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etwa Ziel Mit Metallsputtering
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Ziel Mit Metallsputtering100+ Fabriken verifiziert

SUZHOU TECHNO-TEC PHOTOELECTRIC MATERIALS CO., LTD

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Cu-Sputterziel Kupfer Rotationsziel für metallbeschichtete Leiter/ Halbleiter

Cu-Sputterziel Kupfer Rotationsziel für metallbeschichtete Leiter/ Halbleiter

10,00-15,00 $
1 Kg(MOQ)
Metall-Sputtern Legierungs-Sputtern Keramik-Sputtern Ziel

Metall-Sputtern Legierungs-Sputtern Keramik-Sputtern Ziel

35,00 $
1 Kg(MOQ)
Boron-Sputterziel für Halbleiter

Boron-Sputterziel für Halbleiter

40,00-50,00 $
1 Kg(MOQ)
Das Target Tellurium Sputtertarget für Solarphotovoltaik

Das Target Tellurium Sputtertarget für Solarphotovoltaik

100,00-200,00 $
1 Kg(MOQ)
1/4

Rheniumet Ltd.

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Hochreines 99.99% Re Rhenium-Sputterziel, Re-Metall-Rundziel

Hochreines 99.99% Re Rhenium-Sputterziel, Re-Metall-Rundziel

1.000,00-4.000,00 $
1 Stück(MOQ)
3inch 99.95% Molybdänziel, Durchmesser 76.2mm Mo-Metall-Sputterziel für die Dünnschichtindustrie

3inch 99.95% Molybdänziel, Durchmesser 76.2mm Mo-Metall-Sputterziel für die Dünnschichtindustrie

200,00-1.000,00 $
1 pieces(MOQ)
99.999% 5n Wolfram Tungsten Metall Sputterziel

99.999% 5n Wolfram Tungsten Metall Sputterziel

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
Hochreines Tantalmetall-Sputterziel für Dünnfilm-Beschichtung

Hochreines Tantalmetall-Sputterziel für Dünnfilm-Beschichtung

300,00-1.000,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Beenine Shanke Technology Co., Ltd.

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Plattensputterziel Stannum Zinn Sn Metall für PVD-Maschine

Plattensputterziel Stannum Zinn Sn Metall für PVD-Maschine

60,00-100,00 $
1 Stück(MOQ)
Metall-Sputterziel Zinn Stannum Sn günstiger Preis

Metall-Sputterziel Zinn Stannum Sn günstiger Preis

60,00-100,00 $
1 Stück(MOQ)
Plattensputterziel Plumbum Pb Blei Metall für PVD-Maschine

Plattensputterziel Plumbum Pb Blei Metall für PVD-Maschine

80,00-150,00 $
1 Stück(MOQ)
Planarer Sputterziel Zinn Sn Stannum Metall angepasst

Planarer Sputterziel Zinn Sn Stannum Metall angepasst

60,00-100,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Inner Mongolia Rongtai Rhenium New Materials Co., Ltd.

5.0
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Ytterbium Metall Yb Beschichtung Ziel Ytterbium Ingot

Ytterbium Metall Yb Beschichtung Ziel Ytterbium Ingot

190,00-199,00 $
1 Stück(MOQ)
Premium Yttrium-Sputterziel für hochwertige Metallbeschichtungen

Premium Yttrium-Sputterziel für hochwertige Metallbeschichtungen

115,00-130,00 $
1 Stück(MOQ)
Anpassbare Größe speziell geformtes Metall-Sputterziel für Präzisionsanwendungen

Anpassbare Größe speziell geformtes Metall-Sputterziel für Präzisionsanwendungen

115,00-130,00 $
1 Stück(MOQ)
99.9% Seltenes Erden Yttrium Sputterziel Metall Y Yttrium Scheibe für Halbleiter

99.9% Seltenes Erden Yttrium Sputterziel Metall Y Yttrium Scheibe für Halbleiter

115,00-130,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd.

