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Geprüfter Lieferant MAGNETRON SPUTTERING: ÜBERSICHT
Sputtern ist ein Plasma-basierter Abscheidungsprozess, bei dem energetische Ionen auf ein Ziel hin beschleunigt werden. Die Ionen treffen auf das Ziel und Atome werden von der Oberfläche ausgestoßen (oder gesputscht). Diese Atome bewegen sich in Richtung Substrat und integrieren sich in den wachsenden Film.
Magnetron Sputterbeschichtungsgeräte ist ein spezielles Laborbeschichtungsinstrument, das von unserem Unternehmen entwickelt wurde. Das Gerät kann mit DC-Stromversorgung und HF-Stromversorgung ausgestattet werden. Die Leistung reicht von 500W bis 1000W. Es kann verwendet werden, um ein- oder mehrschichtige ferroelektrische dünne Schichten, leitfähige Folien, Legierungsfolien, Halbleiterfolien, Keramikfolien, Dielektrische Filme, optische Filme usw.
Im Vergleich zum herkömmlichen Plasmasputtern hat Magnetron-Sputtern die Vorteile einer hohen Energie, hohen Geschwindigkeit, hohen Abscheiderate und einem niedrigen Anstieg der Probentemperatur. Das Magnetron-Target ist mit wassergekühlter Zwischenschicht ausgestattet. Der Wasserkühler kann effektiv Wärme abführen und Wärmeansammlungen auf der Zieloberfläche vermeiden, so dass die Magnetron-Beschichtung lange stabil arbeiten kann.
Spezifikationen der Magnetron Sputteranlage:
| Stromversorgung | AC220V,50Hz | |
| Volle Leistung | 4kW | |
| Vakuumgrad Begrenzen | 5x10-4PA | |
| Parameter der Beispieltabelle | Größe | φ150mm |
| Temperatur | Max. 500ºC | |
| Temperaturregelung | ±1ºC | |
| Drehzahl | 1-20rpm einstellbar | |
| Parameter des Magnetron-Sputterkopfes | Menge: 1/2/3 | Größe: 2 Zoll |
| Kühlmodus | Wassergekühlt, Durchfluss 10L/min erforderlich | |
| Wasserkühler | 10L/min Umwälzwasserkühlung | |
| Vakuumkammer | Größe | φ325*500mm |
| Material | SUS304 | |
| Fenster „Watch“ | Φ100mm | |
| Öffnungsmodus | Offener Typ, leicht zu ersetzen Ziel | |
| Gasflussregler | 1-Kanal, 200sccm Ar; | |
| Vakuumpumpe | Ein molekulares Pumpensystem, das 600L/S pumpt | |
| Dickenmessgerät für vibrierenden Quarzfilm | Ein Satz, Auflösung 0,10 Angström | |
| Stromquelle für Sputter | DC-Stromversorgung: 500W-1000W, geeignet für die Vorbereitung von Metallfolien HF-Leistung supply500W-1000W, geeignet für nicht-metallische Folien |
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| Betriebsart | All-in-One-Computer-Betrieb | |
| Gesamtabmessungen | 1090mm X 900mm X 1250mm | |
| Gesamtgewicht | 350kg | |
Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd ist ein umfassendes Unternehmen, das Design, Forschung und Entwicklung, Produktion und Vertrieb integriert.
Die Hauptprodukte unseres Unternehmens sind: Spinsenat, thermische Verdunstungsanlage , Magnetron Sputter Beschichter, Plasma Sputter Beschichter, E-Beam Verdunstungsanlage, PLD Pulse Laser Coating Maschine, Plasma-Reiniger, CVD-System, PECVD -System, Diamant-Draht-Schneidemaschine, Schmelzofen / Ofen, Lichtbogen Schmelzofen, etc.
Unsere Produkte sind weit verbreitet im Bereich der materialwissenschaftlichen Forschung. Wir arbeiten eng mit heimischen Universitäten, Laboren und neuen Materialunternehmen zusammen. Es wurde erfolgreich in mehr als 20 Länder und Regionen einschließlich der Vereinigten Staaten, das Vereinigte Königreich, Deutschland, Russland, Schweiz, Kanada, Brasilien usw. und haben langfristige Kooperationsbeziehungen mit lokalen Händlern aufgebaut.
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