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etwa PVD-Beschichtung Ziel
  • Technologische Innovation
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PVD-Beschichtung Ziel100+ Fabriken verifiziert

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd.

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99.95% Reines Chrom-Sputterziel Hochreines Chromziel für PVD-Beschichtung

99.95% Reines Chrom-Sputterziel Hochreines Chromziel für PVD-Beschichtung

30,00-1.000,00 $
1 Stück(MOQ)
99.99% Reines Mgf2 Magnesiumfluorid-Ziel für PVD-Beschichtung, maßgeschneiderte Größen verfügbar

99.99% Reines Mgf2 Magnesiumfluorid-Ziel für PVD-Beschichtung, maßgeschneiderte Größen verfügbar

110,00-120,00 $
1 Stück(MOQ)
Xinkang Hochreines Lithium-Kobalt-Oxid Licoo2 Sputterziele für PVD-Beschichtung

Xinkang Hochreines Lithium-Kobalt-Oxid Licoo2 Sputterziele für PVD-Beschichtung

55,00-120,00 $
1 Stück(MOQ)
Hochreine 99.9% Cr2o3 PVD-Ziel für Vakuumabscheidungsmaterialien

Hochreine 99.9% Cr2o3 PVD-Ziel für Vakuumabscheidungsmaterialien

110,00-120,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Sid Metal Co., Ltd

13 J.
·Hersteller/Werk & Handelsunternehmen
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Zirkonium-Zielröhre Zr702 Zirkonium-Ziel für PVD-Beschichtung

Zirkonium-Zielröhre Zr702 Zirkonium-Ziel für PVD-Beschichtung

1,00-3.000,00 $
1 Stück(MOQ)
Fabrik Zirkonium Zr702 Zr705 Sputterfolie Zielscheibe für PVD-Beschichtung Zirkoniumscheibe

Fabrik Zirkonium Zr702 Zr705 Sputterfolie Zielscheibe für PVD-Beschichtung Zirkoniumscheibe

1,00-3.000,00 $
1 Stück(MOQ)
Hochwertige Zirkonium Zr702 Zr705 Sputterfolienzielscheibe für PVD-Beschichtung Zirkoniumscheibe

Hochwertige Zirkonium Zr702 Zr705 Sputterfolienzielscheibe für PVD-Beschichtung Zirkoniumscheibe

1,00-3.000,00 $
1 Stück(MOQ)
Zirkonium Zr702 Zr705 Sputterfolie Zielscheibe für PVD-Beschichtung Zirkoniumscheibe

Zirkonium Zr702 Zr705 Sputterfolie Zielscheibe für PVD-Beschichtung Zirkoniumscheibe

1,00-3.000,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Beenine Shanke Technology Co., Ltd.

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Chromium Cr Planar Tubular Sputterziel für PVD-Beschichtung zu einem günstigen Preis

Chromium Cr Planar Tubular Sputterziel für PVD-Beschichtung zu einem günstigen Preis

50,00-300,00 $
1 Stück(MOQ)
Nickel Multi-PCS Konstruktion Sputterziel 99.99% Reines China PVD Beschichtung

Nickel Multi-PCS Konstruktion Sputterziel 99.99% Reines China PVD Beschichtung

300,00-1.000,00 $
1 Stück(MOQ)
Hochwertige Titan Ti Beschichtungssputterzielscheibe für PVD-Beschichtung

Hochwertige Titan Ti Beschichtungssputterzielscheibe für PVD-Beschichtung

65,00-100,00 $
1 Stück(MOQ)
4n Hochreines Tial Legierung Titan Aluminium Sputterziel PVD Beschichtung

4n Hochreines Tial Legierung Titan Aluminium Sputterziel PVD Beschichtung

80,00-500,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Dongguan Gravel Industries and Enterprise Company Limited

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Silizium-Rundziel hohe Reinheit für Vakuum/PVD-Beschichtung

