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etwa ito-Ziele
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ito-Ziele70+ Fabriken verifiziert

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd.

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Indium-Zinn-Oxid ITO Sputter-Sputterziele zum besten Preis

Indium-Zinn-Oxid ITO Sputter-Sputterziele zum besten Preis

50,00-999,00 $
1 Stück(MOQ)
Xinkang Hochrein 99.99% ITO Indium-Zinn-Oxid Keramiksputterziel für Beschichtung

Xinkang Hochrein 99.99% ITO Indium-Zinn-Oxid Keramiksputterziel für Beschichtung

110,00-120,00 $
1 Stück(MOQ)
Maßgeschneiderte Keramische Sputterziele ITO90/10wt% Ziel Indiumzinnoxid Sputterziel

Maßgeschneiderte Keramische Sputterziele ITO90/10wt% Ziel Indiumzinnoxid Sputterziel

70,00-105,00 $
1 Stück(MOQ)
99.95% Reines Tantal-Sputterziel für Dünnfilm-Beschichtung

99.95% Reines Tantal-Sputterziel für Dünnfilm-Beschichtung

80,00-2.000,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd.

9 J.
·Hersteller/Werk
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Al, ITO, Cr Beschichtungssubstrat für thermische Verdampfung und Magnetron-Sputtermaschine

Al, ITO, Cr Beschichtungssubstrat für thermische Verdampfung und Magnetron-Sputtermaschine

30,00-200,00 $
1 Stück(MOQ)
Einzelboden-Magnetron-Ziel-Magnetron-Sputterbeschichter für ITO-Beschichtungen

Einzelboden-Magnetron-Ziel-Magnetron-Sputterbeschichter für ITO-Beschichtungen

19.000,00-21.000,00 $
1 set(MOQ)
Hochvakuum-Einzel-RF-Magnetron-Sputterbeschichtungsmaschine zur Abscheidung von ITO-Film

Hochvakuum-Einzel-RF-Magnetron-Sputterbeschichtungsmaschine zur Abscheidung von ITO-Film

18.000,00-23.000,00 $
1 set(MOQ)
Labortisch-Vakuum-Magnetron-Sputterbeschichtungsmaschine für ITO-Filme

Labortisch-Vakuum-Magnetron-Sputterbeschichtungsmaschine für ITO-Filme

17.850,00-18.600,00 $
1 set(MOQ)
1/4

Lonwin Industry Group Limited

5.0
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Hochreines 99.99% ITO Indium-Zinn-Oxid Sputterziel für PVD-Beschichtung

Hochreines 99.99% ITO Indium-Zinn-Oxid Sputterziel für PVD-Beschichtung

17,00-55,00 $
1 Kg(MOQ)
99.99% Sio Keramische Zielsiliziummonoxid-Sputterziele für Dünnschichtabscheidung

99.99% Sio Keramische Zielsiliziummonoxid-Sputterziele für Dünnschichtabscheidung

17,00-55,00 $
1 Kg(MOQ)
99.99% ZnO Keramisches Ziel Zinkoxid Sputterziel für optische Beschichtung

99.99% ZnO Keramisches Ziel Zinkoxid Sputterziel für optische Beschichtung

17,00-55,00 $
1 Kg(MOQ)
Hochreines 99.99% Ru Ruthenium Metall Sputterziel für PVD-Beschichtung

Hochreines 99.99% Ru Ruthenium Metall Sputterziel für PVD-Beschichtung

17,00-55,00 $
1 Kg(MOQ)
1/4

CHANGSHA EASCHEM CO., LIMITED

5 J.
·Handelsunternehmen
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Fabrikpreis Verkauf Hochwertiges ITO Rotationssputterziel 4n In2o3 und Sno2

