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etwa cr-Sputterziel
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cr-Sputterziel50+ Fabriken verifiziert

Beenine Shanke Technology Co., Ltd.

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Chromium Cr Multi-PCS Konstruktion Sputterziel 99.99% Reines China PVD Beschichtung

Chromium Cr Multi-PCS Konstruktion Sputterziel 99.99% Reines China PVD Beschichtung

50,00-300,00 $
1 Stück(MOQ)
PVD-Beschichtung Sputterziel Planar Rundchromfabrik

PVD-Beschichtung Sputterziel Planar Rundchromfabrik

50,00-300,00 $
1 Stück(MOQ)
Hochreines Ni/Cr Nickel-Chrom-Legierungsplanarer röhrenförmiger Sputterziel

Hochreines Ni/Cr Nickel-Chrom-Legierungsplanarer röhrenförmiger Sputterziel

80,00-800,00 $
1 Stück(MOQ)
PVD-Beschichtung Sputterziel Planar Rund Nickel-Chrom Ni/Cr Legierung Fabrik

PVD-Beschichtung Sputterziel Planar Rund Nickel-Chrom Ni/Cr Legierung Fabrik

80,00-800,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd.

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Chromium Cr Ziel für effiziente Magnetron-Sputterprozesse

Chromium Cr Ziel für effiziente Magnetron-Sputterprozesse

150,00-200,00 $
1 Kg(MOQ)
Fabriklieferung Cr Chromziele Metall Chrom Magnetron-Sputterziele

Fabriklieferung Cr Chromziele Metall Chrom Magnetron-Sputterziele

45,00-100,00 $
1 Stück(MOQ)
99.95% Reinheit Cr Chrom Sputterziel Metall Chrom Ziel für PVD Filmbeschichtung

99.95% Reinheit Cr Chrom Sputterziel Metall Chrom Ziel für PVD Filmbeschichtung

35,00-120,00 $
1 Stück(MOQ)
Xinkang 3n5 99.95% Reinmetallmaterial Magnetron Cr Chrom Rotationssputterziele

Xinkang 3n5 99.95% Reinmetallmaterial Magnetron Cr Chrom Rotationssputterziele

55,00-120,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Shanghai Tankii Alloy Material Co., Ltd.

5.0
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Fabrikpreis Verkauf 99.999% Chrom Sputterziel Cr

Fabrikpreis Verkauf 99.999% Chrom Sputterziel Cr

60,00-150,00 $
1 Stück(MOQ)
Niedriger Preis maßgeschneiderter Hersteller hochreines reines Chrommetall Cr Sputterziel für PVD-Beschichtung

Niedriger Preis maßgeschneiderter Hersteller hochreines reines Chrommetall Cr Sputterziel für PVD-Beschichtung

60,00-150,00 $
1 Stück(MOQ)
Fabrikpreis 99.999% Chrom-Sputterziel Cr

Fabrikpreis 99.999% Chrom-Sputterziel Cr

60,00-150,00 $
1 Stück(MOQ)
Fabrikverkauf Chrom-Sputterziel zur Herstellung von dünnen filmresistiven Dehnungsmessstreifen

Fabrikverkauf Chrom-Sputterziel zur Herstellung von dünnen filmresistiven Dehnungsmessstreifen

60,00-150,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Xiamen Tmax Battery Equipments Limited

5.0
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TMAXCN Marke Hochreines 3n5 Chrom-Chromium/Cr Beschichtungssputterziel für PVD-Beschichtung

TMAXCN Marke Hochreines 3n5 Chrom-Chromium/Cr Beschichtungssputterziel für PVD-Beschichtung

78,00-90,00 $
1 Stück(MOQ)
TMAXCN Marke Hochreines 99.95% Chrom Chrom/Cr PVD Magnetron-Sputterziel für Vakuumbeschichtung

TMAXCN Marke Hochreines 99.95% Chrom Chrom/Cr PVD Magnetron-Sputterziel für Vakuumbeschichtung