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Xinkang Tantalum Sputterziel 99.95% Metalltantal Runde Scheibe für PVD-Beschichtung

Xinkang Tantalum Sputterziel 99.95% Metalltantal Runde Scheibe für PVD-Beschichtung

35,00-40,00 $
1 Stück(MOQ)
Xk Metall Zinn Ziele Sn Sputterziele mit Kupfer Rückplatte

Xk Metall Zinn Ziele Sn Sputterziele mit Kupfer Rückplatte

45,00-125,00 $
1 Stück(MOQ)
99.9% Indium-Sputterziel Metall-Indium-Scheibe für Laborforschung

99.9% Indium-Sputterziel Metall-Indium-Scheibe für Laborforschung

110,00-120,00 $
1 Stück(MOQ)
Xinkang PVD-Beschichtungsmaterialien Metall Titan runder planar Magnetron-Sputterziel

Xinkang PVD-Beschichtungsmaterialien Metall Titan runder planar Magnetron-Sputterziel

35,00-45,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Xiamen Tmax Battery Equipments Limited

5.0
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TMAXCN Marke Hochreines 99.99% Nickel Ni Sputterziel für Metall-Dünnfilm-Beschichtung

TMAXCN Marke Hochreines 99.99% Nickel Ni Sputterziel für Metall-Dünnfilm-Beschichtung

78,00-90,00 $
1 Stück(MOQ)
TMAXCN Marke Hochrein 99.95% Eisen-Nickel Fe-Ni Sputterziel für metallische Dünnfilm-Beschichtung

TMAXCN Marke Hochrein 99.95% Eisen-Nickel Fe-Ni Sputterziel für metallische Dünnfilm-Beschichtung

78,00-90,00 $
1 Stück(MOQ)
TMAXCN Marke Hochreines 99.95% Chrom Chrom/Cr PVD Magnetron-Sputterziel für Vakuumbeschichtung

TMAXCN Marke Hochreines 99.95% Chrom Chrom/Cr PVD Magnetron-Sputterziel für Vakuumbeschichtung

78,00-90,00 $
1 Stück(MOQ)
TMAXCN Marke auf Lager 99.99 % Hochreines Kupfer Cu Sputterziel

TMAXCN Marke auf Lager 99.99 % Hochreines Kupfer Cu Sputterziel

78,00-90,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Lonwin Industry Group Limited

5.0
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99.99% Reines W Wolfram Sputterziel Wolfram Metallmaterial

99.99% Reines W Wolfram Sputterziel Wolfram Metallmaterial

17,00-55,00 $
1 Kg(MOQ)
99.99% Sn Zinn Sputterziele Metall Zinn Magnetronziele für Beschichtung

99.99% Sn Zinn Sputterziele Metall Zinn Magnetronziele für Beschichtung

17,00-55,00 $
1 Kg(MOQ)
Metall Tizr Legierung Sputter Titan Zirkonium Sputterziel für Beschichtung

Metall Tizr Legierung Sputter Titan Zirkonium Sputterziel für Beschichtung

17,00-55,00 $
1 Kg(MOQ)
Zinn Metalllegierung Ziel Titan Niobium Sputterziel für Beschichtung

Zinn Metalllegierung Ziel Titan Niobium Sputterziel für Beschichtung

17,00-55,00 $
1 Kg(MOQ)
1/4

Shanghai Tankii Alloy Material Co., Ltd.

5.0
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Hochreine 99.99% TANKII Metall-Chrom-Sputterziele

Hochreine 99.99% TANKII Metall-Chrom-Sputterziele

60,00-150,00 $
1 Stück(MOQ)
Niedriger Preis maßgeschneiderter Hersteller hochreines reines Chrommetall Cr Sputterziel für PVD-Beschichtung

Niedriger Preis maßgeschneiderter Hersteller hochreines reines Chrommetall Cr Sputterziel für PVD-Beschichtung

60,00-150,00 $
1 Stück(MOQ)
Fabrikpreis 99.999% Chrom-Sputterziel Cr

Fabrikpreis 99.999% Chrom-Sputterziel Cr

60,00-150,00 $
1 Stück(MOQ)
Am häufigsten verwendete Art der PVD-Beschichtung: Plattenart-Chrom-Sputterziel

Am häufigsten verwendete Art der PVD-Beschichtung: Plattenart-Chrom-Sputterziel

60,00-150,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Zhuzhou Weilai New Materials Technology Co., Ltd.

