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etwa Kupferziel
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Kupferziel1,000+ Fabriken verifiziert

SUZHOU TECHNO-TEC PHOTOELECTRIC MATERIALS CO., LTD

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Cu-Sputterziel Kupfer Rotationsziel für metallbeschichtete Leiter/ Halbleiter

Cu-Sputterziel Kupfer Rotationsziel für metallbeschichtete Leiter/ Halbleiter

10,00-15,00 $
1 Kg(MOQ)
CuNiTi Legierung Ziel Kupfer Nickel Titan Legierung Sputterziel für LCD/Touchpanel

CuNiTi Legierung Ziel Kupfer Nickel Titan Legierung Sputterziel für LCD/Touchpanel

50,00 $
1 Kg(MOQ)
CuInGaS Ziel Kupfer Indium Gallium Schwefel Keramisches Sputterziel für optische Dünnfilm-Beschichtung

CuInGaS Ziel Kupfer Indium Gallium Schwefel Keramisches Sputterziel für optische Dünnfilm-Beschichtung

40,00 $
1 Kg(MOQ)
CuS Zielkupfer-Schwefel-Keramiksputterziel für optische Dünnfilm-Beschichtung

CuS Zielkupfer-Schwefel-Keramiksputterziel für optische Dünnfilm-Beschichtung

40,00 $
1 Kg(MOQ)
1/4

Beenine Shanke Technology Co., Ltd.

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PVD-Beschichtung Sputterziel planar rund Kupfer Cu OFC

PVD-Beschichtung Sputterziel planar rund Kupfer Cu OFC

100,00-500,00 $
1 Kg(MOQ)
Hochwertige Kupfer-Nickel-Legierung Sputterziel Cu/Ni-Bindung

Hochwertige Kupfer-Nickel-Legierung Sputterziel Cu/Ni-Bindung

300,00-1.000,00 $
1 Stück(MOQ)
PVD-Beschichtung Sputterziel planar rund Kupfer-Nickel-Legierung Cu/Ni Fabrik

PVD-Beschichtung Sputterziel planar rund Kupfer-Nickel-Legierung Cu/Ni Fabrik

300,00-1.000,00 $
1 Stück(MOQ)
Kupfer-Nickel Cu/Ni Multi-PCS Konstruktionslegierung Beschichtungssubstrat

Kupfer-Nickel Cu/Ni Multi-PCS Konstruktionslegierung Beschichtungssubstrat

300,00-1.000,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Dongguan Gravel Industries and Enterprise Company Limited

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Kupferziel PVD-Vakuum-Sputterziel

Kupferziel PVD-Vakuum-Sputterziel

35.000,00 $
1 Stück(MOQ)
Hochreines Kupfer-Rückzieltarget-Vakuum-Sputtern

Hochreines Kupfer-Rückzieltarget-Vakuum-Sputtern

2.200,00 $
1 Stück(MOQ)
Zinn Silber Kupfer Ziel Sac Ziel

Zinn Silber Kupfer Ziel Sac Ziel

6.500,00 $
1 Stück(MOQ)
Silberkupfer-Ziel PVD-Beschichtung Sputterziel planar rundes Ziel

Silberkupfer-Ziel PVD-Beschichtung Sputterziel planar rundes Ziel

8.000,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd.

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99.99% Kupfer-Nickel-Titan-Legierungsplatte Scheibe Blatt Cuniti 62/35/3wt% Sputterziel

99.99% Kupfer-Nickel-Titan-Legierungsplatte Scheibe Blatt Cuniti 62/35/3wt% Sputterziel

70,00-80,00 $
1 Stück(MOQ)
Hochreines Metall Cu Kupferplatte Sputterziel

Hochreines Metall Cu Kupferplatte Sputterziel

50,00-200,00 $
1 Stück(MOQ)
Kupferlegierung Kupfer-Titan Cuti-Legierung Sputterziel mit dem besten Preis

Kupferlegierung Kupfer-Titan Cuti-Legierung Sputterziel mit dem besten Preis

100,00-2.000,00 $
1 Stück(MOQ)
Anpassen Metall Zinn Ziel 99.99% Reines Sn Zinn Sputterziele mit Kupferplattenbindung

Anpassen Metall Zinn Ziel 99.99% Reines Sn Zinn Sputterziele mit Kupferplattenbindung

30,00-1.000,00 $
1 pieces(MOQ)
1/4

Zhuzhou Weilai New Materials Technology Co., Ltd.