Silizium-Rundziel hohe Reinheit für Vakuum/PVD-Beschichtung

6.200,00 $
1 Stück(MOQ)
Hochreiner Chromtarget für Vakuum/PVD-Beschichtung

Hochreiner Chromtarget für Vakuum/PVD-Beschichtung

1.000,00 $
1 Stück(MOQ)
99.99% Hochreines Gold-Zinn-Legierung Sputterziel

99.99% Hochreines Gold-Zinn-Legierung Sputterziel

265.000,00 $
10 Stücke(MOQ)
Hochreines Tantal-Vakuum-Magnetron-Sputterziel PVD-Beschichtung

Hochreines Tantal-Vakuum-Magnetron-Sputterziel PVD-Beschichtung

3.600,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Zhonghe Steel (Tianjin) Co., Ltd.

5 J.
·Handelsunternehmen
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Hochreines 99.99% Titan-Arc-Ziel für Vakuum- / PVD-Beschichtungsmaschine

Hochreines 99.99% Titan-Arc-Ziel für Vakuum- / PVD-Beschichtungsmaschine

10,00-25,00 $
1 Stück(MOQ)
Hochreines Titanziel für PVD-Beschichtungsmaschine

Hochreines Titanziel für PVD-Beschichtungsmaschine

10,00-25,00 $
1 Stück(MOQ)
Titan-Aluminium-Legierung PVD-Ziele Titan-Sputterziele Tial-Legierungsziel für Beschichtungen

Titan-Aluminium-Legierung PVD-Ziele Titan-Sputterziele Tial-Legierungsziel für Beschichtungen

10,00-25,00 $
1 Stück(MOQ)
Preis für maßgeschneiderte PVD-Titan-Sputterziele

Preis für maßgeschneiderte PVD-Titan-Sputterziele

10,00-25,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Xiamen Tmax Battery Equipments Limited

5.0
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TMAXCN Marke 3n/4n/4n5 PVD-Beschichtungsmaterialien Wti Wolfram Titanlegierung Sputterziel

TMAXCN Marke 3n/4n/4n5 PVD-Beschichtungsmaterialien Wti Wolfram Titanlegierung Sputterziel

78,00-90,00 $
1 Stück(MOQ)
TMAXCN Marke Hochreines 3n5 Chrom-Chromium/Cr Beschichtungssputterziel für PVD-Beschichtung

TMAXCN Marke Hochreines 3n5 Chrom-Chromium/Cr Beschichtungssputterziel für PVD-Beschichtung

78,00-90,00 $
1 Stück(MOQ)
TMAXCN Marke Hochrein Hafnium/Hf PVD Magnetron-Sputterziel für Vakuumbeschichtung

TMAXCN Marke Hochrein Hafnium/Hf PVD Magnetron-Sputterziel für Vakuumbeschichtung

78,00-90,00 $
1 Stück(MOQ)
TMAXCN Marke Hochreines 99.95% Chrom Chrom/Cr PVD Magnetron-Sputterziel für Vakuumbeschichtung

TMAXCN Marke Hochreines 99.95% Chrom Chrom/Cr PVD Magnetron-Sputterziel für Vakuumbeschichtung

78,00-90,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Lonwin Industry Group Limited

5.0
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99.99% Wti Wolfram Titan Legierung Ziel für PVD Beschichtung

99.99% Wti Wolfram Titan Legierung Ziel für PVD Beschichtung

17,00-55,00 $
1 Kg(MOQ)
Hochreines 99.99% ITO Indium-Zinn-Oxid Sputterziel für PVD-Beschichtung

Hochreines 99.99% ITO Indium-Zinn-Oxid Sputterziel für PVD-Beschichtung

17,00-55,00 $
1 Kg(MOQ)
Hochreine 99.9% Alcu Aluminium-Kupfer-Sputtertargets für PVD-Beschichtung