8 J.
·Hersteller/Werk & Handelsunternehmen
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Wir liefern verschiedene Arten von metallischen rotierenden Zielen, Molybdän-Sputterziele, Rhenium-Anoden-Ziele und Wolfram-Sputterziele

Wir liefern verschiedene Arten von metallischen rotierenden Zielen, Molybdän-Sputterziele, Rhenium-Anoden-Ziele und Wolfram-Sputterziele

142,00-168,00 $
30 Stücke(MOQ)
Metallrotationssputterziel, Molybdän-Rhenium-Wolfram-Rotationsanodenziel

Metallrotationssputterziel, Molybdän-Rhenium-Wolfram-Rotationsanodenziel

142,00-168,00 $
30 Stücke(MOQ)
Röntgenröhren-Ersatzteile CT Rotationsanode Ziel Mo Beschichtung Ziel

Röntgenröhren-Ersatzteile CT Rotationsanode Ziel Mo Beschichtung Ziel

142,00-168,00 $
30 Stücke(MOQ)
Sandstrahlen, schwarz beschichtetes Molybdän-Rhenium-Wolfram-Rotationsanodenziel-Sputterziel für Röntgenröhren-Einsatzteile

Sandstrahlen, schwarz beschichtetes Molybdän-Rhenium-Wolfram-Rotationsanodenziel-Sputterziel für Röntgenröhren-Einsatzteile

142,00-168,00 $
30 Stücke(MOQ)
1/4

Shaanxi Mingsheng Guangpu Metal Materials Co., Ltd.

3 J.
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Rechteckige Chrom-Sputterziele mit Lochbearbeitung für präzise Metallbeschichtung

Rechteckige Chrom-Sputterziele mit Lochbearbeitung für präzise Metallbeschichtung

99,00-180,00 $
1 Stück(MOQ)
Verschleißfeste Nickel-Sputtertargets für die Beschichtung von elektronischen Sensorsystemen in der Automobilindustrie

Verschleißfeste Nickel-Sputtertargets für die Beschichtung von elektronischen Sensorsystemen in der Automobilindustrie

120,00-140,00 $
50 kilograms(MOQ)
Ultrahochdichte Nickel-Sputterziele für die Metallisierung von Halbleiterwafern

Ultrahochdichte Nickel-Sputterziele für die Metallisierung von Halbleiterwafern

80,00-100,00 $
50 kilograms(MOQ)
Vielseitiges CIP-Aluminium-Zirkonium-Ziel mit Chromzusammensetzung

Vielseitiges CIP-Aluminium-Zirkonium-Ziel mit Chromzusammensetzung

85,00-95,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Sid Metal Co., Ltd

13 J.
·Hersteller/Werk & Handelsunternehmen
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Fabrikpreis 99.95% Reines Tantal Sputterziel Metall Ta Tantalum Planare Ziele

Fabrikpreis 99.95% Reines Tantal Sputterziel Metall Ta Tantalum Planare Ziele

1,00-100,00 $
1 Stück(MOQ)
Zr702 Zr705 Zirkonium-Rohrziel Wärmeleitfähigkeit Hochrein Sputterziel

Zr702 Zr705 Zirkonium-Rohrziel Wärmeleitfähigkeit Hochrein Sputterziel

1,00-3.000,00 $
1 Stück(MOQ)
Ti Target Titan-Sputterziel / Titan-Rotationsziel für Halbleiter / Vakuumbeschichtungssputtern

Ti Target Titan-Sputterziel / Titan-Rotationsziel für Halbleiter / Vakuumbeschichtungssputtern

1,00-100,00 $
1 Stück(MOQ)
Hochwertige Zirkonium Zr702 Zr705 Sputterfolienzielscheibe für PVD-Beschichtung Zirkoniumscheibe

Hochwertige Zirkonium Zr702 Zr705 Sputterfolienzielscheibe für PVD-Beschichtung Zirkoniumscheibe

1,00-3.000,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Baoji Taizehui Metal Technology Co., Ltd.

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Zirkonium 705 Sputterziel für hochwertige maßgeschneiderte Metalllösungen

Zirkonium 705 Sputterziel für hochwertige maßgeschneiderte Metalllösungen

Verhandelbar
10 Kg(MOQ)
Hochwertige Zirkonium 705 Sputterziele für maßgeschneiderte Lösungen heute

Hochwertige Zirkonium 705 Sputterziele für maßgeschneiderte Lösungen heute

Verhandelbar
10 Kg(MOQ)
Vakuumbeschichtung Sputterzielmaterial gebogenes Ziel hochreines Verfahren Hafniumplatte

Vakuumbeschichtung Sputterzielmaterial gebogenes Ziel hochreines Verfahren Hafniumplatte

Verhandelbar
2 Kg(MOQ)
Großhandel Mehrzweck starke Verschleißfestigkeit Metall Hafnium Sputterzielplatte

Großhandel Mehrzweck starke Verschleißfestigkeit Metall Hafnium Sputterzielplatte

Verhandelbar
10 Kg(MOQ)
1/4

Xiangtan Hondson Coating Technology Co., Ltd.