8 J.
·Hersteller/Werk & Handelsunternehmen
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Widerstandsschweißen Elektrode Reines Kupfer Platte Ziel

Widerstandsschweißen Elektrode Reines Kupfer Platte Ziel

15,00-80,00 $
1 Stück(MOQ)
Lieferung von halbgefertigten Kupfer-Wolfram-Bonding-Stationsanoden-Zielen

Lieferung von halbgefertigten Kupfer-Wolfram-Bonding-Stationsanoden-Zielen

25,00-40,00 $
30 Stücke(MOQ)
Kupferinlayierte Wolframstationäranoden-Ziele für Röntgenröhren-Ersatzteile

Kupferinlayierte Wolframstationäranoden-Ziele für Röntgenröhren-Ersatzteile

25,00-40,00 $
30 Stücke(MOQ)
mit exquisiter Verpackung, Kupfer-Wolfram kombinierte stationäre Anodenziele, feste Anodenziele

mit exquisiter Verpackung, Kupfer-Wolfram kombinierte stationäre Anodenziele, feste Anodenziele

25,00-40,00 $
30 Stücke(MOQ)
1/4

Lonwin Industry Group Limited

5.0
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Hochreine 99.9% Alcu Aluminium-Kupfer-Sputtertargets für PVD-Beschichtung

Hochreine 99.9% Alcu Aluminium-Kupfer-Sputtertargets für PVD-Beschichtung

17,00-55,00 $
1 Kg(MOQ)
99.9% Cuin Legierungsziel Kupfer Indium Sputterziel

99.9% Cuin Legierungsziel Kupfer Indium Sputterziel

17,00-55,00 $
1 Kg(MOQ)
99.9% Alsicu Legierungsziel Aluminium Silizium Kupfer Sputterziel

99.9% Alsicu Legierungsziel Aluminium Silizium Kupfer Sputterziel

17,00-55,00 $
1 Kg(MOQ)
Cu Kupfer Sputterziel Metall Kupfer Rotationsziel für Magnetron-Sputtern

Cu Kupfer Sputterziel Metall Kupfer Rotationsziel für Magnetron-Sputtern

17,00-55,00 $
1 Kg(MOQ)
1/4

Rheniumet Ltd.

17 J.
·Handelsunternehmen
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99.95% Großhandel China Reines Kupferziel für Touchscreen

99.95% Großhandel China Reines Kupferziel für Touchscreen

100,00-1.000,00 $
1 Stück(MOQ)
53-105um Kugel-Pulver

53-105um Kugel-Pulver

Verhandelbar
10 Kg(MOQ)
99.999% Hochreines Wolfram-Pulver für Wolfram-Sputterziele

99.999% Hochreines Wolfram-Pulver für Wolfram-Sputterziele

120,00-130,00 $
10 Kg(MOQ)
Tantal-Target, Ta-Sputterziel

Tantal-Target, Ta-Sputterziel

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
1/4

Tianjin Rui Yuan Electric Material Co., Ltd.

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Ultra-Reinheit 99.9999% 7n5 Kupferziele

Ultra-Reinheit 99.9999% 7n5 Kupferziele

26,99-53,03 $
1.000 kilograms(MOQ)
Chinesische Fabrik Hochreines 6n Kupfer (Cu) 99.9999% Sputterziel

Chinesische Fabrik Hochreines 6n Kupfer (Cu) 99.9999% Sputterziel

89,00-180,00 $
1.000 kilograms(MOQ)
C110/C10100/Tu00 5n Hochreiner Sputterzielkupfer 99.999% für optische Beschichtung

C110/C10100/Tu00 5n Hochreiner Sputterzielkupfer 99.999% für optische Beschichtung

79,99 $
50 Kg(MOQ)
99.9999% 6n Hochreine Metallkupfer-Sputtertargets Trägerplatte

99.9999% 6n Hochreine Metallkupfer-Sputtertargets Trägerplatte

335,00-350,00 $
100 Kg(MOQ)
1/4

Inner Mongolia Rongtai Rhenium New Materials Co., Ltd.