Hochreine 99.9% Alcu Aluminium-Kupfer-Sputtertargets für PVD-Beschichtung

17,00-55,00 $
1 Kg(MOQ)
Hochreines 3n Ti-Si Titan-Silizium-Legierung Sputterziel für PVD-Beschichtung

Hochreines 3n Ti-Si Titan-Silizium-Legierung Sputterziel für PVD-Beschichtung

17,00-55,00 $
1 Kg(MOQ)
1/4

SUZHOU TECHNO-TEC PHOTOELECTRIC MATERIALS CO., LTD

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SiO2 Sprühkeramisches Ziel Siliziumoxid Sprühkeramisches Ziel für PVD-Film-Beschichtung

SiO2 Sprühkeramisches Ziel Siliziumoxid Sprühkeramisches Ziel für PVD-Film-Beschichtung

25,00-100,00 $
1 Kg(MOQ)
TiN-Beschichtungskeramikkörper für optische Dünnfilm-Beschichtung/PVD-Film-Beschichtung

TiN-Beschichtungskeramikkörper für optische Dünnfilm-Beschichtung/PVD-Film-Beschichtung

25,00-100,00 $
1 Kg(MOQ)
Mn Ziel Mangan Sputterziel für optische Dünnfilm-Beschichtung/PVD-Film-Beschichtung

Mn Ziel Mangan Sputterziel für optische Dünnfilm-Beschichtung/PVD-Film-Beschichtung

500,00 $
1 Kg(MOQ)
Metall-Sputtern Legierungs-Sputtern Keramik-Sputtern Ziel

Metall-Sputtern Legierungs-Sputtern Keramik-Sputtern Ziel

35,00 $
1 Kg(MOQ)
1/4

Shanghai Tankii Alloy Material Co., Ltd.

5.0
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Am häufigsten verwendete Art der PVD-Beschichtung: Plattenart-Chrom-Sputterziel

Am häufigsten verwendete Art der PVD-Beschichtung: Plattenart-Chrom-Sputterziel

60,00-150,00 $
1 Stück(MOQ)
Niedriger Preis maßgeschneiderter Hersteller hochreines reines Chrommetall Cr Sputterziel für PVD-Beschichtung

Niedriger Preis maßgeschneiderter Hersteller hochreines reines Chrommetall Cr Sputterziel für PVD-Beschichtung

60,00-150,00 $
1 Stück(MOQ)
Fabrikverkauf Chrom-Sputterziel zur Herstellung von dünnen filmresistiven Dehnungsmessstreifen

Fabrikverkauf Chrom-Sputterziel zur Herstellung von dünnen filmresistiven Dehnungsmessstreifen

60,00-150,00 $
1 Stück(MOQ)
Fabrikpreis Verkauf 99.999% Chrom Sputterziel Cr

Fabrikpreis Verkauf 99.999% Chrom Sputterziel Cr

60,00-150,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Rheniumet Ltd.

17 J.
·Handelsunternehmen
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Hochreines quadratisches Rutheniumziel Sputterziel für PVD-Beschichtung China Hersteller Lieferung

Hochreines quadratisches Rutheniumziel Sputterziel für PVD-Beschichtung China Hersteller Lieferung

2.000,00-30.000,00 $
1 Stück(MOQ)
Hochreines Ru-Ziel Sputterziel für PVD-Beschichtung China Hersteller Lieferung

Hochreines Ru-Ziel Sputterziel für PVD-Beschichtung China Hersteller Lieferung

700,00 $
1 Stück(MOQ)
Hochreines 99.99% Re Rhenium-Sputterziel, Re-Metall-Rundziel

Hochreines 99.99% Re Rhenium-Sputterziel, Re-Metall-Rundziel

1.000,00-4.000,00 $
1 Stück(MOQ)
China Hersteller Tantalplatte Tantalblech Tantalzielpreis

China Hersteller Tantalplatte Tantalblech Tantalzielpreis

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
1/4

Xiangtan Hondson Coating Technology Co., Ltd.