5 J.
·Hersteller/Werk & Handelsunternehmen
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Zylindrischer Magnetron-Sputtertarget für PVD-Vakuumbeschichtung Titanrohr Metallrohre Rohmaterialien Beschichtung Kathoden

Zylindrischer Magnetron-Sputtertarget für PVD-Vakuumbeschichtung Titanrohr Metallrohre Rohmaterialien Beschichtung Kathoden

800,00-1.500,00 $
1 Stück(MOQ)
Maßgeschneiderter Hochreiner Titanblock Vakuum-Titanmaterial Multi-Bogen-Ionenbeschichtungsmaterial Metallziel

Maßgeschneiderter Hochreiner Titanblock Vakuum-Titanmaterial Multi-Bogen-Ionenbeschichtungsmaterial Metallziel

500,00-1.000,00 $
1 Stück(MOQ)
Rotierender Kathode, zylindrisches Röhrenziel für Beschichtungsmaschine

Rotierender Kathode, zylindrisches Röhrenziel für Beschichtungsmaschine

6.700,00-6.800,00 $
2 sets(MOQ)
5-200kw Typische Sputterquelle für die Dünnfilm-Beschichtungsindustrie Rotationsmagnetron-Sputterkathode Rotationssputterziel

5-200kw Typische Sputterquelle für die Dünnfilm-Beschichtungsindustrie Rotationsmagnetron-Sputterkathode Rotationssputterziel

6.900,00-7.000,00 $
2 sets(MOQ)
1/4

Ningbo Danko Vacuum Technology Co., Ltd.

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Vakuum-Metallisierung Titan-Aluminium-Legierung Ziel

Vakuum-Metallisierung Titan-Aluminium-Legierung Ziel

30,00-100,00 $
1 Stück(MOQ)
PVD-Beschichtungsmaschine für alle Materialien Metall Glas Keramik

PVD-Beschichtungsmaschine für alle Materialien Metall Glas Keramik

Verhandelbar
1 Satz(MOQ)
Magnetron-Sputter-Beschichtungsmaschine

Magnetron-Sputter-Beschichtungsmaschine

55.000,00-150.000,00 $
1 Stück(MOQ)
Uhren PVD Dekoration Mf Magnetron-Sputterbeschichtungsanlage mit hoher Qualität

Uhren PVD Dekoration Mf Magnetron-Sputterbeschichtungsanlage mit hoher Qualität

75.000,00-160.000,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Dongguan Gravel Industries and Enterprise Company Limited

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Hochreines Gold-Sputterzielmaterial maßgeschneiderte Verarbeitung

Hochreines Gold-Sputterzielmaterial maßgeschneiderte Verarbeitung

350.000,00 $
1 Stück(MOQ)
Hochreiner Magnetron-Sputter-Nickelziel

Hochreiner Magnetron-Sputter-Nickelziel

800,00 $
1 Stück(MOQ)
Nickel Ziel 99.99 Hochreines Sputterplattenziel

Nickel Ziel 99.99 Hochreines Sputterplattenziel

1.500,00 $
1 Stück(MOQ)
Hochreines Chrommetall-Sputterziel

Hochreines Chrommetall-Sputterziel

2.500,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Zhengzhou Shibo Nonferrous Metals Products Co., Ltd.

21 J.·5.0
·Hersteller/Werk & Handelsunternehmen
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Molybdänziel für Vakuum-Sputterbeschichtung

Molybdänziel für Vakuum-Sputterbeschichtung

45,00 $
1 kg(MOQ)
Polierter Molybdän-Sputtertarget (99.95% rein)

Polierter Molybdän-Sputtertarget (99.95% rein)

40,00-60,00 $
1 Kg(MOQ)
Mo1 Ziel Molybdän Sputterziel Preis

Mo1 Ziel Molybdän Sputterziel Preis

40,00-88,00 $
1 kg(MOQ)
Molybdän Zielmaterial bester Preis Mo Ziel

Molybdän Zielmaterial bester Preis Mo Ziel

40,00-88,00 $
1 kg(MOQ)
1/2

Shenzhen Silver Technologies Ltd

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Reines Goldziel für Vakuum-Sputterbeschichtung