78,00-90,00 $
1 Stück(MOQ)
TMAXCN Marke VTC-16-3HD-LD 3 Rotationsziel-Plasma-Sputterbeschichtungsmaschine einschließlich 3 Zielen

TMAXCN Marke VTC-16-3HD-LD 3 Rotationsziel-Plasma-Sputterbeschichtungsmaschine einschließlich 3 Zielen

8.000,00 $
1 Stück(MOQ)
SEM Niedertemperatur-Mini-Magnetron-Sputtersystem

SEM Niedertemperatur-Mini-Magnetron-Sputtersystem

5.000,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Lonwin Industry Group Limited

5.0
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99.9% Ti-Cr Legierungen Ziel Titan-Chrom Sputterziel für Beschichtung

99.9% Ti-Cr Legierungen Ziel Titan-Chrom Sputterziel für Beschichtung

17,00-55,00 $
1 Kg(MOQ)
99.95% Reines Cr Chrom Sputterziel Metallchrom Lichtbogenkathodenziele

99.95% Reines Cr Chrom Sputterziel Metallchrom Lichtbogenkathodenziele

17,00-55,00 $
1 Kg(MOQ)
Ninbti Legierungsziel Nickel Niobium Titan Sputterziel

Ninbti Legierungsziel Nickel Niobium Titan Sputterziel

17,00-55,00 $
1 Kg(MOQ)
99.95% Reines Mo Molybdän-Sputterziel für Beschichtung

99.95% Reines Mo Molybdän-Sputterziel für Beschichtung

17,00-55,00 $
1 Kg(MOQ)
1/4

Rheniumet Ltd.

17 J.
·Handelsunternehmen
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Chromium Ziel 99.95%Min Cr Ziel für Sputterbeschichtung Halbleiter

Chromium Ziel 99.95%Min Cr Ziel für Sputterbeschichtung Halbleiter

1.000,00-4.000,00 $
1 Stück(MOQ)
Hochreines Nickel-Chrom-Legierung-Sputterziel, Ni60cr40 Sputterziel maßgeschneidert

Hochreines Nickel-Chrom-Legierung-Sputterziel, Ni60cr40 Sputterziel maßgeschneidert

500,00-1.000,00 $
1 pieces(MOQ)
3mm Dicke Ruthenium-Zielscheibe, Ru-Sputterziel

3mm Dicke Ruthenium-Zielscheibe, Ru-Sputterziel

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
Hochreines 99.99% Re Rhenium-Sputterziel, Re-Metall-Rundziel

Hochreines 99.99% Re Rhenium-Sputterziel, Re-Metall-Rundziel

1.000,00-4.000,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Shaanxi Mingsheng Guangpu Metal Materials Co., Ltd.

3 J.·5.0
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Rechteckige Chrom-Sputterziele mit Lochbearbeitung für präzise Metallbeschichtung

Rechteckige Chrom-Sputterziele mit Lochbearbeitung für präzise Metallbeschichtung

99,00-180,00 $
1 Stück(MOQ)
Vielseitiges CIP-Aluminium-Zirkonium-Ziel mit Chromzusammensetzung

Vielseitiges CIP-Aluminium-Zirkonium-Ziel mit Chromzusammensetzung

85,00-95,00 $
1 Stück(MOQ)
Fabrikdirekt Hochrein Zirkoniumziel für optische Anwendungen

Fabrikdirekt Hochrein Zirkoniumziel für optische Anwendungen

90,00-99,00 $
10 Kg(MOQ)
Chrom-Sputterziel für Präzisionselektronik und Formen

Chrom-Sputterziel für Präzisionselektronik und Formen

90,00-110,00 $
2 Stücke(MOQ)
1/4

Xiangtan Hondson Coating Technology Co., Ltd.