6 J.
·Hersteller/Werk & Handelsunternehmen
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Zylindrischer Magnetron-Sputtertarget für PVD-Vakuumbeschichtung Titanrohr Metallrohre Rohmaterialien Beschichtung Kathoden

Zylindrischer Magnetron-Sputtertarget für PVD-Vakuumbeschichtung Titanrohr Metallrohre Rohmaterialien Beschichtung Kathoden

800,00-1.500,00 $
1 Stück(MOQ)
Bogenabscheidung Kathodenbogen-Ionenbeschichtung Beschichtungsgerät Ziel

Bogenabscheidung Kathodenbogen-Ionenbeschichtung Beschichtungsgerät Ziel

2.500,00-2.600,00 $
3 sets(MOQ)
Maßgeschneiderter Hochreiner Titanblock Vakuum-Titanmaterial Multi-Bogen-Ionenbeschichtungsmaterial Metallziel

Maßgeschneiderter Hochreiner Titanblock Vakuum-Titanmaterial Multi-Bogen-Ionenbeschichtungsmaterial Metallziel

500,00-1.000,00 $
1 Stück(MOQ)
Magnetronpistole mit kreisförmigem Planarziel für PVD-Vakuumbeschichtung

Magnetronpistole mit kreisförmigem Planarziel für PVD-Vakuumbeschichtung

11.900,00-12.000,00 $
2 sets(MOQ)
1/4

Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd.

9 J.
·Hersteller/Werk
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Hochvakuum-Magnetron-Sputterquelle-Ziel für PVD-Beschichtungsprozess

Hochvakuum-Magnetron-Sputterquelle-Ziel für PVD-Beschichtungsprozess

1.800,00-2.000,00 $
1 set(MOQ)
Dreifach-Sputterziel mit DC-Strom PVD-Magnetron-Sputterbeschichtungsmaschine

Dreifach-Sputterziel mit DC-Strom PVD-Magnetron-Sputterbeschichtungsmaschine

38.000,00-39.500,00 $
1 set(MOQ)
Pulver Edelstahl Triple Target Plasma Beschichter mit 150W DC Hochspannungs-Stromversorgung für chirurgische Instrumente

Pulver Edelstahl Triple Target Plasma Beschichter mit 150W DC Hochspannungs-Stromversorgung für chirurgische Instrumente

12.000,00-13.000,00 $
1 Stück(MOQ)
Desktop-Dual-Ziel-Plasmasputterbeschichter für SEM-Proben und Chrom

Desktop-Dual-Ziel-Plasmasputterbeschichter für SEM-Proben und Chrom

7.900,00-8.500,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Ningbo Galaxy International Trading Co., Ltd.

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99.9% Nickel-Chrom-Aluminium-Vakuumbeschichtung-Sputterziel für PVD-Prozess Chrom-Tantal-Ziel

99.9% Nickel-Chrom-Aluminium-Vakuumbeschichtung-Sputterziel für PVD-Prozess Chrom-Tantal-Ziel

55,00 $
1 Stück(MOQ)
Maßgefertigtes 99.9% reines Titan Rundziel für Vakuumbeschichtung

Maßgefertigtes 99.9% reines Titan Rundziel für Vakuumbeschichtung

30,00 $
1 Stück(MOQ)
Höhere Reinheit Titan Rundziel Dí a 100*40

Höhere Reinheit Titan Rundziel Dí a 100*40

60,00 $
1 Stück(MOQ)
Farbige Duktilität Wärmebeständigkeit Zirkonium Rundziel

Farbige Duktilität Wärmebeständigkeit Zirkonium Rundziel

15,00 $
5 Stücke(MOQ)
1/4

Jiangsu Cicel Vacuum Technology Co., Ltd.