Reines Goldziel für Vakuum-Sputterbeschichtung

200,00 $
10 g(MOQ)
99.99% Hochwertiger Gold-Sputtertarget aus reinem Gold

99.99% Hochwertiger Gold-Sputtertarget aus reinem Gold

200,00 $
10 g(MOQ)
4n Hochwertiges Sputtertarget aus reinem Gold

4n Hochwertiges Sputtertarget aus reinem Gold

200,00 $
10 g(MOQ)
99.99% Hochwertiges Gold-Sputterziel, Au-Ziel

99.99% Hochwertiges Gold-Sputterziel, Au-Ziel

200,00 $
100 g(MOQ)
1/4

Xiamen HiuGong Machinery Co., Ltd.

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99.99% Galliumoxid-Sputterziel Flachziel Ga2o3 Ziel

99.99% Galliumoxid-Sputterziel Flachziel Ga2o3 Ziel

300,00 $
1 Stück(MOQ)
Magnetron-Sputterziel Zrox Si Cr Nb Cu Cr AG

Magnetron-Sputterziel Zrox Si Cr Nb Cu Cr AG

500,00 $
1 Stück(MOQ)
Rotary-Sputterziel 4n-5n Sial Nicr Znal Znsn Tiox Nbox

Rotary-Sputterziel 4n-5n Sial Nicr Znal Znsn Tiox Nbox

1.000,00 $
1 Stück(MOQ)
Plasmasprühbeschichtungsausrüstung antihaftend verschleißfest Silizium Aluminium Alumina Zirkonia

Plasmasprühbeschichtungsausrüstung antihaftend verschleißfest Silizium Aluminium Alumina Zirkonia

35.000,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Ningbo Galaxy International Trading Co., Ltd.

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99.9% Nickel-Chrom-Aluminium-Vakuumbeschichtung-Sputterziel für PVD-Prozess Chrom-Tantal-Ziel

99.9% Nickel-Chrom-Aluminium-Vakuumbeschichtung-Sputterziel für PVD-Prozess Chrom-Tantal-Ziel

55,00 $
1 Stück(MOQ)
Gute Zähigkeit Heißer Verkauf Chrom-Sputterziel

Gute Zähigkeit Heißer Verkauf Chrom-Sputterziel

30,00-50,00 $
5 Stücke(MOQ)
Hellgrauer hitzebeständiger Zirkonium-Rundtarget für CNC-Maschine

Hellgrauer hitzebeständiger Zirkonium-Rundtarget für CNC-Maschine

6,00 $
5 Stücke(MOQ)
Edelstahl 99.9% Titanröhrensputterziel für Vakuumbeschichtung

Edelstahl 99.9% Titanröhrensputterziel für Vakuumbeschichtung

10,00 $
10 pcs(MOQ)
1/4

Tianjin Rui Yuan Electric Material Co., Ltd.

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Chinesische Fabrik Hochreines 6n Kupfer (Cu) 99.9999% Sputterziel

Chinesische Fabrik Hochreines 6n Kupfer (Cu) 99.9999% Sputterziel

89,00-180,00 $
1.000 kilograms(MOQ)
Ultra-Reinheit 99.9999% 7n5 Kupferziele

Ultra-Reinheit 99.9999% 7n5 Kupferziele

26,99-53,03 $
1.000 kilograms(MOQ)
99.9999% 6n Hochreine Metallkupfer-Sputtertargets Trägerplatte

99.9999% 6n Hochreine Metallkupfer-Sputtertargets Trägerplatte

335,00-350,00 $
100 Kg(MOQ)
C110/C10100/Tu00 5n Hochreiner Sputterzielkupfer 99.999% für optische Beschichtung

C110/C10100/Tu00 5n Hochreiner Sputterzielkupfer 99.999% für optische Beschichtung

79,99 $
50 Kg(MOQ)
1/4

LUOYANG COMBAT TUNGSTEN & MOLYBDENUM MATERIAL CO., LTD.