5.0
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Premium Yttrium-Barium-Kupfer-Oxid-Sputterzielscheibe für Elektronik

Premium Yttrium-Barium-Kupfer-Oxid-Sputterzielscheibe für Elektronik

190,00-199,00 $
1 Stück(MOQ)
Anpassung 99.9% Reines speziell geformtes Aluminium-Titan-Sputterziel

Anpassung 99.9% Reines speziell geformtes Aluminium-Titan-Sputterziel

115,00-130,00 $
1 Stück(MOQ)
Hochreiner Cerium-Rundtarget für effiziente Solarzellen

Hochreiner Cerium-Rundtarget für effiziente Solarzellen

55,00-85,00 $
1 Stück(MOQ)
Premium seltenerd Cerium-Ziel für fortschrittliche Halbleiterfertigung

Premium seltenerd Cerium-Ziel für fortschrittliche Halbleiterfertigung

55,00-85,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Ningbo Galaxy International Trading Co., Ltd.

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Hochwertiges sauerstofffreies Kupferblech Ziel

Hochwertiges sauerstofffreies Kupferblech Ziel

38,00 $
5 Stücke(MOQ)
Nahtloses Hochwertiges Titan-Aluminium-Rohrziel für die petrochemische Technik

Nahtloses Hochwertiges Titan-Aluminium-Rohrziel für die petrochemische Technik

50,00 $
3 Stücke(MOQ)
Neue metallische Glanz Nickel Stärke runder Zielscheibe

Neue metallische Glanz Nickel Stärke runder Zielscheibe

12,00 $
5 Stücke(MOQ)
Polierte höhere Kaltpress-Eigenschaft Reinheit Zirkoniumplatte Ziel

Polierte höhere Kaltpress-Eigenschaft Reinheit Zirkoniumplatte Ziel

42,00 $
5 Stücke(MOQ)
1/4

Xiamen Tmax Battery Equipments Limited

5.0
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TMAXCN Marke auf Lager 99.99 % Hochreines Kupfer Cu Sputterziel

TMAXCN Marke auf Lager 99.99 % Hochreines Kupfer Cu Sputterziel

78,00-90,00 $
1 Stück(MOQ)
TMAXCN Marke VTC-16-3HD-LD 3 Rotationsziel-Plasma-Sputterbeschichtungsmaschine einschließlich 3 Zielen

TMAXCN Marke VTC-16-3HD-LD 3 Rotationsziel-Plasma-Sputterbeschichtungsmaschine einschließlich 3 Zielen

8.000,00 $
1 Stück(MOQ)
TMAXCN 5V 0.5A 128CH Heißpressen-Bildungsmaschine

TMAXCN 5V 0.5A 128CH Heißpressen-Bildungsmaschine

5.000,00-10.000,00 $
1 Stück(MOQ)
TMAXCN Marke- OTF-1200X-HP-70-V Superlegierung Rohr 1100C Dual-Zonen Hochdruck Vertikalofen

TMAXCN Marke- OTF-1200X-HP-70-V Superlegierung Rohr 1100C Dual-Zonen Hochdruck Vertikalofen

4.000,00-8.000,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd.

