After-sales Service: | on-Line Service |
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Warranty: | One Year |
Art: | Magnetron-Sputtern |
Überzug: | Vacuum Coating |
Substrat: | Stahl |
Bescheinigung: | CE |
Lieferanten mit verifizierten Geschäftslizenzen
Triple Target Vacuum Magnetron Sputtering Coating Machine für Halbleiter
MAGNETRON SPUTTERING: ÜBERSICHT
Sputtern ist ein Plasma-basierter Abscheidungsprozess, bei dem energetische Ionen auf ein Ziel hin beschleunigt werden. Die Ionen treffen auf das Ziel und Atome werden von der Oberfläche ausgestoßen (oder gesputscht). Diese Atome bewegen sich in Richtung Substrat und integrieren sich in den wachsenden Film.
Eigenschaften des Magnetron Sputterbeschichtungsmaschinen:
1. Triple Target Magnetron Sputtering Coater ist eine kostengünstige Magnetron Sputtering Beschichtungsanlage. Es ist standardisiert, modular und anpassbar.
2. Es gibt 1-Zoll, 2-Zoll und 3-Zoll-Magnetron-Ziele. Sie können das Ziel entsprechend der Größe des zu beschichtenden Substrats auswählen.
3. Der Magnetron Sputterbeschichter ist mit 500W DC und 500W RF Leistung ausgestattet. Die Gleichstromversorgung wird für die leitungstriven Materialien und die HF-Leistung für die isolierenden Materialien verwendet. Leistung von 300W bis 1000W Zoll nach Ihren Anforderungen.
4. Der Magnetron Sputterbeschichter ist mit einem zweikanaligen hochpräzisen Massendurchflussmesser ausgestattet. 4-Kanal-Massendurchflussmesser IS
Verfügbar
5. Der Magnetron Sputterbeschichter ist mit einer Turbo-molekularen Pumpe ausgestattet, und das ultimative Vakuum beträgt bis zu 10E-5Pa, andere Arten von molekularen Pumpen sind zum Kauf erhältlich.
6. Molekulare Pumpe Gasweg wird durch mehrere Magnetventile gesteuert, können Sie die Kammer öffnen, um die Probe ohne zu nehmen
Pumpe wird abgeschaltet.
7. Dieses Produkt kann mit einem integrierten Industriecomputer ausgestattet werden, um das System zu steuern.
8. Die Ausrüstung ist mit einer Vibrationsprobenbühne ausgestattet, die das Pulver oder Partikel auf ihm unregelmäßig drehen kann, sicherstellen, dass
Die Oberfläche aller Partikel kann während des Beschichtungsprozesses mit Folie beschichtet werden. Es ist ein PVD-Gerät , das speziell für entwickelt wurde
Granulare Proben.
Spezifikationen der Magnetron Sputteranlage:
Produktname | Triple Target Magnetron Sputtering Coater | |
Probenbühne | Größe | Dia,150mm |
Heiztemperatur | Max. 900ºC | |
Temperaturgenauigkeit | ±1ºC | |
Drehzahl | 1-20rpm einstellbar | |
Magnetron Sputtering Target | Menge | 2 Zoll×3 (1 Zoll, 2 Zoll optional) |
Kühlmodus | Wasserkühlung | |
Wasserkühler | Umwälzwasserkühler mit einer Durchflussrate von 10L/min | |
Vakuumkammer | Kammergröße | Dia,500*500mm |
Kammermaterial | Edelstahl | |
Fenster „Watch“ | Dia,100mm | |
Öffnungsmodus | Vordere Klappe offen | |
Massendurchflussmesser | 2 Kanäle; Messbereich 100SCCM; 100SCCM (kundenspezifisch anpassbar) | |
Vakuumsystem | Modell | CY-GZK103-A |
Molekularpumpe | 600L/s | |
Vorpumpe | 1,1l/s | |
Ultimatives Vakuum | 1,0E-5Pa | |
Pumpschnittstelle | CF160 | |
Abgasschnittstelle | KF40 | |
Vakuummessung | Compound-Vakuummesser | |
Stromversorgung | AC;220V 50/60Hz | |
Förderleistung | Vakuum bis zu 1,0E-3Pa in 20 Minuten | |
Stromversorgung | Menge | DC-Netzteil x2 HF-Stromversorgung x1 |
Max. Ausgangsleistung | DC 500 W, RF 300W | |
Filmdicke | Quarzkristall-Film-Dickenmonitor, Auflösung: 0,1 Å | |
Andere Parameter | Versorgungsspannung | AC220V,50Hz |
Gesamtleistung | 4KW | |
Gesamtgröße | 600mm×650mm×1280mm | |
Gesamtgewicht | Etwa 350kg |
1. WIR haben Magnetron Sputtermaschine mit 1 Ziel, 2 Ziele, 3 Ziele, 4 tagrst, etc. Ziel kann an der Ober- oder Unterseite der Kammer entworfen werden.