6 J.
·Hersteller/Werk & Handelsunternehmen
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Maßgeschneiderter Hochreiner Titanblock Vakuum-Titanmaterial Multi-Bogen-Ionenbeschichtungsmaterial Metallziel

Maßgeschneiderter Hochreiner Titanblock Vakuum-Titanmaterial Multi-Bogen-Ionenbeschichtungsmaterial Metallziel

500,00-1.000,00 $
1 Stück(MOQ)
Zylindrischer Magnetron-Sputtertarget für PVD-Vakuumbeschichtung Titanrohr Metallrohre Rohmaterialien Beschichtung Kathoden

Zylindrischer Magnetron-Sputtertarget für PVD-Vakuumbeschichtung Titanrohr Metallrohre Rohmaterialien Beschichtung Kathoden

800,00-1.500,00 $
1 Stück(MOQ)
Wissenschaftliche Instrumente PVD Magnetron-Sputtergeräte

Wissenschaftliche Instrumente PVD Magnetron-Sputtergeräte

80.000,00-81.000,00 $
1 Stück(MOQ)
Titan-Nitrid PVD Vakuum Magnetron-Sputterbeschichtungsmaschine

Titan-Nitrid PVD Vakuum Magnetron-Sputterbeschichtungsmaschine

57.000,00-112.000,00 $
1 Satz(MOQ)
1/4

SUZHOU TECHNO-TEC PHOTOELECTRIC MATERIALS CO., LTD

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Cr Ziel-Chrom-Sputterziel für Dekorationsfilm-Beschichtung

Cr Ziel-Chrom-Sputterziel für Dekorationsfilm-Beschichtung

25,00-100,00 $
1 Kg(MOQ)
Cr Rod Beschichtungsstarget für Dekorationsfilm-Beschichtung

Cr Rod Beschichtungsstarget für Dekorationsfilm-Beschichtung

25,00-100,00 $
1 Kg(MOQ)
W Target Wolfram-Sputterziel für Halbleiter-/Speicherchips

W Target Wolfram-Sputterziel für Halbleiter-/Speicherchips

45,00-350,00 $
1 Kg(MOQ)
1/4

Xiamen HiuGong Machinery Co., Ltd.

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Magnetron-Sputterziel Zrox Si Cr Nb Cu Cr AG

Magnetron-Sputterziel Zrox Si Cr Nb Cu Cr AG

500,00 $
1 Stück(MOQ)
99.99% Galliumoxid-Sputterziel Flachziel Ga2o3 Ziel

99.99% Galliumoxid-Sputterziel Flachziel Ga2o3 Ziel

300,00 $
1 Stück(MOQ)
Plasmasprühbeschichtungsausrüstung antihaftend verschleißfest Silizium Aluminium Alumina Zirkonia

Plasmasprühbeschichtungsausrüstung antihaftend verschleißfest Silizium Aluminium Alumina Zirkonia

35.000,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd.

9 J.
·Hersteller/Werk
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Al, ITO, Cr Beschichtungssubstrat für thermische Verdampfung und Magnetron-Sputtermaschine

Al, ITO, Cr Beschichtungssubstrat für thermische Verdampfung und Magnetron-Sputtermaschine

30,00-200,00 $
1 Stück(MOQ)
Lab Dual Target PVD-Plasma-Sputterbeschichter mit rotierender Probenbühne und Temperaturregelung für Titan Cr AG

Lab Dual Target PVD-Plasma-Sputterbeschichter mit rotierender Probenbühne und Temperaturregelung für Titan Cr AG

10.000,00-12.000,00 $
1 Stück(MOQ)
Lab-Dual-Ziel-Vakuum-Plasma-Sputterbeschichter für die Beschichtung von Cr, Ti und Au Nanofilmen

Lab-Dual-Ziel-Vakuum-Plasma-Sputterbeschichter für die Beschichtung von Cr, Ti und Au Nanofilmen

6.500,00-7.900,00 $
1 set(MOQ)
1/4

Jiangsu Cicel Vacuum Technology Co., Ltd.

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PVD-Chrom-Sputterziel Chromziel/Cr-Sputterziel

PVD-Chrom-Sputterziel Chromziel/Cr-Sputterziel

130,00-300,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Ningbo Galaxy International Trading Co., Ltd.