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Hochreine Sputter-Titanziele Preis für PVD-Beschichtung/Ti Sputter-Titanziel runde Titanziele zum Verkauf

Hochreine Sputter-Titanziele Preis für PVD-Beschichtung/Ti Sputter-Titanziel runde Titanziele zum Verkauf

80,00-300,00 $
1 Stück(MOQ)
Ti-Sputtering-Titan-Ziel Titan-Sputter-Ziel Vakuumbeschichtung Titan-Ziel für PVD-Multi-Arc-Vakuumbeschichtungsmaschine

Ti-Sputtering-Titan-Ziel Titan-Sputter-Ziel Vakuumbeschichtung Titan-Ziel für PVD-Multi-Arc-Vakuumbeschichtungsmaschine

35,00-50,00 $
1 Stück(MOQ)
Titan-Aluminium-Legierungs-PVD-Ziele Titan-Sputterziele Tial-Legierungsziel für Beschichtungen

Titan-Aluminium-Legierungs-PVD-Ziele Titan-Sputterziele Tial-Legierungsziel für Beschichtungen

80,00-300,00 $
1 Stück(MOQ)
Ti-Sputtering-Titan-Ziel Titan-Sputter-Ziel Vakuumbeschichtung Titan-Ziel

Ti-Sputtering-Titan-Ziel Titan-Sputter-Ziel Vakuumbeschichtung Titan-Ziel

100,00-300,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Shaanxi Mingsheng Guangpu Metal Materials Co., Ltd.

3 J.·5.0
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Chrom-Sputterziel für Präzisionselektronik und Formen

Chrom-Sputterziel für Präzisionselektronik und Formen

90,00-110,00 $
2 Stücke(MOQ)
Fabrikdirekt Hochrein Zirkoniumziel für optische Anwendungen

Fabrikdirekt Hochrein Zirkoniumziel für optische Anwendungen

90,00-99,00 $
10 Kg(MOQ)
Hochreines Molybdänfolie für Halbleiter-Sputtern (PVD) Mo-Folie anpassbare Dicke 0.01mm-0.2mm

Hochreines Molybdänfolie für Halbleiter-Sputtern (PVD) Mo-Folie anpassbare Dicke 0.01mm-0.2mm

200,00-450,00 $
50 Kg(MOQ)
Hochreines Nickelboot 99.6% Ni hitzebeständiger Nickel-Kruge für Labors, Halbleiter, Metallguss

Hochreines Nickelboot 99.6% Ni hitzebeständiger Nickel-Kruge für Labors, Halbleiter, Metallguss

22,00-26,00 $
50 Kg(MOQ)
1/4

Junsion Precision Hardware Co., Ltd.

7 J.
·Hersteller/Werk & Handelsunternehmen
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Spritzziel Titan Al Cu Chrom Ni Magnetron-Röhrenrotations-PVD-Beschichtung

Spritzziel Titan Al Cu Chrom Ni Magnetron-Röhrenrotations-PVD-Beschichtung

0,50-10,00 $
10 Stücke(MOQ)
Eloxierte Aluminium CNC-Drehteile Präzisionsmaschinen

Eloxierte Aluminium CNC-Drehteile Präzisionsmaschinen

0,50-10,00 $
10 Stücke(MOQ)
1/4

Shenzhen Silver Technologies Ltd

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Reines Goldziel für Vakuum-Sputterbeschichtung

Reines Goldziel für Vakuum-Sputterbeschichtung

200,00 $
10 g(MOQ)
1/4

Jinan Hengcheng Aluminum Co., Ltd.

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Aluminium Titan Alloy/50 Sputterziel für PVD-Beschichtungsmaschine

Aluminium Titan Alloy/50 Sputterziel für PVD-Beschichtungsmaschine

3.380,00 $
1 Ton(MOQ)
1/4

Xiamen Wintrustek Advanced Materials Co., Ltd.