9 J.
·Hersteller/Werk
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Al, ITO, Cr Beschichtungssubstrat für thermische Verdampfung und Magnetron-Sputtermaschine

Al, ITO, Cr Beschichtungssubstrat für thermische Verdampfung und Magnetron-Sputtermaschine

30,00-200,00 $
1 Stück(MOQ)
Pulver Edelstahl Triple Target Plasma Beschichter mit 150W DC Hochspannungs-Stromversorgung für chirurgische Instrumente

Pulver Edelstahl Triple Target Plasma Beschichter mit 150W DC Hochspannungs-Stromversorgung für chirurgische Instrumente

12.000,00-13.000,00 $
1 Stück(MOQ)
Desktop-Dual-Ziel-Plasmasputterbeschichter für SEM-Proben und Chrom

Desktop-Dual-Ziel-Plasmasputterbeschichter für SEM-Proben und Chrom

7.900,00-8.500,00 $
1 Stück(MOQ)
Lab-Dual-Target-DC-Atmosphärenplasma-Oberflächenbehandlungsbeschichtungsmaschine für Gold, Silber und Kupfer

Lab-Dual-Target-DC-Atmosphärenplasma-Oberflächenbehandlungsbeschichtungsmaschine für Gold, Silber und Kupfer

6.000,00-6.300,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Zhengzhou CY Scientific Instrument Co., Ltd.

13 J.
·Hersteller/Werk & Handelsunternehmen
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Kupferziel, Vakuumbeschichtungsziel

Kupferziel, Vakuumbeschichtungsziel

692,00 $
10 Stücke(MOQ)
Mini-Plasma-Sputterbeschichter mit Vakuumpumpe Goldziel, 1.5" Max Probe

Mini-Plasma-Sputterbeschichter mit Vakuumpumpe Goldziel, 1.5" Max Probe

5.600,00 $
1 Stück(MOQ)
Heiztemperatur 400c Verdampfungsbeschichtungssystem für organometallische Komplexe (CY-300A)

Heiztemperatur 400c Verdampfungsbeschichtungssystem für organometallische Komplexe (CY-300A)

39.500,00-64.900,00 $
1 Stück(MOQ)
1800c Vier Quellen Hochvakuum Verdampfung Beschichtungsanlagen zur Abscheidung von Metallfilmen

1800c Vier Quellen Hochvakuum Verdampfung Beschichtungsanlagen zur Abscheidung von Metallfilmen

31.000,00-34.000,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Shenzhen Silver Technologies Ltd

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Premium 99.99% Reines Gold Sputterziel für fortschrittliche Anwendungen

Premium 99.99% Reines Gold Sputterziel für fortschrittliche Anwendungen

200,00 $
10 g(MOQ)
Silberziel Bitte kontaktieren Sie uns für detaillierte Preise

Silberziel Bitte kontaktieren Sie uns für detaillierte Preise

10.000,00 $
1 Stück(MOQ)
Gold-Sputterziel 99.99% Hochwertiges Au-Ziel Reines Goldziel

Gold-Sputterziel 99.99% Hochwertiges Au-Ziel Reines Goldziel

200,00 $
100 g(MOQ)
Hochreines Metallmaterial Goldpartikelziel Korrosionsbeständigkeit für Halbleiter

Hochreines Metallmaterial Goldpartikelziel Korrosionsbeständigkeit für Halbleiter

200,00 $
100 g(MOQ)
1/4

Geomaster Group

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Geomaster Premier Prisma-Baugruppe (Prisma, Halter & Ziel) für Vermessungsinstrumente, automatische Niveaus, Theodoliten, Totalstationen, Robotikstationen

Geomaster Premier Prisma-Baugruppe (Prisma, Halter & Ziel) für Vermessungsinstrumente, automatische Niveaus, Theodoliten, Totalstationen, Robotikstationen

25,00 $
50 Stücke(MOQ)
Geomaster Premier Prisma-Baugruppe (Prisma, Halter & Ziel) für Vermessungsinstrumente, automatische Niveaus, Theodoliten, Totalstationen, Robotikstationen

Geomaster Premier Prisma-Baugruppe (Prisma, Halter & Ziel) für Vermessungsinstrumente, automatische Niveaus, Theodoliten, Totalstationen, Robotikstationen

