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etwa azo-Sputterziele
  • Technologische Innovation
  • Zuverlässige Lieferketten
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azo-Sputterziele20+ Fabriken verifiziert

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd.

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99.95% Azo Aluminium-Zink-Oxid-Sputterziel für PVD-Beschichtung

99.95% Azo Aluminium-Zink-Oxid-Sputterziel für PVD-Beschichtung

200,00-400,00 $
1 Stück(MOQ)
99.5% Azo ZnO/Al2O3 98/2wt% Sputterziel für Dünnfilm-Beschichtung

99.5% Azo ZnO/Al2O3 98/2wt% Sputterziel für Dünnfilm-Beschichtung

50,00-300,00 $
1 pieces(MOQ)
Hochwertiges Azo-Ziel ZnO/Al ZnO/Al2O3 Sputterziel zu wettbewerbsfähigen Preisen

Hochwertiges Azo-Ziel ZnO/Al ZnO/Al2O3 Sputterziel zu wettbewerbsfähigen Preisen

50,00-299,00 $
1 Stück(MOQ)
99.99% Azo-Keramikziele ZnO/Al2O3 Sputterziele Zinkoxid und Aluminiumoxid-Ziele für Beschichtungen

99.99% Azo-Keramikziele ZnO/Al2O3 Sputterziele Zinkoxid und Aluminiumoxid-Ziele für Beschichtungen

110,00-120,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Lonwin Industry Group Limited

5.0
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99.95% Azo-Keramische Ziele Aluminium-dotiertes Zinkoxid Sputterziele für PVD-Beschichtung

99.95% Azo-Keramische Ziele Aluminium-dotiertes Zinkoxid Sputterziele für PVD-Beschichtung

17,00-55,00 $
1 Kg(MOQ)
99.999% Reine Si Silizium-Sputterziele Mono Poly Kristall Siliziumziele

99.999% Reine Si Silizium-Sputterziele Mono Poly Kristall Siliziumziele

17,00-55,00 $
1 Kg(MOQ)
Nicrsi Legierungsziel Nickel Chrom Silizium Sputterziel für PVD-Beschichtung

Nicrsi Legierungsziel Nickel Chrom Silizium Sputterziel für PVD-Beschichtung

17,00-55,00 $
1 Kg(MOQ)
99.98% Mo2c Ziele Molybdänkarbid Keramische Sputterziele

99.98% Mo2c Ziele Molybdänkarbid Keramische Sputterziele

17,00-55,00 $
1 Kg(MOQ)
1/4

Uv Tech Material Ltd

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Spray Target nBox Nb2O5 Sputter Target drehbar hohe Reinheit 99,95% Hüfte CIP Target Export Vicky-Chan@Uvtm. COM Sial ZnAl Znsn NiCr AZO ITO

Spray Target nBox Nb2O5 Sputter Target drehbar hohe Reinheit 99,95% Hüfte CIP Target Export Vicky-Chan@Uvtm. COM Sial ZnAl Znsn NiCr AZO ITO

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
Drehbares Tiox Sial Silber Sputtering Target Cathode Tube Hohe Qualität Reinheit für PVD Nano Dünnschichtmaterial

Drehbares Tiox Sial Silber Sputtering Target Cathode Tube Hohe Qualität Reinheit für PVD Nano Dünnschichtmaterial

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
Rotary Indium Target in Sputtering Target

Rotary Indium Target in Sputtering Target

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
Drehbare Si Target Zylindrische Silizium-Kathode Hohe Qualität Monilithisch Gerade Und Dogbone-Form

Drehbare Si Target Zylindrische Silizium-Kathode Hohe Qualität Monilithisch Gerade Und Dogbone-Form

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)

Shenzhen Canyuan Metal Material Co., Ltd.

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4n Azo-Ziel ZnO: Al2O3 Rotationssputterziele

4n Azo-Ziel ZnO: Al2O3 Rotationssputterziele

200,00-10.000,00 $
1 Stück(MOQ)
Azo-Ziele für die effiziente Herstellung transparenter leitfähiger Filme

Azo-Ziele für die effiziente Herstellung transparenter leitfähiger Filme

200,00-10.000,00 $
1 Stück(MOQ)
Nachhaltige Produktions- und Recyclingstrategien für 4n ZnO: Al2O3 Rotationssputterziele

Nachhaltige Produktions- und Recyclingstrategien für 4n ZnO: Al2O3 Rotationssputterziele

200,00-10.000,00 $
1 Stück(MOQ)
Azo-Zielversorgung zur Deckung aller Bedürfnisse an transparenten leitfähigen Beschichtungen

Azo-Zielversorgung zur Deckung aller Bedürfnisse an transparenten leitfähigen Beschichtungen

200,00-10.000,00 $
1 Stück(MOQ)

ATM Material Co., Ltd.