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Lanthanhexaborid Lab6 Keramiksputterziel für PVD-Dünnfilm-Beschichtung

Lanthanhexaborid Lab6 Keramiksputterziel für PVD-Dünnfilm-Beschichtung

50,00-200,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Ningbo Danko Vacuum Technology Co., Ltd.

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Titanium Ziel Hersteller Lieferant

Titanium Ziel Hersteller Lieferant

30,00-100,00 $
1 Stück(MOQ)
Hersteller PVD-Beschichtungsmaschine für Wasserhahn Möbel Edelstahl

Hersteller PVD-Beschichtungsmaschine für Wasserhahn Möbel Edelstahl

15.000,00-150.000,00 $
1 Stück(MOQ)
Edelstahlplatte Möbel Geschirr Besteck Geschirr große PVD Vakuumbeschichtungsmaschine

Edelstahlplatte Möbel Geschirr Besteck Geschirr große PVD Vakuumbeschichtungsmaschine

26.000,00-160.000,00 $
1 Stück(MOQ)
China Beste Preis Horizontale PVD-Beschichtungsmaschine Beschichtungsausrüstung Beschichtungsstraße für Armreifen

China Beste Preis Horizontale PVD-Beschichtungsmaschine Beschichtungsausrüstung Beschichtungsstraße für Armreifen

23.000,00-89.000,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Zhejiang Ruisheng New Materials Co., Ltd.

Handelsunternehmen
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Premium rotierendes Wolframziel für effiziente Sputteranwendungen

Premium rotierendes Wolframziel für effiziente Sputteranwendungen

50,00-270,00 $
10 Kg(MOQ)
Hochreines Molybdänziel für fortschrittliche industrielle Anwendungen

Hochreines Molybdänziel für fortschrittliche industrielle Anwendungen

30,00-60,00 $
1 Kg(MOQ)
Nanograde geschmiedete Molybdän-Zielscheibe für gleichmäßige PVD-Beschichtung

Nanograde geschmiedete Molybdän-Zielscheibe für gleichmäßige PVD-Beschichtung

30,00-60,00 $
1 Kg(MOQ)
Anpassbarer Molybdän-Sputtertarget mit hoher Dichte für Halbleiter- und Glasbeschichtungsanwendungen

Anpassbarer Molybdän-Sputtertarget mit hoher Dichte für Halbleiter- und Glasbeschichtungsanwendungen

30,00-80,00 $
10 Kg(MOQ)
1/4

Shenzhen Hongchen New Materials Co., Ltd

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Fabrik PVD Beschichtung Cu Platte Multi Arc Sputtering Target Kupfer Rotary Semiconductor

Fabrik PVD Beschichtung Cu Platte Multi Arc Sputtering Target Kupfer Rotary Semiconductor

10,00-15,00 $
1 Kg(MOQ)
99,999% Titanium Target Ti Target für PVD-Beschichtungsmaschine

99,999% Titanium Target Ti Target für PVD-Beschichtungsmaschine

10,00-15,00 $
1 Kg(MOQ)
China Cu High Purity Kupferlegierung Sputtering Ziel für PVD Beschichtung

China Cu High Purity Kupferlegierung Sputtering Ziel für PVD Beschichtung

10,00-15,00 $
1 Kg(MOQ)
Customization Chrom Multi Arc Target Material Magnetron Sputtering für PVD-Beschichtung

Customization Chrom Multi Arc Target Material Magnetron Sputtering für PVD-Beschichtung

10,00-15,00 $
1 Kg(MOQ)

Zhengzhou CY Scientific Instrument Co., Ltd.

