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Igzo-Sputterziel8 Fabriken verifiziert

Lonwin Industry Group Limited

5.0
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99.99% Igzo Keramisches Ziel Indium Gallium Zinkoxid Sputterziel

99.99% Igzo Keramisches Ziel Indium Gallium Zinkoxid Sputterziel

17,00-55,00 $
1 Kg(MOQ)
Cuo-In2o3 Keramische Ziele Kupferoxid - Indiumoxid Sputterziel

Cuo-In2o3 Keramische Ziele Kupferoxid - Indiumoxid Sputterziel

17,00-55,00 $
1 Kg(MOQ)
99.9% Nisi2 Keramische Ziele Nickel-Silizium-Sputterziele

99.9% Nisi2 Keramische Ziele Nickel-Silizium-Sputterziele

17,00-55,00 $
1 Kg(MOQ)
Niti-Legierungsziel Nickel-Titan-Sputterziel für PVD-Beschichtung

Niti-Legierungsziel Nickel-Titan-Sputterziel für PVD-Beschichtung

17,00-55,00 $
1 Kg(MOQ)
1/4

Shanghai Zenkaah New Materials Technology Co., Ltd.

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Hochreines IGZO (Indium Gallium Zinkoxid) Zielmaterial für PVD-Magnetron-Sputtering Vakuumbeschichtung, Forschung und Experimentalmaterial

Hochreines IGZO (Indium Gallium Zinkoxid) Zielmaterial für PVD-Magnetron-Sputtering Vakuumbeschichtung, Forschung und Experimentalmaterial

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd.

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99.99% Titan-Wolfram-Sputterziel für Dünnfilm-Beschichtung

99.99% Titan-Wolfram-Sputterziel für Dünnfilm-Beschichtung

100,00-1.000,00 $
1 pieces(MOQ)
99.5%Min Hochdichte Kupfer-Zink-Zinn-Schwefel Czts Cuznsns Sputterziel

99.5%Min Hochdichte Kupfer-Zink-Zinn-Schwefel Czts Cuznsns Sputterziel

110,00-120,00 $
1 Stück(MOQ)
Hochreines 99.99% Lanthan-Strontium-Manganoxid Lasrmno3 Sputterziel

Hochreines 99.99% Lanthan-Strontium-Manganoxid Lasrmno3 Sputterziel

110,00-120,00 $
1 Stück(MOQ)
Maßgeschneiderte Größe hochreines Silizium-Polycrystal-Silizium-Planarziel für Halbleiter

Maßgeschneiderte Größe hochreines Silizium-Polycrystal-Silizium-Planarziel für Halbleiter

30,00-3.000,00 $
1 pieces(MOQ)
1/4

CHANGSHA EASCHEM CO., LIMITED

5 J.
·Handelsunternehmen
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Fabrikpreis Verkauf Hochwertiges ITO Rotationssputterziel 4n In2o3 und Sno2

Fabrikpreis Verkauf Hochwertiges ITO Rotationssputterziel 4n In2o3 und Sno2

Verhandelbar
1 Piece(MOQ)
Fabrikpreis Verkauf Hochreinheit ITO Ziel für Rpd 4n

Fabrikpreis Verkauf Hochreinheit ITO Ziel für Rpd 4n

Verhandelbar
1 Piece(MOQ)
Fabrikpreis Verkauf Niedrige Dichte 4n ITO Kleine Runde Zielscheibe

Fabrikpreis Verkauf Niedrige Dichte 4n ITO Kleine Runde Zielscheibe

Verhandelbar
1 Piece(MOQ)
Fabrikpreis Verkauf Hochwertiges Igzo Metallziel 4n In2o3 Ga2o3 ZnO Indium Zink Gallium

Fabrikpreis Verkauf Hochwertiges Igzo Metallziel 4n In2o3 Ga2o3 ZnO Indium Zink Gallium

Verhandelbar
1 Piece(MOQ)
1/4

China Leadmat Advanced Materials Co., Ltd.

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Spritzenziel

Spritzenziel

18,00-20,00 $
1 Stück(MOQ)

Enam Optoelectronic Material Co., Ltd

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Igzo Ziel, TFT Kanal Igzo Schicht, Indium-Gallium-Zink Oxid-Ziel

Igzo Ziel, TFT Kanal Igzo Schicht, Indium-Gallium-Zink Oxid-Ziel

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)

Guangdong Huicheng Vacuum Technology Co., Ltd.

20 J.
·Hersteller/Werk & Handelsunternehmen
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Hcvac Solarzellenpanel kontinuierliche Inline-PVD-Vakuumbeschichtungsproduktionslinie Maschine

Hcvac Solarzellenpanel kontinuierliche Inline-PVD-Vakuumbeschichtungsproduktionslinie Maschine

500.000,00-5.000.000,00 $
1 Satz(MOQ)
Dekoratives Glas, reflektierendes Glas, Spiegel, Vakuumbeschichtungssystem, Inline-Sputtersystem

Dekoratives Glas, reflektierendes Glas, Spiegel, Vakuumbeschichtungssystem, Inline-Sputtersystem

150.000,00-500.000,00 $
1 Satz(MOQ)
Hcvac PVD Inline-Sputter-Aluminiumspiegel-Glasbeschichtungsproduktionslinie

Hcvac PVD Inline-Sputter-Aluminiumspiegel-Glasbeschichtungsproduktionslinie

1.500.000,00-5.000.000,00 $
1 Satz(MOQ)
Hocheffiziente Kathodenherstellungstechnologie für die Inline-Glas-PVD-Beschichtung

Hocheffiziente Kathodenherstellungstechnologie für die Inline-Glas-PVD-Beschichtung

1.500.000,00-5.000.000,00 $
1 Satz(MOQ)
1/4

FUJIAN ACETRON NEW MATERIALS CO., LTD.

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ACETRON 4N Hochreines ITO-Sputterrohrziel für PVD-Beschichtung

ACETRON 4N Hochreines ITO-Sputterrohrziel für PVD-Beschichtung

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
ACETRON 4N 99.99% Hochreines IGZO-Sputterziel für Vakuum/PVD-Beschichtung

ACETRON 4N 99.99% Hochreines IGZO-Sputterziel für Vakuum/PVD-Beschichtung

99,00-99.999,00 $
1 Stück(MOQ)
ACETRON 4N 99.99% Hochreines Indium-Gallium-Zink-Oxid-Sputterziel für Vakuum/PVD-Beschichtung

ACETRON 4N 99.99% Hochreines Indium-Gallium-Zink-Oxid-Sputterziel für Vakuum/PVD-Beschichtung

99,00-99.999,00 $
1 Stück(MOQ)
ACETRON 4N 99.99% Hochreines IGZO Rundziel für Vakuum/PVD-Beschichtung

ACETRON 4N 99.99% Hochreines IGZO Rundziel für Vakuum/PVD-Beschichtung

99,00-99.999,00 $
1 Stück(MOQ)
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