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Gute Zähigkeit Heißer Verkauf Chrom-Sputterziel

Gute Zähigkeit Heißer Verkauf Chrom-Sputterziel

30,00-50,00 $
5 Stücke(MOQ)
99.9% Nickel-Chrom-Aluminium-Vakuumbeschichtung-Sputterziel für PVD-Prozess Chrom-Tantal-Ziel

99.9% Nickel-Chrom-Aluminium-Vakuumbeschichtung-Sputterziel für PVD-Prozess Chrom-Tantal-Ziel

55,00 $
1 Stück(MOQ)
Hitzebeständigkeit und ausgezeichnete chemische Stabilität Titanrohrziel (3N7)

Hitzebeständigkeit und ausgezeichnete chemische Stabilität Titanrohrziel (3N7)

100,00-120,00 $
5 Stücke(MOQ)
Farbige Duktilität Wärmebeständigkeit Zirkonium Rundziel

Farbige Duktilität Wärmebeständigkeit Zirkonium Rundziel

15,00 $
5 Stücke(MOQ)
1/4

ATM Material Co., Ltd.

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Sprühziel

Sprühziel

0,10-100,00 $
1.000 Stücke(MOQ)
Ziel mit hoher Qualität

Ziel mit hoher Qualität

0,10-100,00 $
1.000 Stücke(MOQ)
Wti-Ziel / Sputterziele / Hochwertiges Wti

Wti-Ziel / Sputterziele / Hochwertiges Wti

1,00-100,00 $
1 Stück(MOQ)
W Ziel

W Ziel

100,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Sino Resources Import & Export (Liao Ning) Co., Ltd.

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Hip Chrome Sputtering Target für PVD-Beschichtung 99,5 Cr Target

Hip Chrome Sputtering Target für PVD-Beschichtung 99,5 Cr Target

60,00-90,00 $
1 Stück(MOQ)
Chrom Sputtering Target Hip 99,5 Cr Target für PVD

Chrom Sputtering Target Hip 99,5 Cr Target für PVD

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
High Purity Chrome Sputtering Target 99,5 Runde Cr Ziel für PVD

High Purity Chrome Sputtering Target 99,5 Runde Cr Ziel für PVD

80,00-100,00 $
1 Stück(MOQ)
Hip-Chrom-Sputterziel für dekorative PVD-Beschichtung

Hip-Chrom-Sputterziel für dekorative PVD-Beschichtung

70,00-100,00 $
1 Stück(MOQ)

Junsion Precision Hardware Co., Ltd.

7 J.
·Hersteller/Werk & Handelsunternehmen
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Spritzziel Titan Al Cu Chrom Ni Magnetron-Röhrenrotations-PVD-Beschichtung

Spritzziel Titan Al Cu Chrom Ni Magnetron-Röhrenrotations-PVD-Beschichtung

0,50-10,00 $
10 Stücke(MOQ)
1/4

Suzhou Zhongzhina Semiconductor Technology Co., Ltd.

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Hochreines Metall Cr (Chrom) Target für PVD Magnetron Sputtering Vakuumbeschichtung, anpassbare Partikelgröße, mit Trägerplatte Bonding Service

Hochreines Metall Cr (Chrom) Target für PVD Magnetron Sputtering Vakuumbeschichtung, anpassbare Partikelgröße, mit Trägerplatte Bonding Service

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)

Shanghai Zenkaah New Materials Technology Co., Ltd.

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Hochreines Metall Cr (Chrom) Target für PVD Magnetron Sputtering Vakuumbeschichtung, anpassbare Partikelgröße, mit Trägerplatte Bonding Service

Hochreines Metall Cr (Chrom) Target für PVD Magnetron Sputtering Vakuumbeschichtung, anpassbare Partikelgröße, mit Trägerplatte Bonding Service

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)

Inner Mongolia Rongtai Rhenium New Materials Co., Ltd.