Fabrikpreis Verkauf Hochwertiges ITO Rotationssputterziel 4n In2o3 und Sno2

Verhandelbar
1 Piece(MOQ)
Fabrikpreis Verkauf Hochreinheit ITO Ziel für Rpd 4n

Fabrikpreis Verkauf Hochreinheit ITO Ziel für Rpd 4n

Verhandelbar
1 Piece(MOQ)
Fabrikpreis Verkauf Niedrige Dichte 4n ITO Kleine Runde Zielscheibe

Fabrikpreis Verkauf Niedrige Dichte 4n ITO Kleine Runde Zielscheibe

Verhandelbar
1 Piece(MOQ)
Hochreines ITO-Metallziel 4n Indiumoxid und Zinnoxid In2o3 und Sno2

Hochreines ITO-Metallziel 4n Indiumoxid und Zinnoxid In2o3 und Sno2

Verhandelbar
1 Piece(MOQ)
1/4

Rheniumet Ltd.

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ITO-Ziel für LCD, PDP, OLED, Verbundziel aus Zinn, Indium und Sauerstoff

ITO-Ziel für LCD, PDP, OLED, Verbundziel aus Zinn, Indium und Sauerstoff

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
99.95% Reiner speziell geformter Ruthenium-Sputtertarget, Ru-Target für Speicher-Sputterbeschichtung

99.95% Reiner speziell geformter Ruthenium-Sputtertarget, Ru-Target für Speicher-Sputterbeschichtung

8.000,00-60.000,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

SUZHOU TECHNO-TEC PHOTOELECTRIC MATERIALS CO., LTD

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ITO-Ziel Hoch Density>99.8% Niedrige Dichte: 60% Indium-Zinn-Oxid-Sputterziel für LCD/LED-Touchpanel

ITO-Ziel Hoch Density>99.8% Niedrige Dichte: 60% Indium-Zinn-Oxid-Sputterziel für LCD/LED-Touchpanel

340,00 $
1 Kg(MOQ)
1/4

Dongguan Gravel Industries and Enterprise Company Limited

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Indium-Zinn-Oxid ITO Ziel Vakuum-Sputtern PVD Ziel

Indium-Zinn-Oxid ITO Ziel Vakuum-Sputtern PVD Ziel

4.600,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Shenzhen Hongchen New Materials Co., Ltd

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Guangdong Fabrik Kupferplatte Indium Zinn Oxid ITO Sputterziele

Guangdong Fabrik Kupferplatte Indium Zinn Oxid ITO Sputterziele

10,00-15,00 $
1 Kg(MOQ)
Hochreine ITO-Platte PVD Vakuumbeschichtung Spleißklebende Magnetron Sputtern Von Zielen

Hochreine ITO-Platte PVD Vakuumbeschichtung Spleißklebende Magnetron Sputtern Von Zielen

10,00-15,00 $
1 Kg(MOQ)
Guangdong Fabrik Großhandel Reine 99,95% Kupfer Platte Sputtering Ziel Herstellung

Guangdong Fabrik Großhandel Reine 99,95% Kupfer Platte Sputtering Ziel Herstellung

10,00-15,00 $
1 Kg(MOQ)
Großhandel Sputtering Target Materials Fabriken für die Halbleiterindustrie

Großhandel Sputtering Target Materials Fabriken für die Halbleiterindustrie

10,00-15,00 $
1 Kg(MOQ)

Uv Tech Material Ltd

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Spray Target nBox Nb2O5 Sputter Target drehbar hohe Reinheit 99,95% Hüfte CIP Target Export Vicky-Chan@Uvtm. COM Sial ZnAl Znsn NiCr AZO ITO

Spray Target nBox Nb2O5 Sputter Target drehbar hohe Reinheit 99,95% Hüfte CIP Target Export Vicky-Chan@Uvtm. COM Sial ZnAl Znsn NiCr AZO ITO

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
ITO 97: 3 93: 7 90: 10 95: 5WT% 99,99% hochreine Dreh- und Retangular Sputtering Zielplatte für Glas-Vakuumbeschichtung