2. 0-1000W DC-Leistung oder HF-Leistung Ziel ist verfügbar. Bias-Funktion ist optional.
3. Zielgröße: 1-Zoll, 2-Zoll, 3-Zoll, 4-Zoll, etc.
4. Starkes magnetisches Ziel und pernanent magenetisches Ziel ist optional.
5. Magnetron Sputtermaschine mit Verdunstung, E-Strahl ist verfügbar.
6. Kundenspezifischer Service ist immer verfügbar!
Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd ist ein umfassendes Unternehmen, das Design, Forschung und Entwicklung, Produktion und Vertrieb integriert.
Die Hauptprodukte unseres Unternehmens sind: Spinsenat, thermische Verdunstungsanlage , Magnetron Sputter Beschichter, Plasma Sputter Beschichter, E-Beam Verdunstungsanlage, PLD Pulse Laser Coating Maschine, Plasma-Reiniger, CVD-System, PECVD -System, Diamant-Draht-Schneidemaschine, Schmelzofen / Ofen, Lichtbogen Schmelzofen, etc.
Unsere Produkte sind weit verbreitet im Bereich der materialwissenschaftlichen Forschung. Wir arbeiten eng mit heimischen Universitäten, Laboren und neuen Materialunternehmen zusammen. Es wurde erfolgreich in mehr als 20 Länder und Regionen einschließlich der Vereinigten Staaten, das Vereinigte Königreich, Deutschland, Russland, Schweiz, Kanada, Brasilien usw. und haben langfristige Kooperationsbeziehungen mit lokalen Händlern aufgebaut.
Wenn Sie Materialforschung betreiben, kontaktieren Sie uns bitte und wir werden Ihnen maßgeschneiderte Dienstleistungen anbieten, um Ihre Forschungsexperimente reibungsloser zu gestalten!
WIR können die Magnetron Sputteranlage zu Land, auf dem Seeweg, auf dem Luftweg, per Express versenden, auch Paket und Versand nach Ihren Anforderungen arrangieren.
F. sind Sie Hersteller oder Handelsunternehmen?
A. Wir sind professioneller Hersteller von Laborgeräten, Wir haben professionelle R & D-Team und Werkstatt, die die Qualität und After-Sales-Service versprechen kann.
F. wie ist Ihre Garantie?
A. Unsere Garantie beträgt 12 Monate und bietet lebenslange Wartung. Wir bieten 24 Stunden Online-Service.
F. wie lange ist Ihre Lieferzeit? Wie lange dauert es, wenn ich das Instrument anpassen möchte?
A. 5-10 Tage im Laden. Maßgeschneiderte Produkte----Es dauert in der Regel 30-60 Tage, je nach Ihren Anforderungen.
F. Stromversorgung und Stecker?
A. Wir können Produkte liefern, die auf Ihre lokale Spannung und Stecker Standard akrodieren.
F. wie zahlen?
A. T T, L / C, D / P USW.
F. wie ist das Paket von Waren? Liefermethoden?
A. Standard Export Begasung Zeichen Holzbox Verpackung oder als Ihre Anforderungen.
IST MAGNETRON SPUTTERN DER RICHTIGE PROZESS FÜR IHRE ARBEIT?
Bitte nehmen Sie Kontakt auf und wir können an Ihrem Projekt mitarbeiten.
Wie können wir Ihnen helfen, Ihre Ziele zu erreichen? Welche technischen Hindernisse kann unser Engineering-Team Ihnen dabei helfen? Bitte drücken Sie die Schaltfläche „Kontakt aufnehmen“, um mit uns in Kontakt zu treten. Wir freuen uns, von Ihrer Recherche zu erfahren und Ihnen auf jede ermögliche Weise zu helfen.
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