5.0
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Premium Yttrium-Barium-Kupfer-Oxid-Sputterzielscheibe für Elektronik

Premium Yttrium-Barium-Kupfer-Oxid-Sputterzielscheibe für Elektronik

190,00-199,00 $
1 Stück(MOQ)
Maßgeschneiderte Ytterbium (Yb) Sputterziele für fortschrittliche Anwendungen

Maßgeschneiderte Ytterbium (Yb) Sputterziele für fortschrittliche Anwendungen

190,00-199,00 $
1 Stück(MOQ)
Anpassbarer Titanlegierungs-Sputtertarget für optische Beschichtungen

Anpassbarer Titanlegierungs-Sputtertarget für optische Beschichtungen

190,00-199,00 $
1 Stück(MOQ)
Fortgeschrittenes Ytterbium-Metallziel für präzise Elektronik-Anwendungen

Fortgeschrittenes Ytterbium-Metallziel für präzise Elektronik-Anwendungen

190,00-199,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

CHANGSHA EASCHEM CO., LIMITED

5 J.
·Handelsunternehmen
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Samarium Metall Zielstab Granulat CAS Nr 7440-19-9 Sm 3n 4n

Samarium Metall Zielstab Granulat CAS Nr 7440-19-9 Sm 3n 4n

Verhandelbar
1 Piece(MOQ)
Niobium-Metall-Sputterziel mit CAS-Nr. 7440-03-1 und Nb

Niobium-Metall-Sputterziel mit CAS-Nr. 7440-03-1 und Nb

Verhandelbar
1 Piece(MOQ)
Fabrikpreis Kauf Niobium Metall Sputterziel mit CAS-Nr. 7440-03-1

Fabrikpreis Kauf Niobium Metall Sputterziel mit CAS-Nr. 7440-03-1

Verhandelbar
1 Piece(MOQ)
Hochreines Niobiumcarbidpulver mit CAS-Nr. 12069-94-2 und Chnb

Hochreines Niobiumcarbidpulver mit CAS-Nr. 12069-94-2 und Chnb

Verhandelbar
1 Piece(MOQ)
1/4

Zhongzheng Yejin Technology Co., Ltd.

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Sprühbeschichtung Chrom Zielhersteller bieten hochwertige Cr Sprühbeschichtung Ziel

Sprühbeschichtung Chrom Zielhersteller bieten hochwertige Cr Sprühbeschichtung Ziel

5,00-20,00 $
1 Stück(MOQ)
Reines Chrom 3n5 des Chrom-Ziel-99.95%

Reines Chrom 3n5 des Chrom-Ziel-99.95%

40,00-50,00 $
1 Kg(MOQ)
99.95% hoher Reinheitsgrad-Chrom-Ziel, Chrom-Legierungs-Ziel-Material

99.95% hoher Reinheitsgrad-Chrom-Ziel, Chrom-Legierungs-Ziel-Material

90,00-100,00 $
1 Kg(MOQ)
99.55-99.95% Bestes verkaufendes reines Chrom-Metalziel-Cr-Ziel

99.55-99.95% Bestes verkaufendes reines Chrom-Metalziel-Cr-Ziel

40,00-50,00 $
1 Kg(MOQ)
1/2

Yochane Vacuum Technology Limited

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Drehc$spritzenschichts-Ziel des gefäß-Chromium/Cr

Drehc$spritzenschichts-Ziel des gefäß-Chromium/Cr

20,00 $
1 Stück(MOQ)
Gleichstrom, der Zirconium/Cr Blatt-/Platten-Schichts-Ziel spritzt

Gleichstrom, der Zirconium/Cr Blatt-/Platten-Schichts-Ziel spritzt

15,00 $
1 Stück(MOQ)
DC Sputtering цель листа/плиты Chromium/Cr

DC Sputtering цель листа/плиты Chromium/Cr

20,00 $
1 Stück(MOQ)
Blatt-/Platten-Ziel SpritzensChromium/Cr

Blatt-/Platten-Ziel SpritzensChromium/Cr

20,00 $
1 Stück(MOQ)

Zhengzhou CY Scientific Instrument Co., Ltd.