ITO 97: 3 93: 7 90: 10 95: 5WT% 99,99% hochreine Dreh- und Retangular Sputtering Zielplatte für Glas-Vakuumbeschichtung

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
PVD Target Aluminium Al zylindrisch drehbarer Sputter Target 99,999% Reinheit 2N-5N verfügbar

PVD Target Aluminium Al zylindrisch drehbarer Sputter Target 99,999% Reinheit 2N-5N verfügbar

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
Chrom Cr PVD Zielplanar-Bonding auf Cooper-Trägerplatte Oder Tube

Chrom Cr PVD Zielplanar-Bonding auf Cooper-Trägerplatte Oder Tube

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)

Weihai Chenyu Vacuum Technology Co., Ltd

4 J.
·Hersteller/Werk & Handelsunternehmen
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Hochleistungs-Transparente Leitfähige Folienbeschichter mit ITO-Ziel Ar-Beschichtungsmaschine

Hochleistungs-Transparente Leitfähige Folienbeschichter mit ITO-Ziel Ar-Beschichtungsmaschine

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
Großmaßstäbliches Batch-Produktionsbeschichtungsgerät mit mehreren Kathodenzielen Ar-Beschichtungsmaschine

Großmaßstäbliches Batch-Produktionsbeschichtungsgerät mit mehreren Kathodenzielen Ar-Beschichtungsmaschine

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
Effiziente Produktionsmaßstab-Beschichtungsanlage mit in situ Überwachung Ar Beschichtungsmaschine

Effiziente Produktionsmaßstab-Beschichtungsanlage mit in situ Überwachung Ar Beschichtungsmaschine

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
Innovatives Magnetron-Sputter-Abscheidesystem mit PLC-Touchscreen-Ar-Beschichtungsmaschine

Innovatives Magnetron-Sputter-Abscheidesystem mit PLC-Touchscreen-Ar-Beschichtungsmaschine

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
1/4

Zhengzhou CY Scientific Instrument Co., Ltd.

13 J.
·Hersteller/Werk & Handelsunternehmen
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DC-Magnetron-Sputterbeschichter mit Edelstahlgehäuse für ITO-Film

DC-Magnetron-Sputterbeschichter mit Edelstahlgehäuse für ITO-Film

8.730,00-8.900,00 $
1 Stück(MOQ)
Pulver-Magnetron-Sputterbeschichtungsmaschine für ideale Beschichtungsausrüstung

Pulver-Magnetron-Sputterbeschichtungsmaschine für ideale Beschichtungsausrüstung

28.500,00-40.100,00 $
1 Stück(MOQ)
Multifunktionale Vakuumbeschichtungs-Magnetron-Sputterbeschichtungsmaschine Automatische Beschichtungsproduktionslinie

Multifunktionale Vakuumbeschichtungs-Magnetron-Sputterbeschichtungsmaschine Automatische Beschichtungsproduktionslinie

28.500,00-40.100,00 $
1 Stück(MOQ)
Fabrikverkauf Einzelziel Unterbau Magnetron-Sputterbeschichter für ITO-Beschichtungen

Fabrikverkauf Einzelziel Unterbau Magnetron-Sputterbeschichter für ITO-Beschichtungen

8.900,00-13.500,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Huita Opto-Electronic Materials Co., Ltd

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ITO-Ziel

ITO-Ziel

Verhandelbar
5 Stücke(MOQ)
ITO (Tabletten) Sputtering Target

ITO (Tabletten) Sputtering Target

Verhandelbar
5 Stücke(MOQ)

Lead Optima Element Tech Co., Ltd

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ITO Target mit metallischer Kupferplatte

ITO Target mit metallischer Kupferplatte

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)

Deyang Aijialun Vacuum Technology Co., Ltd.

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ITO Sputtering Target

ITO Sputtering Target

20,00-1.000,00 $
1 Satz(MOQ)

Shanghai Zenkaah New Materials Technology Co., Ltd.

