verfügbar. Bias-Funktion ist optional.
3. Zielgröße: 1-Zoll, 2-Zoll, 3-Zoll, 4-Zoll, etc.
4. Starkes magnetisches Ziel und pernanent magenetisches Ziel ist optional.
5. Magnetron Sputtermaschine mit Verdunstung, E-Strahl ist verfügbar.
6. Kundenspezifischer Service ist immer verfügbar!

Unternehmensprofil

Verpackung Und Versand

WIR können die Magnetron Sputteranlage zu Land, auf dem Seeweg, auf dem Luftweg, per Express versenden, auch Paket und Versand nach Ihren Anforderungen arrangieren.

FAQ

F. sind Sie Hersteller oder Handelsunternehmen?
A. Wir sind professioneller Hersteller von Laborgeräten, Wir haben professionelle R & D-Team und Werkstatt, die die Qualität und After-Sales-Service versprechen kann.  

F. wie ist Ihre Garantie?
A.  Unsere Garantie beträgt 12 Monate und bietet lebenslange Wartung. Wir bieten 24 Stunden Online-Service.

F. wie lange ist Ihre Lieferzeit? Wie lange dauert es, wenn ich das Instrument anpassen möchte?
A. 5-10 Tage im Laden. Maßgeschneiderte Produkte----Es dauert in der Regel 30-60 Tage, je nach Ihren Anforderungen.

F. Stromversorgung und Stecker?
A. Wir können Produkte liefern, die auf Ihre lokale Spannung und Stecker Standard akrodieren.

F. wie zahlen?
A.  T T, L / C, D / P USW.

F. wie ist das Paket von Waren? Liefermethoden?
A.  Standard Export Begasung Zeichen Holzbox Verpackung oder als Ihre Anforderungen.
 

Kontaktieren Sie Uns

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Bitte nehmen Sie Kontakt auf und wir können an Ihrem Projekt mitarbeiten.

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