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Ziel mit hoher Qualität

Ziel mit hoher Qualität

0,10-100,00 $
1.000 Stücke(MOQ)
W Ziel

W Ziel

100,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Able Target Limited

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Spritzenziel, Al2O3/Aluminum Oxid, Al2O3/ZnO/Azo Aluminiumzink-Oxid

Spritzenziel, Al2O3/Aluminum Oxid, Al2O3/ZnO/Azo Aluminiumzink-Oxid

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
Spritzenziele

Spritzenziele

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)

Beijing Loyaltarget Technology Co, Limited

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Azo zylinderförmige Ziele

Azo zylinderförmige Ziele

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
Azo Spritzenziel-Aluminiumzink-Oxid-Ziel

Azo Spritzenziel-Aluminiumzink-Oxid-Ziel

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)

Fuzhou Nuoxin Advanced Material Co. Ltd.

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AZO Sputtering Target Aluminium Zinkoxid für die Verdampfung Dünnschicht-Optical Beschichtung

AZO Sputtering Target Aluminium Zinkoxid für die Verdampfung Dünnschicht-Optical Beschichtung

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)

China Leadmat Advanced Materials Co., Ltd.

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Spritzenziel

Spritzenziel

18,00-20,00 $
1 Stück(MOQ)

Ningbo Sunlit Electronic Material Co. Ltd

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Tonerde lackiertes Zink-Oxid-Ziel

Tonerde lackiertes Zink-Oxid-Ziel

200,00-300,00 $
2 Stücke(MOQ)

Yochane Vacuum Technology Limited

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Azo Spritzenschichts-Ziel

Azo Spritzenschichts-Ziel

30,00 $
1 Stück(MOQ)

China Material Technology Co., Ltd

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Hoher Reinheitsgrad-Spritzenziel ---- Azo Ziel

Hoher Reinheitsgrad-Spritzenziel ---- Azo Ziel

50,00 $
1 Stück(MOQ)

Shanghai Zenkaah New Materials Technology Co., Ltd.

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Hochreines Zinkoxid-Aluminium (AZO)-Zielmaterial, Zinkoxid (ZnO) dotiert mit Aluminiumoxid (Al2O3), Magnetron-Sputteroxid-Zielmaterial, Backplate-Bonding.

Hochreines Zinkoxid-Aluminium (AZO)-Zielmaterial, Zinkoxid (ZnO) dotiert mit Aluminiumoxid (Al2O3), Magnetron-Sputteroxid-Zielmaterial, Backplate-Bonding.

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)

Guangdong Huicheng Vacuum Technology Co., Ltd.

20 J.
·Hersteller/Werk & Handelsunternehmen
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Hcvac Inline-Sputterbeschichtungssystem für ITO, Azo, ZnO leitfähige Filme

Hcvac Inline-Sputterbeschichtungssystem für ITO, Azo, ZnO leitfähige Filme

150.000,00-500.000,00 $
1 Satz(MOQ)
Hcvac ITO, Azo, Low-E Glas Magnetron-Sputter-Vakuumbeschichtungsmaschine Linie / Glas Inline-Beschichtungssystem

Hcvac ITO, Azo, Low-E Glas Magnetron-Sputter-Vakuumbeschichtungsmaschine Linie / Glas Inline-Beschichtungssystem

150.000,00 $
1 Satz(MOQ)
Hcvac Magnetron-Sputter-PVD-Beschichtungsmaschine für Solarzellen, Azo/ITO-Glas

Hcvac Magnetron-Sputter-PVD-Beschichtungsmaschine für Solarzellen, Azo/ITO-Glas

150.000,00 $
1 Satz(MOQ)
Hcvac ITO Azo Magnetron-Sputter-PVD Inline-Beschichtungsmaschinen-System

Hcvac ITO Azo Magnetron-Sputter-PVD Inline-Beschichtungsmaschinen-System

150.000,00-500.000,00 $
1 Satz(MOQ)
1/4

Xiamen Tmax Battery Equipments Limited

5.0
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Labortisch-Magnetron-Sputterbeschichtungsmaschine für die Dünnschichtfertigung

Labortisch-Magnetron-Sputterbeschichtungsmaschine für die Dünnschichtfertigung

40.000,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Suzhou Zhongzhina Semiconductor Technology Co., Ltd.

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Hochreines Zinkoxid-Aluminium (AZO) Zielmaterial, Zinkoxid (ZnO) dotiert mit Aluminiumoxid (Al2O3), Magnetron Sputteroxid-Ziel, Backplate Bonding

Hochreines Zinkoxid-Aluminium (AZO) Zielmaterial, Zinkoxid (ZnO) dotiert mit Aluminiumoxid (Al2O3), Magnetron Sputteroxid-Ziel, Backplate Bonding

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)

UV Tech Material Co., Ltd.