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ITO (Indium Zinn-Oxid) Zielmaterial, Indium Zinn-Oxid Halbleiter Transparente leitfähige Folie, Magnetron Sputtering Target, kundenspezifische Spezifikationen

ITO (Indium Zinn-Oxid) Zielmaterial, Indium Zinn-Oxid Halbleiter Transparente leitfähige Folie, Magnetron Sputtering Target, kundenspezifische Spezifikationen

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)

Taizhou ATS Optical Material Co., Ltd.

26 J.
·Hersteller/Werk & Handelsunternehmen
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Siliziumziel Si Polysiliziumstück

Siliziumziel Si Polysiliziumstück

26,00-28,00 $
1 piece(MOQ)
Siliziumziel Si-Wafer monokristallines Siliziumstück

Siliziumziel Si-Wafer monokristallines Siliziumstück

4,00-5,00 $
1 piece(MOQ)
5n 99.999% Reines Si Silizium Monokristallstück

5n 99.999% Reines Si Silizium Monokristallstück

4,00-5,00 $
1 piece(MOQ)
99.9999% Reine Si Siliziumgranulate Polysilizium

99.9999% Reine Si Siliziumgranulate Polysilizium

26,00-28,00 $
1 piece(MOQ)
1/4

UV Tech Material Co., Ltd.

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Rotationsplanar ITO Target, Magnetron Sputtering Target, In2o3: SnO2 Target, 90: 10 ITO, 95: 5 ITO, 97:3 ITO

Rotationsplanar ITO Target, Magnetron Sputtering Target, In2o3: SnO2 Target, 90: 10 ITO, 95: 5 ITO, 97:3 ITO

Verhandelbar
10 Kg(MOQ)
Heterojunction ITO Target, High Purity ITO Sputtering Target for Heterojunction, 97: 3 HJT ITO Target

Heterojunction ITO Target, High Purity ITO Sputtering Target for Heterojunction, 97: 3 HJT ITO Target

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
99,99% ITO-Ziel 97: 3 95: 5 90: 10 Indium-Zinn-Oxidsputtering-Ziel für leitfähige Folie

99,99% ITO-Ziel 97: 3 95: 5 90: 10 Indium-Zinn-Oxidsputtering-Ziel für leitfähige Folie

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
Kleben ITO Zielplatte Indium Zinn Oxid Sputtering Target 99,99% 4n Keramik Target.

Kleben ITO Zielplatte Indium Zinn Oxid Sputtering Target 99,99% 4n Keramik Target.

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)

EHW APPLIED MATERIALS CO., LTD.

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Hochwertige ITO-Ziel für Sputtermaschine und Vakuumbeschichtung (90/10)

Hochwertige ITO-Ziel für Sputtermaschine und Vakuumbeschichtung (90/10)

10,00-5.000,00 $
1 Stück(MOQ)
ITO Target zur Beschichtung von leitfähiger transparenter Folie

ITO Target zur Beschichtung von leitfähiger transparenter Folie

10,00-1.000,00 $
1 Stück(MOQ)
Hohe Reinheit und Qualität ITO Disc Target für Sputtermaschine Und Vakuumbeschichtung

Hohe Reinheit und Qualität ITO Disc Target für Sputtermaschine Und Vakuumbeschichtung

10,00-5.000,00 $
30 Stücke(MOQ)
Hohe Reinheit und Qualität ITO Ziel für Sputtermaschine und Vakuumbeschichtung (95/5)

Hohe Reinheit und Qualität ITO Ziel für Sputtermaschine und Vakuumbeschichtung (95/5)

10,00-1.000,00 $
1 Stück(MOQ)

FUJIAN ACETRON NEW MATERIALS CO., LTD.