13 J.
·Hersteller/Werk & Handelsunternehmen
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DC RF Dual Target Magnetron-Sputterablagerung für Metall- und Oxid-Dünnfilme

DC RF Dual Target Magnetron-Sputterablagerung für Metall- und Oxid-Dünnfilme

21.000,00-26.000,00 $
1 Stück(MOQ)
Desktop Edelstahl-Hohlraum Einzelziel Magnetron-Sputter-Beschichtungsgerät

Desktop Edelstahl-Hohlraum Einzelziel Magnetron-Sputter-Beschichtungsgerät

8.730,00-8.900,00 $
1 Stück(MOQ)
Vier Target-Magnetron-Sputterbeschichter mit Lade-Lock-Kammer für keramische Dünnfilme

Vier Target-Magnetron-Sputterbeschichter mit Lade-Lock-Kammer für keramische Dünnfilme

28.500,00-40.100,00 $
1 Stück(MOQ)
DC-Magnetron-Sputterbeschichter mit Edelstahlgehäuse für ITO-Film

DC-Magnetron-Sputterbeschichter mit Edelstahlgehäuse für ITO-Film

8.730,00-8.900,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Uv Tech Material Ltd

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Uvtm Fabrik Sputtering Ziel Hersteller in China 18 Jahre Erfahrung Für Msvd und PVD Vakuum kontinuierliche Sputter Beschichtung Produktionslinie Vicky 13249153016

Uvtm Fabrik Sputtering Ziel Hersteller in China 18 Jahre Erfahrung Für Msvd und PVD Vakuum kontinuierliche Sputter Beschichtung Produktionslinie Vicky 13249153016

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
Drehbares Tiox Sial Silber Sputtering Target Cathode Tube Hohe Qualität Reinheit für PVD Nano Dünnschichtmaterial

Drehbares Tiox Sial Silber Sputtering Target Cathode Tube Hohe Qualität Reinheit für PVD Nano Dünnschichtmaterial

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
PVD Target Aluminium Al zylindrisch drehbarer Sputter Target 99,999% Reinheit 2N-5N verfügbar

PVD Target Aluminium Al zylindrisch drehbarer Sputter Target 99,999% Reinheit 2N-5N verfügbar

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
Chrom Cr PVD Zielplanar-Bonding auf Cooper-Trägerplatte Oder Tube

Chrom Cr PVD Zielplanar-Bonding auf Cooper-Trägerplatte Oder Tube

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)

Shanghai Zenkaah New Materials Technology Co., Ltd.

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Hochreines Aluminium-Target Al, Aluminiumoxid-Target-Material, PVD-Beschichtung (Physical Vapor Deposition), Magnetron Sputtering Aluminium Target und Schweißen

Hochreines Aluminium-Target Al, Aluminiumoxid-Target-Material, PVD-Beschichtung (Physical Vapor Deposition), Magnetron Sputtering Aluminium Target und Schweißen

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
Hochreines Metall Cr (Chrom) Target für PVD Magnetron Sputtering Vakuumbeschichtung, anpassbare Partikelgröße, mit Trägerplatte Bonding Service

Hochreines Metall Cr (Chrom) Target für PVD Magnetron Sputtering Vakuumbeschichtung, anpassbare Partikelgröße, mit Trägerplatte Bonding Service

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
Hochreines IGZO (Indium Gallium Zinkoxid) Zielmaterial für PVD-Magnetron-Sputtering Vakuumbeschichtung, Forschung und Experimentalmaterial

Hochreines IGZO (Indium Gallium Zinkoxid) Zielmaterial für PVD-Magnetron-Sputtering Vakuumbeschichtung, Forschung und Experimentalmaterial

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
Hochreines PVD-Silizium-Zielmaterial (Physical Vapor Deposition) für Magnetron-Sputterbeschichtung, Siliziumdioxid-Zielmaterial (SiO2)

Hochreines PVD-Silizium-Zielmaterial (Physical Vapor Deposition) für Magnetron-Sputterbeschichtung, Siliziumdioxid-Zielmaterial (SiO2)

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)

Suzhou Zhongzhina Semiconductor Technology Co., Ltd.