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Rotary AZO Target Al2O3: ZnO Target

Rotary AZO Target Al2O3: ZnO Target

0,01-0,09 $
1 Stück(MOQ)
Drehbares Azo-Ziel Hochwertiges Sputterziel

Drehbares Azo-Ziel Hochwertiges Sputterziel

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
Gute Qualität Bonding AZO Sputtering Ziel ZnO: Al2O3 = 98: 2wt%/ 99: 1wt%

Gute Qualität Bonding AZO Sputtering Ziel ZnO: Al2O3 = 98: 2wt%/ 99: 1wt%

Verhandelbar
2 Stücke(MOQ)
Drehbares AZO-Ziel, Magnetron Sputtering-Ziel, ZnO. Al2O3-Ziel, Zink-Aluminiumoxid-Ziel

Drehbares AZO-Ziel, Magnetron Sputtering-Ziel, ZnO. Al2O3-Ziel, Zink-Aluminiumoxid-Ziel

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)

FUJIAN ACETRON NEW MATERIALS CO., LTD.

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ACETRON 4N Hochreines ITO Rotationsziel für Vakuumbeschichtung/PVD-Beschichtung

ACETRON 4N Hochreines ITO Rotationsziel für Vakuumbeschichtung/PVD-Beschichtung

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
ACETRON 4N Hochreines ITO-Rohrziel für Vakuumbeschichtung/PVD-Beschichtung

ACETRON 4N Hochreines ITO-Rohrziel für Vakuumbeschichtung/PVD-Beschichtung

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
ACETRON 4N 99.99% Hochreines Aluminium-Zink-Oxid Planar-Sputterziel für Vakuum/PVD-Beschichtung

ACETRON 4N 99.99% Hochreines Aluminium-Zink-Oxid Planar-Sputterziel für Vakuum/PVD-Beschichtung

99,00-99.999,00 $
1 Stück(MOQ)
ACETRON 4N Hochreines AZO-Rohrziel für Vakuumbeschichtung/PVD-Beschichtung

ACETRON 4N Hochreines AZO-Rohrziel für Vakuumbeschichtung/PVD-Beschichtung

99,00-99.999,00 $
1 Stück(MOQ)

Beenine Shanke Technology Co., Ltd.

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AZO Sputterziel für Magnetron Vacuum Coating Factory China

AZO Sputterziel für Magnetron Vacuum Coating Factory China

300,00 $
1 Stück(MOQ)
Gute Qualität Bonding AZO Sputtering Ziel ZnO: Al2O3 = 98: 2wt% 99: 1wt%

Gute Qualität Bonding AZO Sputtering Ziel ZnO: Al2O3 = 98: 2wt% 99: 1wt%

300,00 $
1 Stück(MOQ)
4N 99,99 % hochreines AZO-Rohrziel für Vakuumbeschichtung PVD-Beschichtung

4N 99,99 % hochreines AZO-Rohrziel für Vakuumbeschichtung PVD-Beschichtung

300,00 $
1 Stück(MOQ)
Kundenspezifisches Sputterziel AZO Aluminium Zinkoxid ZnO Al2O3 hoch Reinheit

Kundenspezifisches Sputterziel AZO Aluminium Zinkoxid ZnO Al2O3 hoch Reinheit

300,00 $
1 Stück(MOQ)

Jiangyin Entret Coating Technology Co., Ltd.

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Hochwertiges Sputterziel für Sputterbeschichtung

Hochwertiges Sputterziel für Sputterbeschichtung

2.400,00 $
1 Stück(MOQ)
Hochwertiges Kobalt Sputterziel in China

Hochwertiges Kobalt Sputterziel in China

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
Azo Sputterziel (Aluminiumoxid-Dotiertes Zinkoxid)

Azo Sputterziel (Aluminiumoxid-Dotiertes Zinkoxid)

159,00 $
1 Stück(MOQ)
AZO (ZnO/Al2O3 98: 2wt %) Ziel für Sputtering

AZO (ZnO/Al2O3 98: 2wt %) Ziel für Sputtering

10,00 $
1 Stück(MOQ)

Zhongzheng Yejin Technology Co., Ltd.

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Hohes keramisches ITO Ziel des Reinheitsgrad-Indium-Zinn-Oxid-Spritzenziel-99.99% 4n

Hohes keramisches ITO Ziel des Reinheitsgrad-Indium-Zinn-Oxid-Spritzenziel-99.99% 4n

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
Hoher Reinheitsgrad-keramisches Ziel ITO, AZO, Tzo, Tiox, Nbox, Gzo, Sic, Zro2, Ziel SpritzensAl2O3

Hoher Reinheitsgrad-keramisches Ziel ITO, AZO, Tzo, Tiox, Nbox, Gzo, Sic, Zro2, Ziel SpritzensAl2O3

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
Großes 99.99% ITO Ziel-Indium-Zinn-Oxid-drehendes Ziel und Verpfänden

Großes 99.99% ITO Ziel-Indium-Zinn-Oxid-drehendes Ziel und Verpfänden

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
1/2
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