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ACETRON 4N 99.99% Hochreines ITO-Plattensubstrat für PVD-Beschichtung

ACETRON 4N 99.99% Hochreines ITO-Plattensubstrat für PVD-Beschichtung

99,00-99.999,00 $
1 Stück(MOQ)
ACETRON 4N 99.99% ITO-Sputterziel für leitfähige Filmbeschichtung

ACETRON 4N 99.99% ITO-Sputterziel für leitfähige Filmbeschichtung

99,00-9.999,00 $
1 Stück(MOQ)
ACETRON 4N Hochreines ITO-Tablet für leitende Beschichtung von Displaybildschirmen

ACETRON 4N Hochreines ITO-Tablet für leitende Beschichtung von Displaybildschirmen

700,00-900,00 $
1 Kg(MOQ)
ACETRON 4N 99.99% Musteranpassung Indium-Zinn-Oxid-Sputterziel

ACETRON 4N 99.99% Musteranpassung Indium-Zinn-Oxid-Sputterziel

99,00-99.999,00 $
1 Stück(MOQ)

Enam Optoelectronic Material Co., Ltd

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ITO Ziel, ITO Drehziel, Ziel TP-Tn Stn TFT-LCD ITO

ITO Ziel, ITO Drehziel, Ziel TP-Tn Stn TFT-LCD ITO

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
ITO Ziel, LED/OLED/Ziel TP-ITO, Typenstein des LED-Halbleiter-ITO

ITO Ziel, LED/OLED/Ziel TP-ITO, Typenstein des LED-Halbleiter-ITO

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
ITO planares Spritzenziel, ITO Glasschicht, Tp/Tn/Stn/TFT-LCD ITO Ziel

ITO planares Spritzenziel, ITO Glasschicht, Tp/Tn/Stn/TFT-LCD ITO Ziel

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
ITO Puder, Indium-Zinn-Oxid, ITO blaues gelbes Puder

ITO Puder, Indium-Zinn-Oxid, ITO blaues gelbes Puder

Verhandelbar
1 Kg(MOQ)

China Leadmat Advanced Materials Co., Ltd.

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Spritzenziel

Spritzenziel

18,00-20,00 $
1 Stück(MOQ)
Spritzenziele

Spritzenziele

60,00 $
1 Stück(MOQ)

Tengzhou Fast Silver Trading Co., Limited.

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Transparentes leitendes Indium-Zinn-Oxid des Oxid-Dünnfilm-ITO spritzen Ziel

Transparentes leitendes Indium-Zinn-Oxid des Oxid-Dünnfilm-ITO spritzen Ziel

450,00 $
1 Stück(MOQ)

Fuzhou Nuoxin Advanced Material Co. Ltd.

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Sputterziel ITO Indium-Zinn-Oxid 4n 99,99% für optische Beschichtung

Sputterziel ITO Indium-Zinn-Oxid 4n 99,99% für optische Beschichtung

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)

Jiangxi He Quan Chem Co., Ltd

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99.99% ITO Indium-Zinn-Oxid-Spritzenziel mit kupferner Platte

99.99% ITO Indium-Zinn-Oxid-Spritzenziel mit kupferner Platte

99,00-169,00 $
1 Piece(MOQ)

Jubo Guneng(Suzhou) Thin Film Materials Co., Ltd.

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5N Reinheit größeres Beschichtungsziel Sputter Target

5N Reinheit größeres Beschichtungsziel Sputter Target

1.000,00-10.000,00 $
1 Stück(MOQ)

Ningbo Sen Ao Electronic Technology Co., Ltd

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ITO anpassbare Größe 99,99% Indium Zinn-Oxid rotierende ITO Keramik Sputterziel

ITO anpassbare Größe 99,99% Indium Zinn-Oxid rotierende ITO Keramik Sputterziel

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)

Beijing Loyaltarget Technology Co, Limited

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ITO Ziel In2o3: Sno2=90: 10wt%/ITO planares Spritzenziel

ITO Ziel In2o3: Sno2=90: 10wt%/ITO planares Spritzenziel

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)

Hefei Chitherm Equipment Co., Ltd.