25,00 $
50 Stücke(MOQ)
Geomaster 64mm Kupferbeschichteter Eckenwürfelprisma für Vermessungsprismen, die für Vermessungsinstrumente (Theodoliten, Totalstationen, Multistationen, Laserverfolgern) verwendet werden

Geomaster 64mm Kupferbeschichteter Eckenwürfelprisma für Vermessungsprismen, die für Vermessungsinstrumente (Theodoliten, Totalstationen, Multistationen, Laserverfolgern) verwendet werden

24,15-25,55 $
500 Stücke(MOQ)
Geomaster Kupferbeschichtete Wasserfeste 90 Grad L-Bar Überwachungsmini-Prisma (25.4mm) mit fluoreszierendem gelbem Band für Vermessungsinstrumente Scanstations

Geomaster Kupferbeschichtete Wasserfeste 90 Grad L-Bar Überwachungsmini-Prisma (25.4mm) mit fluoreszierendem gelbem Band für Vermessungsinstrumente Scanstations

12,95-13,65 $
500 Stücke(MOQ)
1/4

Commander Group Ltd.

12 J.·5.0
·Handelsunternehmen
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Prismenziel mit langem L-Balken

Prismenziel mit langem L-Balken

15,00-19,00 $
1 Stück(MOQ)
GMP104 Überwachung des Mini-Prismenziels mit L-Bar

GMP104 Überwachung des Mini-Prismenziels mit L-Bar

13,00-16,00 $
1 Stück(MOQ)
25.4 mm Doppel-L-Bar Mini Kupferbeschichteter Prisma

25.4 mm Doppel-L-Bar Mini Kupferbeschichteter Prisma

15,00-18,00 $
1 Stück(MOQ)
25.4 mm kupferbeschichteter Prisma in Dose

25.4 mm kupferbeschichteter Prisma in Dose

12,00-14,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Shandong Quansheng Material Technology Group Co., LTD

3 J.
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Premium Wolfram-Sputterziele für Vakuumbeschichtungsprozesse

Premium Wolfram-Sputterziele für Vakuumbeschichtungsprozesse

56,00-61,00 $
5 Kg(MOQ)
Polierte Wolframplatte mit Spiegeloberfläche für Röntgenbeschichtung

Polierte Wolframplatte mit Spiegeloberfläche für Röntgenbeschichtung

55,00-60,00 $
1 Kg(MOQ)
Nbti Niobium Titan Stab Titan Niobium Preis Nbti Legierungsstab

Nbti Niobium Titan Stab Titan Niobium Preis Nbti Legierungsstab

101,00-186,00 $
1 Kg(MOQ)
Heißer Verkauf Nbti 47 Supraleiter 10mm 20mm 30mm Niobium Tlloy Stangenpreis pro kg

Heißer Verkauf Nbti 47 Supraleiter 10mm 20mm 30mm Niobium Tlloy Stangenpreis pro kg

300,00-450,00 $
1 Kg(MOQ)
1/4

Zhuzhou Hongtong Tungsten Carbide Co., Ltd.

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Stationärer Anodenziel für Röntgenröhre

Stationärer Anodenziel für Röntgenröhre

65,00-70,00 $
10 Stücke(MOQ)
CT-Rotationsanode-Ziel für Röntgenröhrenverbrauchsmaterialien aus Molybdän-Tungsten-Ziel

CT-Rotationsanode-Ziel für Röntgenröhrenverbrauchsmaterialien aus Molybdän-Tungsten-Ziel

65,00-70,00 $
10 Stücke(MOQ)
Liefern Sie stationäre Anoden-Zielhalbfabrikate und Fertigprodukte für Röntgenröhrenkomponenten

Liefern Sie stationäre Anoden-Zielhalbfabrikate und Fertigprodukte für Röntgenröhrenkomponenten

65,00-70,00 $
10 Stücke(MOQ)
1/4

CHANGSHA EASCHEM CO., LIMITED

5 J.
·Handelsunternehmen
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Fabrikpreis Verkauf Ho-Cu Holmium Kupferlegierung Ziel

Fabrikpreis Verkauf Ho-Cu Holmium Kupferlegierung Ziel

Verhandelbar
1 Piece(MOQ)
Hochreines CIGS Cu in Ga Se Kupfer-Indium-Gallium-Selenid-Pulver 99.99% -100mesh

Hochreines CIGS Cu in Ga Se Kupfer-Indium-Gallium-Selenid-Pulver 99.99% -100mesh

Verhandelbar
1 Piece(MOQ)
1/4

Enjo Sports Inc.