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Hochreines HF-Hafniumziel, HfO2 Hafniumdioxid-Ziel, Hfzro2 Ziel, PVD-Magnetron-Sputtering-Ziel für die Vakuumbeschichtung

Hochreines HF-Hafniumziel, HfO2 Hafniumdioxid-Ziel, Hfzro2 Ziel, PVD-Magnetron-Sputtering-Ziel für die Vakuumbeschichtung

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
Hochreines Edelmetall Ruthenium Target für Magnetron Sputtering Coating Deposition, PVD Coating Material mit verdampften Partikeln

Hochreines Edelmetall Ruthenium Target für Magnetron Sputtering Coating Deposition, PVD Coating Material mit verdampften Partikeln

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
Hochreines Metall Cr (Chrom) Target für PVD Magnetron Sputtering Vakuumbeschichtung, anpassbare Partikelgröße, mit Trägerplatte Bonding Service

Hochreines Metall Cr (Chrom) Target für PVD Magnetron Sputtering Vakuumbeschichtung, anpassbare Partikelgröße, mit Trägerplatte Bonding Service

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
Hochreines Edelmetall-Osmium-Target, Magnetron Sputtering-Beschichtung Osmium-Target, Osmium-Target (Osmium), Osmium PVD-Beschichtung

Hochreines Edelmetall-Osmium-Target, Magnetron Sputtering-Beschichtung Osmium-Target, Osmium-Target (Osmium), Osmium PVD-Beschichtung

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)

Guangdong Huicheng Vacuum Technology Co., Ltd.

20 J.
·Hersteller/Werk & Handelsunternehmen
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PVD-Vakuumbeschichtungsmaschine Zielanzeige-Rohrfilter Zirkonium-Zielrohr

PVD-Vakuumbeschichtungsmaschine Zielanzeige-Rohrfilter Zirkonium-Zielrohr

50,00 $
1 Stück(MOQ)
Edelstahl Schmuck Magnetron-Sputter PVD Goldbeschichtungsmaschine

Edelstahl Schmuck Magnetron-Sputter PVD Goldbeschichtungsmaschine

60.000,00-300.000,00 $
1 Satz(MOQ)
Edelstahl Wasserhahn/Dusche Halter Türgriffe PVD Metallbeschichtungsmaschine

Edelstahl Wasserhahn/Dusche Halter Türgriffe PVD Metallbeschichtungsmaschine

80.000,00 $
1 Satz(MOQ)
Hcvac Kunststoff Aluminium Verdampfung PVD Vakuum Metallisierungsbeschichtungsmaschine

Hcvac Kunststoff Aluminium Verdampfung PVD Vakuum Metallisierungsbeschichtungsmaschine

60.000,00-300.000,00 $
1 Satz(MOQ)
1/4

Sino Resources Import & Export (Liao Ning) Co., Ltd.

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Hip-Chrom-Sputterziel für dekorative PVD-Beschichtung

Hip-Chrom-Sputterziel für dekorative PVD-Beschichtung

70,00-100,00 $
1 Stück(MOQ)
Hip Chrome Sputtering Target für PVD-Beschichtung 99,5 Cr Target

Hip Chrome Sputtering Target für PVD-Beschichtung 99,5 Cr Target

60,00-90,00 $
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Yangzhou Jingge Semiconductor Technology Co., Ltd.

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6N Poly Silicon Target/Mono Silicon Target/Sputtering Silicon Target/Round Silicon for PVD-Beschichtung

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10,00-99,00 $
1 Stück(MOQ)
6N Poly Silicon Target/Mono Silicon Target/Sputtering Silicon Target/Round Silicon for PVD-Beschichtung

6N Poly Silicon Target/Mono Silicon Target/Sputtering Silicon Target/Round Silicon for PVD-Beschichtung

10,00-99,00 $
1 Stück(MOQ)

Inner Mongolia Rongtai Rhenium New Materials Co., Ltd.

5.0
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Hochreines Gadolinium-Metall-Sputterziel für PVD-Anwendungen

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55,00-85,00 $
1 Stück(MOQ)
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