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Der Bf150-17 Hochtemperatur-Glockenofen ist geeignet für den Entfettungs-Sinterungs-Integrationsprozess des ITO-Zielmaterials

Der Bf150-17 Hochtemperatur-Glockenofen ist geeignet für den Entfettungs-Sinterungs-Integrationsprozess des ITO-Zielmaterials

500,00-60.000,00 $
1 Stück(MOQ)
Bf150-17 Typ Hochtemperatur-Glockenofen Industrie-Muffelofen für ITO-Zielmaterial

Bf150-17 Typ Hochtemperatur-Glockenofen Industrie-Muffelofen für ITO-Zielmaterial

500,00-60.000,00 $
1 Stück(MOQ)
Hauptanwendungsbereich: ITO-Zielmaterial, Bf150-17 Typ Hochtemperatur-Tiegelofen

Hauptanwendungsbereich: ITO-Zielmaterial, Bf150-17 Typ Hochtemperatur-Tiegelofen

500,00-60.000,00 $
1 Stück(MOQ)
Hbf52-17o Typ Hochtemperatur-Boxofen, weit verbreitet in der Temperaturregelung von ITO-Zielmaterial mit einer Stabilität von ± 1 º C

Hbf52-17o Typ Hochtemperatur-Boxofen, weit verbreitet in der Temperaturregelung von ITO-Zielmaterial mit einer Stabilität von ± 1 º C

21.900,00-21.933,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Guangdong Huicheng Vacuum Technology Co., Ltd.

20 J.
·Hersteller/Werk & Handelsunternehmen
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Inline-Sputterbeschichtungsmaschinen-System für ITO Azo ZnO leitfähige Filme

Inline-Sputterbeschichtungsmaschinen-System für ITO Azo ZnO leitfähige Filme

150.000,00 $
1 Satz(MOQ)
Hcvac Roll-to-Roll-Beschichtungsmaschine für Ar ITO leitfähige Folie auf Solarzelle

Hcvac Roll-to-Roll-Beschichtungsmaschine für Ar ITO leitfähige Folie auf Solarzelle

150.000,00-500.000,00 $
1 Satz(MOQ)
Cockpit-Windschutzscheiben Passagierfenster ITO-Film PVD-Vakuumbeschichtungsmaschine für Glas

Cockpit-Windschutzscheiben Passagierfenster ITO-Film PVD-Vakuumbeschichtungsmaschine für Glas

1.000.000,00 $
1 Satz(MOQ)
Hcvac Inline-Sputterbeschichtungsmaschine für ITO, leitfähige Filmstrahlungs-(AR)-Beschichtung

Hcvac Inline-Sputterbeschichtungsmaschine für ITO, leitfähige Filmstrahlungs-(AR)-Beschichtung

1.500.000,00-5.000.000,00 $
1 Satz(MOQ)
1/4

Jiangsu Cicel Vacuum Technology Co., Ltd.

4.5
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Magnetron-Sputter-Beschichtungsmaschine für Glas ITO-Film-Herstellungsanlage

Magnetron-Sputter-Beschichtungsmaschine für Glas ITO-Film-Herstellungsanlage

45.000,00-150.000,00 $
1 Satz(MOQ)
ITO leitfähige Glasherstellungsmaschine, PVD Magnetron-Sputtertechnologie

ITO leitfähige Glasherstellungsmaschine, PVD Magnetron-Sputtertechnologie

45.000,00-150.000,00 $
1 Satz(MOQ)
Cczk-Ion kontinuierliche ITO leitfähige Glas-Sputtermaschinen

Cczk-Ion kontinuierliche ITO leitfähige Glas-Sputtermaschinen

45.000,00-150.000,00 $
1 Satz(MOQ)
Kontinuierliche ITO-Glas-Sputterproduktionslinien ITO-leitfähige Glasmaschinen ITO-Folienmaschine

Kontinuierliche ITO-Glas-Sputterproduktionslinien ITO-leitfähige Glasmaschinen ITO-Folienmaschine

45.000,00-150.000,00 $
1 Satz(MOQ)
1/4
13
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