18 J.·5.0
·Hersteller/Werk & Handelsunternehmen
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Kampf Hochdichte 99.95% Mo Molybdän Sputterziel

Kampf Hochdichte 99.95% Mo Molybdän Sputterziel

55,00-59,00 $
1 Kg(MOQ)
Maßgefertigtes 99.6% Titan Reines Metallmaterial Titan Sputterziel zu verkaufen

Maßgefertigtes 99.6% Titan Reines Metallmaterial Titan Sputterziel zu verkaufen

35,00-40,00 $
5 Kg(MOQ)
Elektronik Nicht-Konzentrat Standard Exportverpackung Reiner Preis pro kg Tantalrohr

Elektronik Nicht-Konzentrat Standard Exportverpackung Reiner Preis pro kg Tantalrohr

588,95-602,26 $
3 Kg(MOQ)
Elektronik Standard Exportverpackung rein zum Verkauf Tantalrohr

Elektronik Standard Exportverpackung rein zum Verkauf Tantalrohr

588,95-602,26 $
3 Kg(MOQ)
1/4

Zhejiang Ruisheng New Materials Co., Ltd.

Handelsunternehmen
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Premium rotierendes Wolframziel für effiziente Sputteranwendungen

Premium rotierendes Wolframziel für effiziente Sputteranwendungen

50,00-270,00 $
10 Kg(MOQ)
Reines Molybdänziel Ultra Dicht 99.9% 100mm Durchmesser Dünnfilm-Beschichtung Optional RoHS

Reines Molybdänziel Ultra Dicht 99.9% 100mm Durchmesser Dünnfilm-Beschichtung Optional RoHS

30,00-60,00 $
10 Kg(MOQ)
Hochreines Molybdänziel für fortschrittliche industrielle Anwendungen

Hochreines Molybdänziel für fortschrittliche industrielle Anwendungen

30,00-60,00 $
1 Kg(MOQ)
Hochreiner polierter Wolfram-Ziel für fortschrittliche Ionenbeschussanwendungen

Hochreiner polierter Wolfram-Ziel für fortschrittliche Ionenbeschussanwendungen

50,00-270,00 $
10 Kg(MOQ)
1/4

Zhonghe Steel (Tianjin) Co., Ltd.

5 J.
·Handelsunternehmen
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Hochreines 99.6% PVD M86 Titanziel Od 98X40mm Ti Ziel Titan

Hochreines 99.6% PVD M86 Titanziel Od 98X40mm Ti Ziel Titan

10,00-25,00 $
1 Stück(MOQ)
Preis für maßgeschneiderte PVD-Titan-Sputterziele

Preis für maßgeschneiderte PVD-Titan-Sputterziele

10,00-25,00 $
1 Stück(MOQ)
Anpassung von Titan-Sputtertargets für spezialisierte Beschichtungsbedürfnisse

Anpassung von Titan-Sputtertargets für spezialisierte Beschichtungsbedürfnisse

10,00-25,00 $
1 Stück(MOQ)
Hochreines 99.99% Titan-Arc-Ziel für Vakuum- / PVD-Beschichtungsmaschine

Hochreines 99.99% Titan-Arc-Ziel für Vakuum- / PVD-Beschichtungsmaschine

10,00-25,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Jiangsu Cicel Vacuum Technology Co., Ltd.

4.5
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Ti-Sputtering-Titan-Ziel Titan-Sputter-Ziel Vakuumbeschichtung Titan-Ziel für PVD-Multi-Arc-Vakuumbeschichtungsmaschine

Ti-Sputtering-Titan-Ziel Titan-Sputter-Ziel Vakuumbeschichtung Titan-Ziel für PVD-Multi-Arc-Vakuumbeschichtungsmaschine

35,00-50,00 $
1 Stück(MOQ)
Dekorative PVD-Beschichtungsmaschinen für Edelstahlbleche

Dekorative PVD-Beschichtungsmaschinen für Edelstahlbleche

45.000,00-150.000,00 $
1 Satz(MOQ)
Hochreine Ti-Sputterdeposition Titanziel Lieferanten Titanziel Hersteller

Hochreine Ti-Sputterdeposition Titanziel Lieferanten Titanziel Hersteller

100,00-300,00 $
1 Stück(MOQ)
China Fabrik Titanziel in guter Qualität Vakuumbeschichtung Titanziel hohe Reinheit Titanziel

China Fabrik Titanziel in guter Qualität Vakuumbeschichtung Titanziel hohe Reinheit Titanziel

100,00-300,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Zhengzhou CY Scientific Instrument Co., Ltd.