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Tacband Ar500 Metall-Schießziele für den Innen- und Außenbereich

Tacband Ar500 Metall-Schießziele für den Innen- und Außenbereich

7,85-8,90 $
100 Stücke(MOQ)
Borekare 10PCS Essentielles Kammerbürsten-Reinigungsset für Waffen

Borekare 10PCS Essentielles Kammerbürsten-Reinigungsset für Waffen

6,29-7,10 $
100 Stücke(MOQ)
Borekare Muzzle Loading Essentielles Set Baumwolle Messing Waffenreinigungsbürste

Borekare Muzzle Loading Essentielles Set Baumwolle Messing Waffenreinigungsbürste

6,55-7,35 $
100 Stücke(MOQ)
Borekare Essentia Reinigungssets Waffe Reinigungsbürste Werkzeug mit geschlitzten Spitzen

Borekare Essentia Reinigungssets Waffe Reinigungsbürste Werkzeug mit geschlitzten Spitzen

5,10-5,69 $
100 Stücke(MOQ)
1/4

Shenzhen Hongchen New Materials Co., Ltd

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Hochreines 99,9995 % Kupfer Cu Sputterziel für Halbleiter Metallbeschichteter Leiter

Hochreines 99,9995 % Kupfer Cu Sputterziel für Halbleiter Metallbeschichteter Leiter

10,00-15,00 $
1 Kg(MOQ)
Factory Cu Sputtering Target Kupfer Rotary für metallbeschichtete Leiterhalbleiter

Factory Cu Sputtering Target Kupfer Rotary für metallbeschichtete Leiterhalbleiter

10,00-15,00 $
1 Kg(MOQ)
China Cu High Purity Kupferlegierung Sputtering Ziel für PVD Beschichtung

China Cu High Purity Kupferlegierung Sputtering Ziel für PVD Beschichtung

10,00-15,00 $
1 Kg(MOQ)
Großhandel von hochreinen PVD-Fabrik für flache Kupfer-Zielmaterialien

Großhandel von hochreinen PVD-Fabrik für flache Kupfer-Zielmaterialien

10,00-15,00 $
1 Kg(MOQ)

Jinan Hengcheng Aluminum Co., Ltd.

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Aluminium Titan Alti Beschichtungsstarget, Titan Aluminium Tial Beschichtungsstarget

Aluminium Titan Alti Beschichtungsstarget, Titan Aluminium Tial Beschichtungsstarget

3.380,00 $
1 Ton(MOQ)
Aluminium Titan Alloy/50 Sputterziel für PVD-Beschichtungsmaschine

Aluminium Titan Alloy/50 Sputterziel für PVD-Beschichtungsmaschine

3.380,00 $
1 Ton(MOQ)
Aluminiumdraht für rotierende Ziele, Aluminiumdraht für Vakuumbeschichtung

Aluminiumdraht für rotierende Ziele, Aluminiumdraht für Vakuumbeschichtung

2.960,00 $
1 Ton(MOQ)
Aluminiumdraht für gegossene rotierende Ziele und thermisch gesprühte rotierende Ziele

Aluminiumdraht für gegossene rotierende Ziele und thermisch gesprühte rotierende Ziele

2.960,00 $
1 Ton(MOQ)
1/4

Uv Tech Material Ltd

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Werkseitig Hochreines Kupfer-Zinklegierung Ziel Cuzn Ziel Sputtering Ziel

Werkseitig Hochreines Kupfer-Zinklegierung Ziel Cuzn Ziel Sputtering Ziel

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
Drehbares Kupfer-Target Cu Sputtering Target für Kupfer Farbe dünn Film

Drehbares Kupfer-Target Cu Sputtering Target für Kupfer Farbe dünn Film

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
Drehbare Si Target Zylindrische Silizium-Kathode Hohe Qualität Monilithisch Gerade Und Dogbone-Form

Drehbare Si Target Zylindrische Silizium-Kathode Hohe Qualität Monilithisch Gerade Und Dogbone-Form

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
Rotary Indium Target in Sputtering Target

Rotary Indium Target in Sputtering Target

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)

Jupin Group Co., Ltd.