13 J.
·Hersteller/Werk & Handelsunternehmen
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Desktop-Doppelziel-Magnetron-Sputterbeschichter mit Edelstahlgehäuse

Desktop-Doppelziel-Magnetron-Sputterbeschichter mit Edelstahlgehäuse

8.730,00-8.900,00 $
1 Stück(MOQ)
Vakuum-Plasma-Sputterbeschichter mit drei rotierenden Zielen für Wafer

Vakuum-Plasma-Sputterbeschichter mit drei rotierenden Zielen für Wafer

5.800,00 $
1 Stück(MOQ)
Kompakte Pulverbeschichtungsanlage mit DC-Magnetron-Sputtern und Vibrationsbühne

Kompakte Pulverbeschichtungsanlage mit DC-Magnetron-Sputtern und Vibrationsbühne

5.600,00 $
1 Stück(MOQ)
Magnetron-Plasma-Sputterbeschichtungsmaschine Kleine PVD-Beschichtungsmaschine Gold

Magnetron-Plasma-Sputterbeschichtungsmaschine Kleine PVD-Beschichtungsmaschine Gold

5.800,00-8.800,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Xiamen U-Spring Technology Co., Ltd

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U-Spring Cr Planar Ziel / Sputterziel für Magnetron-Sputtern und Vakuumbeschichtung

U-Spring Cr Planar Ziel / Sputterziel für Magnetron-Sputtern und Vakuumbeschichtung

2.000,00 $
1 Pcs(MOQ)
U-Spring Chrom /Cr Rotationsziel / Sputterziel für Magnetron-Sputtern & Vakuumbeschichtung

U-Spring Chrom /Cr Rotationsziel / Sputterziel für Magnetron-Sputtern & Vakuumbeschichtung

2.000,00 $
1 Pcs(MOQ)
U-Spring Chrom / Cr Kathodenbogenziel / Sputterziel für Magnetronsputtern & Vakuumbeschichtung

U-Spring Chrom / Cr Kathodenbogenziel / Sputterziel für Magnetronsputtern & Vakuumbeschichtung

2.000,00 $
1 Pcs(MOQ)
1/2

Sid Metal Co., Ltd

13 J.
·Hersteller/Werk & Handelsunternehmen
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99.99% Chromsputterziel Chrombeschichtung Chromziel

99.99% Chromsputterziel Chrombeschichtung Chromziel

100,00-600,00 $
2 Stücke(MOQ)
Hochreines Zr702 Zr705 Zirkonium-Ziel Wärmeleitfähigkeit Sputterziel

Hochreines Zr702 Zr705 Zirkonium-Ziel Wärmeleitfähigkeit Sputterziel

0,05-100,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Luoyang Bless Tungsten & Molybdenum Materials Co., Ltd.

12 J.
·Handelsunternehmen
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Molybdän-Sputterziele für komplexe Baugruppen

Molybdän-Sputterziele für komplexe Baugruppen

40,00-43,00 $
1 Kg(MOQ)
1/1

Uv Tech Material Ltd

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Chrom Cr PVD Zielplanar-Bonding auf Cooper-Trägerplatte Oder Tube

Chrom Cr PVD Zielplanar-Bonding auf Cooper-Trägerplatte Oder Tube

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd

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99.95% 99.9% Cr/Chromium Spritzenziel

99.95% 99.9% Cr/Chromium Spritzenziel

30,00 $
1 Stück(MOQ)

Beijing Loyaltarget Technology Co, Limited

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Chrom-Ziel-Cr-Spritzenziel

Chrom-Ziel-Cr-Spritzenziel

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)

Ningbo Sen Ao Electronic Technology Co., Ltd

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99,5% Cr Chrom Plasma Spritzmaterial Chrom Target Cr Rotierend Zielvorgaben Touch Panel Zielgruppenziel Material1 Käufer

99,5% Cr Chrom Plasma Spritzmaterial Chrom Target Cr Rotierend Zielvorgaben Touch Panel Zielgruppenziel Material1 Käufer

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
12
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