13 J.
·Hersteller/Werk & Handelsunternehmen
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DC RF Dual Target Magnetron-Sputterablagerung für Metall- und Oxid-Dünnfilme

DC RF Dual Target Magnetron-Sputterablagerung für Metall- und Oxid-Dünnfilme

21.000,00-26.000,00 $
1 Stück(MOQ)
Duale Zielplasma-Sputterbeschichtungsmaschine für AG Pd Film

Duale Zielplasma-Sputterbeschichtungsmaschine für AG Pd Film

3.000,00-5.000,00 $
1 set(MOQ)
Desktop Edelstahl-Hohlraum Einzelziel Magnetron-Sputter-Beschichtungsgerät

Desktop Edelstahl-Hohlraum Einzelziel Magnetron-Sputter-Beschichtungsgerät

8.730,00-8.900,00 $
1 Stück(MOQ)
Angepasster Magnetron-Sputterbeschichter mit 3 Zielen zur Herstellung von Metall

Angepasster Magnetron-Sputterbeschichter mit 3 Zielen zur Herstellung von Metall

28.500,00-40.100,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Zhuzhou M & J Import and Export Co., Ltd.

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Zementierte Wolfram-Sputterzielscheibe mit hoher Qualität

Zementierte Wolfram-Sputterzielscheibe mit hoher Qualität

5,00-20,00 $
20 Stücke(MOQ)
Reine Wolframlegierung Rundstab Lieferanten

Reine Wolframlegierung Rundstab Lieferanten

10,00-20,00 $
100 Stücke(MOQ)
Wolframplatte mit 99.95% W

Wolframplatte mit 99.95% W

5,00-10,00 $
20 Stücke(MOQ)
1/4

Jinan Hengcheng Aluminum Co., Ltd.

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Aluminiumklumpen Metall Aluminium-Sputterziel für Laborforschung

Aluminiumklumpen Metall Aluminium-Sputterziel für Laborforschung

2.960,00 $
1 Ton(MOQ)
Aluminium Titan Alloy/50 Sputterziel für PVD-Beschichtungsmaschine

Aluminium Titan Alloy/50 Sputterziel für PVD-Beschichtungsmaschine

3.380,00 $
1 Ton(MOQ)
Aluminium Titan Alti Beschichtungsstarget, Titan Aluminium Tial Beschichtungsstarget

Aluminium Titan Alti Beschichtungsstarget, Titan Aluminium Tial Beschichtungsstarget

3.380,00 $
1 Ton(MOQ)
1/4

Inner Mongolia Pusheng Iron &Steel Co., Ltd.

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Rohstoffe Hochrein 99.7% Siliziumblöcke Metallziele Reines Siliziumblock Sputterziele

Rohstoffe Hochrein 99.7% Siliziumblöcke Metallziele Reines Siliziumblock Sputterziele

2.000,00-2.500,00 $
22 Tonnen(MOQ)
Hochreines 99.999% polykristallines Silizium Si Sputterziel Polysilizium

Hochreines 99.999% polykristallines Silizium Si Sputterziel Polysilizium

2.769,00-3.100,00 $
22 Tonnen(MOQ)
1/4

Junsion Precision Hardware Co., Ltd.

7 J.
·Hersteller/Werk & Handelsunternehmen
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Spritzziel Titan Al Cu Chrom Ni Magnetron-Röhrenrotations-PVD-Beschichtung

Spritzziel Titan Al Cu Chrom Ni Magnetron-Röhrenrotations-PVD-Beschichtung

0,50-10,00 $
10 Stücke(MOQ)
1/4

Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd.

9 J.
·Hersteller/Werk
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Al, ITO, Cr Beschichtungssubstrat für thermische Verdampfung und Magnetron-Sputtermaschine

Al, ITO, Cr Beschichtungssubstrat für thermische Verdampfung und Magnetron-Sputtermaschine

30,00-200,00 $
1 Stück(MOQ)
Hochvakuum-Magnetron-Sputterquelle-Ziel für PVD-Beschichtungsprozess

Hochvakuum-Magnetron-Sputterquelle-Ziel für PVD-Beschichtungsprozess

1.800,00-2.000,00 $
1 set(MOQ)
Desktop-Dual-Ziel-Plasmasputterbeschichter für SEM-Proben und Chrom

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7.900,00-8.500,00 $
1 Stück(MOQ)
Einzelziel-Magnetron-Sputtern mit optischer Faserwicklungsfunktion

Einzelziel-Magnetron-Sputtern mit optischer Faserwicklungsfunktion

28.000,00-29.500,00 $
1 set(MOQ)
1/4
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