5.0
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OEM-Logo Taekwondo Wrestling PU EVA Trainingsbein-Waist-Ziel

OEM-Logo Taekwondo Wrestling PU EVA Trainingsbein-Waist-Ziel

21,52 $
200 Stücke(MOQ)
OEM-Logo Taekwondo Wrestling PU EPE Trainingshandziel

OEM-Logo Taekwondo Wrestling PU EPE Trainingshandziel

0,85 $
200 Stücke(MOQ)
OEM-Logo Taekwondo PU EVA Trainingsziel

OEM-Logo Taekwondo PU EVA Trainingsziel

0,99 $
200 Stücke(MOQ)
1/4

Zhuzhou Weilai New Materials Technology Co., Ltd

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Stationäres Anodenziel für Röntgenröhre

Stationäres Anodenziel für Röntgenröhre

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
Bereitstellung von stationären Anodenzielen für Halbfertigprodukte und Fertigprodukte für X Teile Der Röntgenröhre

Bereitstellung von stationären Anodenzielen für Halbfertigprodukte und Fertigprodukte für X Teile Der Röntgenröhre

32,00-50,00 $
1 Stück(MOQ)

Jiangyin Maideli Advanced Materials Co., Ltd.

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Ybco Yba2cu3o7 Yttrium Barium Kupferoxid Sputterziel

Ybco Yba2cu3o7 Yttrium Barium Kupferoxid Sputterziel

250,00-500,00 $
1 Stück(MOQ)

Lead Optima Element Tech Co., Ltd

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ITO Target mit metallischer Kupferplatte

ITO Target mit metallischer Kupferplatte

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)

Shanghai Zenkaah New Materials Technology Co., Ltd.

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Reines Metallkupfer (Cu) Ziel mit 99,9999 % Reinheit, Magnetron Sputterschicht Kupferziel in Partikelform, Ziel Cuinse2

Reines Metallkupfer (Cu) Ziel mit 99,9999 % Reinheit, Magnetron Sputterschicht Kupferziel in Partikelform, Ziel Cuinse2

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)

Suzhou Zhongzhina Semiconductor Technology Co., Ltd.

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Reines Metallkupfer (Cu) Ziel mit 99,9999% Reinheit, Magnetron Sputtering Beschichtung Kupferziel in Partikelform

Reines Metallkupfer (Cu) Ziel mit 99,9999% Reinheit, Magnetron Sputtering Beschichtung Kupferziel in Partikelform

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)

Shanghai Tankii Alloy Material Co., Ltd.

5.0
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Niedriger Preis maßgeschneiderter Hersteller hochreines reines Chrommetall Cr Sputterziel für PVD-Beschichtung

Niedriger Preis maßgeschneiderter Hersteller hochreines reines Chrommetall Cr Sputterziel für PVD-Beschichtung

60,00-150,00 $
1 Stück(MOQ)
Fabrikpreis Verkauf 99.999% Chrom Sputterziel Cr

Fabrikpreis Verkauf 99.999% Chrom Sputterziel Cr

60,00-150,00 $
1 Stück(MOQ)
Fabrikpreis 99.999% Chrom-Sputterziel Cr

Fabrikpreis 99.999% Chrom-Sputterziel Cr

60,00-150,00 $
1 Stück(MOQ)
Hochreine 99.99% TANKII Metall-Chrom-Sputterziele

Hochreine 99.99% TANKII Metall-Chrom-Sputterziele

60,00-150,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4
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