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Geprüfter Lieferant Kleiner Desktop-Single-Target-DC-Magnetron-Sputterbeschichter
MAGNETRON SPUTTERING: ÜBERSICHT
Sputtern ist ein Plasma-basierter Abscheidungsprozess, bei dem energetische Ionen auf ein Ziel hin beschleunigt werden. Die Ionen treffen auf das Ziel und Atome werden von der Oberfläche ausgestoßen (oder gesputscht). Diese Atome bewegen sich in Richtung Substrat und integrieren sich in den wachsenden Film.
Magnetron Sputterbeschichtungsgeräte ist ein spezielles Laborbeschichtungsinstrument, das von unserem Unternehmen entwickelt wurde. Das Gerät kann mit DC-Stromversorgung und HF-Stromversorgung ausgestattet werden. Die Leistung reicht von 500W bis 1000W. Es kann verwendet werden, um ein- oder mehrschichtige ferroelektrische dünne Schichten, leitfähige Folien, Legierungsfolien, Halbleiterfolien, Keramikfolien, Dielektrische Filme, optische Filme usw.
Im Vergleich zum herkömmlichen Plasmasputtern hat Magnetron-Sputtern die Vorteile einer hohen Energie, hohen Geschwindigkeit, hohen Abscheiderate und einem niedrigen Anstieg der Probentemperatur. Das Magnetron-Target ist mit wassergekühlter Zwischenschicht ausgestattet. Der Wasserkühler kann effektiv Wärme abführen und Wärmeansammlungen auf der Zieloberfläche vermeiden, so dass die Magnetron-Beschichtung lange stabil arbeiten kann.
Spezifikationen der Magnetron Sputteranlage:
| Produktname | Magnetron Sputtering Coater | |
| Modell | TN-MSZ245-I-DC-SS | |
| Probenbühne | Größe | Φ100mm |
| Heiztemperatur | <500ºC | |
| Drehgeschwindigkeit | 0~20rpm, einstellbar | |
| Sputterpistole | 2 Zoll*1, 50,8mm, Stärke<3mm | |
| Vakuumkammer | Größe | φ245*300mm |
| Beobachtungsfenster | Quarz | |
| Kammermaterial | SUS304 | |
| Öffnen | Oben geöffnet | |
| Vakuumsystem | Reservepumpe | Drehschieber-Vakuumpumpe, 1,1L/s. |
| Sekundärpumpe | Molekularpumpe, 60L/s | |
| Vakuummessung | Komposit-Vakuummessgerät, Bereich: 10-5~105Pa | |
| Saug-Anschluss | KF16, KF40 | |
| Auslassöffnung | KF16 | |
| Vakuumgrad | 1,0×10-4PA | |
| Spannung | AC 220V 50/60Hz | |
| Sputterleistung | Menge | Gleichstromnetzteil*1 |
| Ausgangsleistung | 300W | |
| Andere | Spannung | AC220V,50Hz |
| Gesamtleistung | 2kW | |
| Gesamtgröße | 550*350*400mm | |
1. WIR haben Magnetron Sputtermaschine mit 1 Ziel, 2 Ziele, 3 Ziele, 4 tagrst, etc. Ziel kann an der Ober- oder Unterseite der Kammer entworfen werden.
2. 0-1000W DC-Leistung oder HF-Leistung Ziel ist verfügbar. Bias-Funktion ist optional.
3. Zielgröße: 1-Zoll, 2-Zoll, 3-Zoll, 4-Zoll, etc.
4. Starkes magnetisches Ziel und pernanent magenetisches Ziel ist optional.
5. Magnetron Sputtermaschine mit Verdunstung, E-Strahl ist verfügbar.
6. Kundenspezifischer Service ist immer verfügbar!
Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd ist ein umfassendes Unternehmen, das Design, Forschung und Entwicklung, Produktion und Vertrieb integriert.
Die Hauptprodukte unseres Unternehmens sind: Spinsenat, thermische Verdunstungsanlage , Magnetron Sputter Beschichter, Plasma Sputter Beschichter, E-Beam Verdunstungsanlage, PLD Pulse Laser Coating Maschine, Plasma-Reiniger, CVD-System, PECVD -System, Diamant-Draht-Schneidemaschine, Schmelzofen / Ofen, Lichtbogen Schmelzofen, etc.
Unsere Produkte sind weit verbreitet im Bereich der materialwissenschaftlichen Forschung. Wir arbeiten eng mit heimischen Universitäten, Laboren und neuen Materialunternehmen zusammen. Es wurde erfolgreich in mehr als 20 Länder und Regionen einschließlich der Vereinigten Staaten, das Vereinigte Königreich, Deutschland, Russland, Schweiz, Kanada, Brasilien usw. und haben langfristige Kooperationsbeziehungen mit lokalen Händlern aufgebaut.
Wenn Sie Materialforschung betreiben, kontaktieren Sie uns bitte und wir werden Ihnen maßgeschneiderte Dienstleistungen anbieten, um Ihre Forschungsexperimente reibungsloser zu gestalten!
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F. sind Sie Hersteller oder Handelsunternehmen?
A. Wir sind professioneller Hersteller von Laborgeräten, Wir haben professionelle R & D-Team und Werkstatt, die die Qualität und After-Sales-Service versprechen kann.
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A. T T, L / C, D / P USW.
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